[發明專利]一種曝光設備

有效

• 申請號: 201510475409.3
• 申請日: 2015-08-06
• 公開（公告）號: CN105093848B
• 公開（公告）日: 2018-01-16
• 發明（設計）人: 張鵬飛
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304
• 代理人: 孫偉峰,武岑飛

1.一種曝光設備，其特征在于，由光照射系統(10)、光優化系統(20)、球面聚光鏡(30)、微位移調整系統(40)、光反射系統(50)組成；

所述光照射系統(10)用于照射出光線；

所述光優化系統(20)用于接收所述光線，并對所述光線進行光線均勻化；

所述球面聚光鏡(30)用于接收經光線均勻化后的光線，并對經光線均勻化后的光線進行會聚，并將會聚后的光線反射至所述光反射系統(50)；

所述微位移調整系統(40)用于對所述球面聚光鏡(30)的邊緣區域在預定區域內進行微位移調整，從而對處于所述球面聚光鏡(30)的邊緣區域的光線進行光路調整；

所述光反射系統(50)用于接收經會聚后的光線，并將經會聚后的光線反射至曝光面(60)。

2.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述微位移調整系統(40)為壓電陶瓷微位移驅動器；其中，在所述球面聚光鏡(30)的各角落處及各邊中心位置處均設置壓電陶瓷微位移驅動器(40)。

3.根據權利要求2所述的曝光設備，其特征在于，所述球面聚光鏡(30)的各角落處的壓電陶瓷微位移驅動器(40)驅動所述球面聚光鏡(30)的各角落在具有預定半徑的圓形區域內微位移移動。

4.根據權利要求3所述的曝光設備，其特征在于，所述預定半徑不大于1.4μm。

5.根據權利要求2所述的曝光設備，其特征在于，所述球面聚光鏡(30)的各邊中心位置處的壓電陶瓷微位移驅動器(40)驅動所述球面聚光鏡(30)的各邊在具有預定距離范圍的直線區域內微位移移動。

6.根據權利要求5所述的曝光設備，其特征在于，所述預定距離范圍不小于-1.4μm且不大于1.4μm。

7.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述光照射系統(10)包括：

聚光罩(11)，其截面形狀呈拋物線形；

光源(12)，設置于所述拋物線的頂點處；其中，所述聚光罩(11)對所述光源(12)產生的光線進行會聚；

第一反射鏡(13)，用于將經所述聚光罩(11)會聚后的光線反射至所述光優化系統(20)。

8.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述光優化系統(20)包括：

控制開關(21)，用于根據控制指令打開或關閉；

集光器(22)，用于當所述控制開關(21)打開時，對經由處于打開狀態的所述控制開關(21)通過的光線進行光線均勻化。

9.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述光反射系統(50)包括：

第二反射鏡(51)，用于接收經所述球面聚光鏡(30)會聚后的光線，并將經會聚后的光線反射至曝光面(60)；

照度計(52)，設置于所述第二反射鏡(51)之下，用于量測照射至所述第二反射鏡(51)的光線的照度。