[發(fā)明專利]圖案生成方法以及信息處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510434239.4
• 申請日: 2015-07-22
• 公開（公告）號: CN105278235B
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 石井弘之;中山諒;荒井禎
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36;G06F17/50
• 代理公司: 北京怡豐知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍

本發(fā)明提供一種圖案生成方法以及信息處理裝置。所述圖案生成方法包括：限定步驟，在各單元中限定主圖案的占有區(qū)；布置步驟，相鄰布置第一單元和具有在所述主圖案的占有區(qū)外部的輔助圖案的第二單元，使得所述第二單元的所述占有區(qū)外部的輔助圖案存在于所述第一單元的主圖案的占有區(qū)中；以及生成步驟，通過在相鄰布置的所述第一單元和所述第二單元中的、所述第二單元的所述占有區(qū)外部的輔助圖案的圖案元素與所述第一單元中的所述主圖案接近或交疊的部分中，去除所述輔助圖案的圖案元素，來生成所述掩模的圖案。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圖案生成方法以及信息處理裝置。

背景技術(shù)

包括照明光學(xué)系統(tǒng)和投影光學(xué)系統(tǒng)的曝光設(shè)備已被用于光刻技術(shù)。照明光學(xué)系統(tǒng)利用來自光源的光照明掩模。投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模圖案的圖像投影到基板(例如晶片)上。當(dāng)要形成在基板上的目標(biāo)圖案的最小尺寸小于用于曝光的光源的波長時(shí)，在毗鄰圖案之間，掩模圖案的圖像在基板上的投影涉及不期望的光相互作用(干涉)。因此，在基板上形成了具有不同于目標(biāo)圖案的形狀的、不期望的圖像。目標(biāo)圖案的最小尺寸與光源的波長之間的差越大，則引起圖案的分辨率缺陷的可能性越高。

一種已知的用于使用計(jì)算機(jī)生成掩模圖案的方法包括：從包括大量標(biāo)準(zhǔn)單元(cell)的單元庫中選擇多個(gè)單元、布置這些單元、并對多個(gè)布置的單元進(jìn)行光學(xué)鄰近校正(optical proximity correction，下文中稱為OPC)。通過OPC，以將圖案的圖像設(shè)置在目標(biāo)范圍內(nèi)的方式來校正各圖案元素的形狀。在OPC中，考慮到了在毗鄰圖案之間光的干涉如何影響形成的圖案圖像。單元庫包括形成用于掩模圖案的基本圖案的多個(gè)單元。多個(gè)單元包括彼此不同的圖案。

用于改變圖案元素的形狀的計(jì)算量隨著圖案元素的數(shù)量的增加而增加。因此，當(dāng)布置要使用的所有單元以生成掩模圖案，然后對整個(gè)掩模圖案(整個(gè)芯片)進(jìn)行OPC時(shí)，需要極其大量的計(jì)算。美國專利申請第2009/0100396號公報(bào)討論了解決這種情況的方法。具體而言，對各個(gè)單元中的圖案進(jìn)行OPC以校正圖案的形狀，并且布置經(jīng)歷了OPC的多個(gè)單元來形成掩模圖案。然后，對整個(gè)掩模圖案最后一次進(jìn)行OPC。由于各單元的圖案已經(jīng)經(jīng)歷了OPC，因此不需要向具有已經(jīng)被校正在目標(biāo)范圍內(nèi)的圖像的一些圖案元素施加對整個(gè)掩模的OPC。因此，減少了要校正的圖案元素的數(shù)量。結(jié)果，能夠減少OPC中的計(jì)算量。

在美國專利第7873929號公報(bào)中，將輔助圖案按特定規(guī)則布置在標(biāo)準(zhǔn)單元中。因此，能夠以更小的光學(xué)鄰近效果(當(dāng)布置多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元時(shí)產(chǎn)生該光學(xué)鄰近效果)或無光學(xué)鄰近效果來生成掩模圖案。在日本特開2005-84101號公報(bào)中，在虛擬圖案(dummy pattern)被添加至單元的圖案的兩側(cè)的情況下進(jìn)行OPC，然后去除虛擬圖案并且將由此得到的圖案存儲在單元庫中。

美國專利申請第2009/0100396號公報(bào)討論了使各單元中的圖案變形的OPC，但是并未討論用于實(shí)現(xiàn)單元中的主圖案的更高分辨率的輔助圖案。因此，無法獲得輔助圖案的分辨率提升效果。在美國專利第7873929號公報(bào)中，僅在單元內(nèi)部布置輔助圖案。因此，由于輔助圖案布置的限制，可能無法實(shí)現(xiàn)足夠的分辨率。在日本特開2005-84101中討論的虛擬圖案在OPC中不僅被放置在單元內(nèi)，而且還被放置在單元的兩側(cè)。當(dāng)單元被存儲在單元庫中時(shí)去除虛擬圖案。因此，由于在從單元庫中選擇的單元中不存在虛擬圖案，當(dāng)生成掩模圖案時(shí)可能無法實(shí)現(xiàn)足夠的分辨率。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種圖案生成方法，其用于使用處理器通過相鄰布置從包含多個(gè)單元的單元庫中選擇的多個(gè)單元來生成掩模的圖案，所述圖案生成方法包括：限定步驟，在各單元中限定主圖案的占有區(qū)；布置步驟，相鄰布置第一單元和具有在所述主圖案的占有區(qū)外部的輔助圖案的第二單元，使得所述第二單元的所述占有區(qū)外部的輔助圖案存在于所述第一單元的主圖案的占有區(qū)中；以及生成步驟，通過在相鄰布置的所述第一單元和所述第二單元中的、所述第二單元的所述占有區(qū)外部的輔助圖案的圖案元素與所述第一單元中的所述主圖案接近或交疊的部分中，去除所述輔助圖案的圖案元素，來生成所述掩模的圖案。