[發(fā)明專利]流量補償方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510420834.2 | 申請日： | 2015-07-17 |
| 公開（公告）號： | CN106695567B | 公開（公告）日： | 2020-03-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 金一諾;王堅;王暉 | 申請（專利權(quán)）人： | 盛美半導體設(shè)備(上海)股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B57/02 | 分類號： | B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 陸嘉 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 流量 補償 方法 | ||
本發(fā)明揭示了一種流量補償方法，包括：選擇一個腔體作為基準腔體，向基準腔體中輸入液體，基準腔體的噴頭噴射液體形成液柱，記錄液柱高度為基準高度，記錄基準腔體的液體流量為基準流量。選擇另一腔體作為對照腔體，向?qū)φ涨惑w中輸入液體，對照腔體的噴頭噴射液體形成液柱，調(diào)節(jié)對照腔體的流體流量以使得對照腔體的液柱達到基準高度，記錄對照腔體的液體流量為對照流量，計算對照流量與基準流量的差值為該對照腔體的補償值。繼續(xù)選擇其他腔體作為對照腔體并分別計算各個對照腔體的補償值，直至參與工藝流程的所有腔體的補償值都計算完畢。在工藝流程中，向基準腔體提供的液體為基準流量，向其他腔體提供的液體流量為：基準流量+該腔體的補償值。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導體制造工藝，更具體地說，涉及半導體制造工藝中對液體流量的控制方法。
背景技術(shù)
隨著半導體工業(yè)的發(fā)展，極大規(guī)模集成電路(VLSI)以及超大規(guī)模集成電路(ULSI)已經(jīng)被廣泛的應用。相比以往的集成電路，極大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路具有更復雜的多層結(jié)構(gòu)，更小的特征尺寸。無應力平坦化技術(shù)能夠克服傳統(tǒng)的化學機械平坦化技術(shù)在超微細特征尺寸集成電路中的缺陷。無應力拋光技術(shù)基于電化學原理，能夠無機械應力的對金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu)進行平坦化。無應力拋光技術(shù)需要使用到能夠?qū)щ姷膾伖庖海瑨伖庖和ㄟ^噴頭噴射至晶圓表面。噴頭同時還作為電化學拋光工藝中的電極，與具有電極的夾具配合以制造電場，用于對特定區(qū)域晶圓表面進行電化學拋光工藝。
圖1揭示了噴頭噴射拋光液的示意圖。在圖1所示的實施例中，噴頭102向上方噴射拋光液，噴頭內(nèi)部提供一定的液體壓力和流量，使得在噴頭的上方形成一定高度的液柱104。液柱104與晶圓的表面(通常是下表面)接觸形成一定的液體覆蓋面積，在液體覆蓋面積內(nèi)進行電化學拋光工藝。
在電化學拋光工藝中，施加的電流電壓、晶圓的運動速度、實際由拋光液液柱所形成的液體覆蓋范圍(即拋光范圍)決定了去除率及均勻性等工藝結(jié)果。在對于均勻性要求極高的極大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路領(lǐng)域，各種工藝參數(shù)的一致性顯得尤為重要。由于晶圓可能需要在不同的工藝腔室中進行加工，因此需要使得各個工藝腔室的工藝參數(shù)都保持一致。在這些工藝參數(shù)中，施加的電壓電流和晶圓的運動速度都是直接能夠控制的參數(shù)，因此容易進行控制。但拋光范圍是由各個噴頭所噴射的拋光液液柱所決定，拋光范圍受到多個因素的影響，因此是影響工藝結(jié)果均勻性的最重要的參數(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提出中通過調(diào)節(jié)流量來實現(xiàn)液柱高度統(tǒng)一的方法。
根據(jù)本發(fā)明的一實施例，提出一種流量補償方法，包括：
選擇一個腔體作為基準腔體，向基準腔體中輸入液體，基準腔體的噴頭噴射液體形成液柱，記錄液柱高度為基準高度，記錄基準腔體的液體流量為基準流量；
選擇另一腔體作為對照腔體，向?qū)φ涨惑w中輸入液體，對照腔體的噴頭噴射液體形成液柱，調(diào)節(jié)對照腔體的流體流量以使得對照腔體的液柱達到基準高度，記錄對照腔體的液體流量為對照流量，計算對照流量與基準流量的差值為該對照腔體的補償值；
繼續(xù)選擇其他腔體作為對照腔體并分別計算各個對照腔體的補償值，直至參與工藝流程的所有腔體的補償值都計算完畢；
在工藝流程中，向基準腔體提供的液體為基準流量，向其他腔體提供的液體流量為：基準流量+該腔體的補償值。
在一個實施例中，液體是拋光液。
在一個實施例中，噴頭向上方噴射液體。
在一個實施例中，各個對照腔體的補償值記錄在數(shù)據(jù)庫中，供控制系統(tǒng)調(diào)用。
本發(fā)明在不同工藝腔室中使用不同的液體流量，通過流量補償來消除其他因素對液柱高度的影響，實現(xiàn)了液柱高度的統(tǒng)一。
附圖說明
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