[發明專利]一種有機DAST晶體的表面清洗工藝有效
| 申請號： | 201510414545.1 | 申請日： | 2015-07-15 |
| 公開（公告）號： | CN104998860B | 公開（公告）日： | 2017-01-25 |
| 發明（設計）人： | 武聰;孟大磊;龐子博;徐永寬;程紅娟 | 申請（專利權）人： | 中國電子科技集團公司第四十六研究所 |
| 主分類號： | B08B3/08 | 分類號： | B08B3/08;B08B3/12;C07D213/38;F26B5/04 |
| 代理公司： | 天津中環專利商標代理有限公司12105 | 代理人： | 王鳳英 |
| 地址： | 300220*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 有機 dast 晶體 表面 清洗 工藝 | ||
【權利要求書】：
1.一種有機DAST晶體的表面清洗工藝，其特征在于，該清洗工藝流程為：
第一步.將DAST晶體置于由按體積比70%～95%乙酸乙酯和5%～30%異丙醇配制的清洗劑中，超聲清洗10s～30s，清洗DAST晶體表面的粉體顆粒雜質；
第二步.將DAST晶體置于由按體積比76%～98%無水乙醇和2%～24%四氫呋喃配制的清洗劑中，超聲清洗10s～30s，清除DAST晶體因吸水變色的表面；
第三步.將DAST晶體置于甲醇溶液中，超聲清洗2s～8s，清除DAST晶體表面沾染的清洗劑，得到潔凈的晶體表面；
第四步.將清洗干凈的DAST晶體在45℃～55℃條件下，真空干燥15min～30min。
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