[發(fā)明專利]非對稱射頻收發(fā)開關(guān)電路在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510412195.5 | 申請日: | 2015-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN105187038A | 公開(公告)日: | 2015-12-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱紅衛(wèi);杜浩華 | 申請(專利權(quán))人: | 海寧海微電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H03K17/687 | 分類號: | H03K17/687 |
| 代理公司: | 唐山永和專利商標(biāo)事務(wù)所 13103 | 代理人: | 明淑娟 |
| 地址: | 314400 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 對稱 射頻 收發(fā) 開關(guān)電路 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及射頻收發(fā)開關(guān)電路技術(shù)領(lǐng)域,具體講是一種非對稱射頻收發(fā)開關(guān)電路。
背景技術(shù)
在早期的手機(jī)急速增長的時代,多數(shù)IC手持設(shè)備采用砷化鎵(GaAs)工藝。然而,對低成本和與數(shù)字集成的需求使研究從GaAs技術(shù)轉(zhuǎn)變到互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)技術(shù)。同時,所需的天線開關(guān)的性能要求已經(jīng)變得更嚴(yán)格,包括更低的插入損耗(IL),更高的隔離度,以及更高的功率處理能力,更高的線性度,更小的尺寸和更低的成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是,克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種具有較小的尺寸和較低的成本,同時具有優(yōu)良的插入損耗、線性度和隔離度的非對稱射頻收發(fā)開關(guān)電路。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提出一種非對稱射頻收發(fā)開關(guān)電路,它包括天線OUT,它還包括第一MOS場效應(yīng)管M1、第二MOS場效應(yīng)管M2、第三MOS場效應(yīng)管M3、第四MOS場效應(yīng)管M4、第五MOS場效應(yīng)管M5、第六MOS場效應(yīng)管M6、第七M(jìn)OS場效應(yīng)管M7、第八MOS場效應(yīng)管M8、第九MOS場效應(yīng)管M9;第一MOS場效應(yīng)管M1的G端串聯(lián)電阻R2后、第二MOS場效應(yīng)管M2的G端串聯(lián)電阻R3后、第三MOS場效應(yīng)管M3的G端串聯(lián)電阻R4后、第四MOS場效應(yīng)管M4的G端串聯(lián)電阻R5后均與電阻R1的一端連接,電阻R1的另一端與第一控制信號端gate1連接,第一MOS場效應(yīng)管M1的D端和S端之間并聯(lián)電阻R6,第二MOS場效應(yīng)管M2的D端和S端之間并聯(lián)電阻R7,第三MOS場效應(yīng)管M3的D端和S端之間并聯(lián)電阻R8,第四MOS場效應(yīng)管M4的D端和S端之間并聯(lián)電阻R9,電阻R6、電阻R7、電阻R8、電阻R9依序串聯(lián),第四MOS場效應(yīng)管M4的S端與發(fā)射端IN1連接;第五MOS場效應(yīng)管M5的G端串聯(lián)電阻R11后、第六MOS場效應(yīng)管M6的G端串聯(lián)電阻R12后、第七M(jìn)OS場效應(yīng)管M7的G端串聯(lián)電阻R13后、第八MOS場效應(yīng)管M8的G端串聯(lián)電阻R14后、第九MOS場效應(yīng)管M9的G端串聯(lián)電阻R15后均與電阻R10的一端連接,電阻R10的另一端與第二控制信號端gate2連接,第五MOS場效應(yīng)管M5的D端和S端之間并聯(lián)電阻R16,第六MOS場效應(yīng)管M6的D端和S端之間并聯(lián)電阻R17,第七M(jìn)OS場效應(yīng)管M7的D端和S端之間并聯(lián)電阻R18,第八MOS場效應(yīng)管M8的D端和S端之間并聯(lián)電阻R19,第九MOS場效應(yīng)管M9的D端和S端之間并聯(lián)電阻R20,電阻R16、電阻R17、電阻R18、電阻R19、電阻R20依序串聯(lián),第九MOS場效應(yīng)管M9的S端與接收端IN2連接;第一MOS場效應(yīng)管M1的D端、第五MOS場效應(yīng)管M5的D端均與天線OUT連接;各MOS場效應(yīng)管均設(shè)有P阱/深N阱和深N阱/P襯底的雙二極管,其中深N阱和P阱浮空。
采用上述結(jié)構(gòu)后,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明提出了一種新型的電路結(jié)構(gòu)設(shè)計,通過設(shè)計收發(fā)的非對稱性,能夠分別得到接收和發(fā)射各自要求的射頻開關(guān)電路的隔離度、插入損耗和線性度等射頻指標(biāo),不僅具有較小的尺寸和較低的成本,同時具有優(yōu)良的插入損耗、線性度和隔離度。
作為改進(jìn),各MOS場效應(yīng)管均為三阱結(jié)構(gòu)的MOS晶體管,由于三阱結(jié)構(gòu)的MOS晶體管制取工藝穩(wěn)定成熟,所以在批量生產(chǎn)時,質(zhì)量較為穩(wěn)定可靠,從而更有利于本發(fā)明穩(wěn)定性和可靠性的提高。
作為改進(jìn),各MOS場效應(yīng)管的P阱串聯(lián)電阻R后浮空,這樣,浮空效果更好。
附圖說明
圖1為本發(fā)明非對稱射頻收發(fā)開關(guān)電路的電路原理圖。
圖2為本發(fā)明非對稱射頻收發(fā)開關(guān)電路的MOS場效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明:
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