[發明專利]圖案缺陷檢查方法有效
| 申請號： | 201510435019.3 | 申請日： | 2015-07-22 |
| 公開（公告）號： | CN105301015B | 公開（公告）日： | 2018-06-01 |
| 發明（設計）人： | 黃映珉;金相潤;裵貞奉;樸喜載 | 申請（專利權）人： | 株式會社SNU精密 |
| 主分類號： | G01N21/956 | 分類號： | G01N21/956 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 徐偉 |
| 地址： | 韓國忠*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學系統 圖案缺陷 主圖像 主板 拍攝 檢查區域 檢查圖像 檢查對象 檢查基板 匹配步驟 檢查 基板 匹配 檢索 圖像 | ||
1.一種圖案缺陷檢查方法，其特征在于，包括：
準備步驟，準備不存在缺陷的主板；
登記步驟，利用光學系統，對所述主板的彼此不同的區域進行多次拍攝并進行結合后，將所述主板之結合的整體圖像登記為主圖像；
拍攝步驟，對在檢查對象基板中推定為存在缺陷的檢查區域，通過所述光學系統以與所述主圖像相同的倍率進行拍攝后，登記為檢查圖像；及
匹配步驟，對所述主圖像與所述檢查圖像進行匹配后，檢索所述檢查區域內的缺陷，且所述匹配步驟通過將所登記的所述主圖像上與所述檢查圖像對應的區域取代為所述檢查圖像，并使所取代的圖像與所述主圖像匹配從而檢索所述缺陷。
2.根據權利要求1所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于，
所述登記步驟及所述拍攝步驟分別進行多次，
所述登記步驟在所述拍攝步驟之前至少進行一次。
3.根據權利要求1所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于，
所述光學系統具有可轉換的多個倍率，
所述登記步驟在所述光學系統的各個倍率下，登記所述主圖像。
4.根據權利要求1～3中的任一項所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于，
在所述匹配步驟之后，進一步包括確定步驟，利用在所述主圖像上的所述檢查圖像的位置及所述檢查圖像上的所述缺陷的位置中的至少一個來確定所述缺陷的位置。
5.根據權利要求4所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于，
所述確定步驟將所述主圖像上的所述缺陷的位置設定為第一坐標值，指定所述主圖像上的所述檢查圖像的位置并將其設定為第二坐標值，通過所述第一坐標值及所述第二坐標值之間的變位，確定在所述檢查圖像上的所述缺陷的位置。
6.根據權利要求4所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于，
進一步包括缺陷處理步驟，當通過確定步驟檢索到所述缺陷的位置時，在所述檢查對象基板上處理所述缺陷。
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