[發明專利]一種用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置有效
| 申請號: | 201510419293.1 | 申請日: | 2015-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN105150091B | 公開(公告)日: | 2017-05-24 |
| 發明(設計)人: | 張建峰;李柏濤;李改葉;吳玉萍;楊笑言;張欣 | 申請(專利權)人: | 河海大學 |
| 主分類號: | B24B37/27 | 分類號: | B24B37/27;B24B37/34;G01N1/32 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙)32204 | 代理人: | 黃天天 |
| 地址: | 211106 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 自動 研磨 拋光機 拋光 裝置 | ||
1.一種用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,包括修盤環和載樣盤,其特征在于,
所述的修盤環包括從上到下依次設置的上層修盤環和下層修盤環,所述的上層修盤環和下層修盤環固定連接,所述上層修盤環和下層修盤環表面對應設置有若干固定孔,所述的固定孔在所述修盤環表面呈中心對稱分布,或者其中一個固定孔設置于修盤環的中心,剩余的固定孔呈中心對稱分布;所述的上層修盤環的重量小于所述下層修盤環的重量,所述的下層修盤環的底部設置有外徑小于修盤環底部的凹槽,在修盤環底部的四周設置有若干排液槽;
所述的載樣盤與所述修盤環的固定孔保持間隙配合。
2.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,所述的下層修盤環底部凹槽深度低于樣品的厚度。
3.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,所述的排液槽為長方形,均勻分布在下層修盤環底部的四周。
4.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,所述的修盤環表面設置有五個固定孔,其中一個固定孔位于修盤環的中心,另外四個孔均布在中心的固定孔的周圍。
5.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,所述的修盤環表面設置有七個或九個固定孔,其中一個固定孔位于修盤環中心,其余的固定孔在中心的固定孔周圍呈中心對稱分布。
6.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,所述的載樣盤包括載樣體和連接體,兩者螺紋連接,其中,所述的載樣體底部設置有凸臺,所述凸臺的高度低于下層修盤環底部凹槽的深度。
7.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,所述的載樣盤包括載樣體、連接桿和增重塊,三者螺紋連接,所述的增重塊為中間具有圓孔的圓環,所述的增重塊套設于所述連接桿的外側,所述的載樣體整體呈圓柱式。
8.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,修盤環表面的固定孔的孔徑大小與所需研磨拋光的樣品的尺寸相一致。
9.根據權利要求1所述的用于自動研磨拋光機的研磨拋光裝置,其特征在于,所述的下層修盤環的上表面設置有若干突起的固定桿,所述的上層修盤環的下表面設置有對應所述固定桿的限位槽,所述的上層修盤環和下層修盤環通過所述固定桿和限位槽的相互配合進行固定。
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