[發(fā)明專利]成像光學(xué)系統(tǒng)、投射曝光設(shè)備、制造組件的方法和組件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510420110.8
• 申請日: 2010-02-02
• 公開（公告）號: CN104914561B
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 漢斯-于爾根.曼;威廉.烏爾里克;埃里克.洛普斯特拉;戴維.莎弗
• 申請（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號: G02B17/06
• 分類號: G02B17/06;G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 陳金林

本公開提供一種成像光學(xué)系統(tǒng)、用于微光刻的投射曝光設(shè)備、制造結(jié)構(gòu)化的組件的方法、以及結(jié)構(gòu)化的組件。該成像光學(xué)系統(tǒng)例如是一種具有多個反射鏡(M1、M2、M3、M4、M5、M6)的成像光學(xué)系統(tǒng)(7)，所述多個反射鏡將物平面(5)中的物場(4)成像為像平面(9)中的像場(8)，其中僅所述物場(4)和所述像場(8)之間的成像光(3)的光束路徑中的最后一個反射鏡(M6)具有用于所述成像光(3)通過的通孔(18)。

本申請是申請日為2010年2月2日、申請?zhí)枮?01080007424.0(國際申請?zhí)枮镻CT/EP2010/000602)、發(fā)明名稱為“成像光學(xué)系統(tǒng)和具有此類型的成像光學(xué)系統(tǒng)的用于微光刻的投射曝光設(shè)備”的發(fā)明專利申請的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種具有多個反射鏡的成像光學(xué)系統(tǒng)，其將物平面中的物場成像到像平面中的像場中。此外，本發(fā)明還涉及具有此類型的成像光學(xué)系統(tǒng)的投射曝光設(shè)備，用于利用此類型的投射曝光系統(tǒng)制造微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)組件的方法，以及通過此方法制造的微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)組件。

背景技術(shù)

US 2006/0232867 A1和US 2008/0170310 A1中公開了說明書開始所提及的類型的成像光學(xué)系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是開發(fā)說明書開始所提及的類型的成像光學(xué)系統(tǒng)，從而獲得多種小像差的可處理組合，可管理制造、以及良好的成像光通過量。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，通過根據(jù)本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)此目的。該成像光學(xué)系統(tǒng)具有多個反射鏡，所述多個反射鏡將物平面中的物場成像為像平面中的像場，所述物場和所述像場之間的成像光的光束路徑中的最后一個反射鏡具有用于所述成像光通過的通孔。在所述物場和所述像場之間的成像光的光束路徑中，在所述像場的前方的成像光束之外布置了所述成像光學(xué)系統(tǒng)的倒數(shù)第二個反射鏡。所述倒數(shù)第二個反射鏡的、在所述倒數(shù)第二個反射鏡的光學(xué)使用的區(qū)域內(nèi)的反射面沒有用于所述成像光穿過的通孔。

根據(jù)本發(fā)明，認(rèn)識到在成像質(zhì)量沒有相對大的損失的情況下，可以在光瞳遮擋系統(tǒng)(即具有光瞳遮擋的成像光學(xué)系統(tǒng))中配置具有連續(xù)反射面的倒數(shù)第二個反射鏡，即在倒數(shù)第二個反射鏡的光學(xué)使用區(qū)域內(nèi)沒有通孔。這有助于制造具有足夠反射鏡厚度的該倒數(shù)第二個反射鏡，還允許在該倒數(shù)第二個反射鏡的面向像平面的一側(cè)與該像平面之間具有足夠大的間距，而同時最小化光瞳遮擋的尺寸。如果該倒數(shù)第二個反射鏡被布置在相對于其它反射鏡較薄的鏡體和/或鏡載體上，則對制造的該助益尤其重要。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，通過根據(jù)本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)說明書開頭所提及的目的。該成像光學(xué)系統(tǒng)具有多個反射鏡，所述多個反射鏡將物平面中的物場成像為像平面中的像場。所述成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)組件被布置為使得產(chǎn)生小于5％的光瞳遮擋。通過出瞳內(nèi)由于光瞳遮擋而被遮蔽的面積相對于成像光學(xué)系統(tǒng)的出瞳的總面積的比例而產(chǎn)生光瞳遮擋的數(shù)值。小于5％的光瞳遮擋使得有光瞳遮擋的成像光學(xué)系統(tǒng)可以具有特別高的光通過量。此外，根據(jù)本發(fā)明的小遮擋可以導(dǎo)致對成像光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量(尤其是對成像對比度)的較小或者可忽略的影響。光瞳遮擋可以小于10％。光瞳遮擋可以例如是4.4％或4.0％。光瞳遮擋可以小于4％，可以小于3％，可以小于2％，甚至可以小于1％。成像光學(xué)系統(tǒng)的光瞳遮擋可以由反射鏡之一預(yù)先確定，例如由其通孔或者由其外邊界，或者由布置在物場和像場之間的成像光的光束路徑中的遮擋光欄或光闌。

根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種具有多個反射鏡的成像光學(xué)系統(tǒng)，所述多個反射鏡將物平面中的物場成像為像平面中的像場，其中僅所述物場和所述像場之間的成像光的光束路徑中的最后一個反射鏡具有用于所述成像光通過的通孔。

根據(jù)上面所描述的方面之一的成像光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡中的至少一個可以具有被設(shè)計為不能由旋轉(zhuǎn)對稱函數(shù)描述的自由形狀面的反射面。