[發明專利]圖案缺陷檢查方法

有效

• 申請號: 201510435019.3
• 申請日: 2015-07-22
• 公開（公告）號: CN105301015B
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發明（設計）人: 黃映珉;金相潤;裵貞奉;樸喜載
• 申請（專利權）人: 株式會社SNU精密
• 主分類號: G01N21/956
• 分類號: G01N21/956
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 徐偉

本發明涉及一種圖案缺陷檢查方法，該圖案缺陷檢查方法利用對主板通過光學系統多次拍攝后進行結合而成的主圖像，能夠容易地檢查基板上形成的缺陷，其中包括：準備步驟，準備不存在缺陷的主板；登記步驟，利用光學系統，對所述主板的彼此不同的區域進行多次拍攝并進行結合后，登記為主圖像；拍攝步驟，對在檢查對象基板中推定為存在缺陷的檢查區域，通過所述光學系統，以與所述主圖像相同的倍率進行拍攝后，登記為檢查圖像；及匹配步驟，對所述主圖像與所述檢查圖像進行匹配后，檢索所述檢查區域內的缺陷。

技術領域

本發明涉及一種圖案缺陷檢查方法，更為詳細地涉及一種能夠在大面積的基板上形成的圖案中容易地檢查缺陷的存在與否及缺陷位置的圖案缺陷檢查方法。

背景技術

設備用基板的表面有時會有將單位圖案周期性地排列以形成重復圖案的情況。此類的單位圖案本來是有規則地排列的，但是有規則地排列的圖案有時會包括無意中產生的具有另一規則性的缺陷(defect)。

當產生此類缺陷時，此類缺陷在后續工藝中會被轉印到設備用基板上形成的圖案上，從而最終會產生設備用基板不良的問題，因此有必要事先檢查重復圖案是否產生有缺陷。

通過檢查每個圖案的形狀的方法來檢查此類缺陷，在時間和成本的角度來看幾乎不可能。因此通過在整個區域上具有周期性的其他圖案中檢查沒有周期性的部分，并且將沒有周期性的部分確定為缺陷的方式來進行檢查。

另外，最近的設備用基板具有大面積化的傾向，而在這種大面積化的基板表面上排列的整個圖案區域中，難以執行對是否存在缺陷的精密的檢查。因此對整個圖案區域拍攝低倍率圖像并確認推定為缺陷的圖案，即沒有周期性的圖案的大概位置，并通過高倍率的光學系統，對包括該沒有周期性的圖案的區域進行圖像拍攝，并進行沒有周期性的圖案是否為缺陷的分析過程，從而判斷缺陷的產生與否。

即，對整個基板的圖案形狀進行低倍率拍攝，并且確認是否存在沒有周期性的圖案后，當存在沒有周期性的圖案時，對該沒有周期性的圖案通過高倍率的光學系統進行放大拍攝，從而判斷該沒有周期性的圖案是否為缺陷。

然而，在所述方法中，在通過高倍率光學系統拍攝的部分中有時會產生只拍攝到有周期性圖案的一部分的情況，從而會產生將其認為沒有周期性的圖案的問題。而且，在通過高倍率光學系統拍攝的部分的圖案中無法確認周期性，從而會產生無法確認通過高倍率光學系統拍攝的部分在基板中相當于哪一部分的問題。

當產生此類問題時，嘗試了通過高倍率光學系統重新拍攝先前所拍攝部分的周圍區域后進行結合，從而消除所述的問題，但是進一步產生在缺陷的分析過程中所需的時間顯著增加的問題。

發明內容

因此，本發明是為了解決所述的以往的問題而提出的，其目的是提供一種圖案缺陷檢查方法，該圖案缺陷檢查方法通過對檢查圖像和已登記的主圖像推定進行匹配，從而能夠容易地檢查基板上形成的缺陷。其中，所述主圖像為通過用于檢查基板的光學系統來登記的，所述檢查圖像為通過光學系統對檢查對象基板中推定為存在缺陷的區域進行拍攝而形成的圖像。

所述目的通過本發明的圖案缺陷檢查方法來實現，該圖案缺陷檢查方法的特征在于，包括：準備步驟，準備不存在缺陷的主板；登記步驟，利用光學系統，對所述主板的彼此不同的區域進行多次拍攝并進行結合后，登記為主圖像；拍攝步驟，對在檢查對象基板中推定為存在缺陷(defect)的檢查區域，通過所述光學系統以與所述主圖像相同的倍率進行拍攝后，登記為檢查圖像；及匹配步驟，對所述主圖像與所述檢查圖像進行匹配后，檢索所述檢查區域內的缺陷(defect)。

在此，優選所述登記步驟及所述拍攝步驟分別進行多次，所述登記步驟在所述拍攝步驟之前至少進行一次。

此外，優選所述匹配步驟通過將所述主圖像上的與所述檢查圖像對應的區域取代為所述檢查圖像，從而檢索所述缺陷。