[發明專利]電極圖案的制作方法

在審

• 申請號: 201510430304.6
• 申請日: 2015-07-21
• 公開（公告）號: CN105068681A
• 公開（公告）日: 2015-11-18
• 發明（設計）人: 曾德仁;謝嘉銘;林子祥
• 申請（專利權）人: 業成光電(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;H01B13/00
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 汪飛亞

技術領域

本發明涉及一種電極圖案的制作方法。

背景技術

銦錫氧化物(ITO)等透明導電材料因其具有高電導率、高可見光透過率、與玻璃基底結合牢固、抗擦傷等優良的物理性能以及良好的化學穩定性被廣泛的應用于各種電子裝置(如手機、便攜式電腦、個人數字助理(PDA)、平板電腦、媒體播放器等觸控顯示裝置)以制作電極圖案。目前，一種較為普遍的ITO圖案制作方法是光刻法，其需要通過清洗基板、光阻涂布、曝光、顯影、蝕刻等多個步驟來形成特定的ITO圖案的透明電極。這種方法所需的步驟較多，導致制程成本較高。

發明內容

為解決以上問題，有必要提供一種電極圖案的制作方法，包括如下步驟。

首先，提供一基板，并在該基板的一表面沉積一層導電材料。

然后，通過曝光方法對該導電材料的一部分進行退火處理，使該導電材料具有經過退火處理的第一部分以及未經過退火處理的第二部分。

最后，去除該導電材料的第一部分與第二部分的其中之一，形成電極圖案。

相較于現有技術，本發明使用掩膜直接對導電材料進行曝光和退火處理，然后通過濕蝕刻法去除未經退火處理的導電材料部分，即可形成電極圖案，從而有效降低制程成本。

附圖說明

圖1至圖3為本發明電極圖案的制作方法一第一實施例的制作流程示意圖。

圖4和圖5是一實施例中上述制作流程形成的電極圖案的示意圖。

圖6至圖8為本發明電極圖案的制作方法一第二實施例的制作流程示意圖。

主要元件符號說明

基板11,21導電材料12,22掩膜13,23第一部分121,221第二部分122,222遮光部131,231透光部132,232間距G電極123

如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。

具體實施方式

本發明提供的電極圖案的制作方法主要是使用掩膜并施加光脈沖對透明導電材料的其中一部分進行老化(annealing)處理，然后通過蝕刻直接實現ITO圖案化的方法，進而可省略傳統光刻制程中的光阻涂布等步驟，以減少制程成本。為便于理解，下面將結合具體實施例及圖示作進一步的詳細說明。