[發明專利]二芳基甲酮類化合物的合成方法

有效

• 申請號: 201510405412.8
• 申請日: 2015-07-09
• 公開（公告）號: CN105037115B
• 公開（公告）日: 2017-01-04
• 發明（設計）人: 沈振陸;馬佳頎;胡志明;李美超;胡信全;莫衛民
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: C07C45/00
• 分類號: C07C45/00;C07C49/784;C07C49/786;C07C49/788;C07C49/813;C07C49/84;C07D213/50;C07D333/22;C07B41/06
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司33201
• 代理人: 黃美娟,王兵

(一)技術領域

本發明涉及一種二芳基甲酮類化合物的合成方法。

(二)背景技術

二芳基甲酮類化合物具有特殊的物理、化學和生物特性，這類化合物能作為藥物合成的中間體、高性能工程塑料的合成單體以及紫外線吸收劑，已被廣泛應用于塑料、化妝品、涂料、農用化學品以及電子工業等領域。二芳基甲酮類化合物中結構最簡單的是二苯甲酮，該化合物在常溫常壓下為透明晶體，是有機合成的重要中間體和精細化工的重要添加劑，廣泛應用于有機涂料、醫藥合成、塑料、香精香料、高分子材料的紫外吸收劑、薄膜涂層的光敏劑等各領域。此外，二芳基甲酮類化合物是近年來研究最廣泛的光引發劑，二芳基甲酮類光引發劑如二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮等具有光固化速度快等優點。

目前，二芳基甲酮類化合物的合成方法主要有酰基化法、羰基化法、硝酸氧化法等。酰基化法多采用三氯化鋁為催化劑，以取代苯與取代的苯甲酰氯為原料反應，由于目標產品中異構體多，分離較困難，且反應過程中有大量廢酸生成，腐蝕生產設備；羰基化法一般都在高溫高壓下反應，操作復雜，且采用的原料之一為一氧化碳，危險性較大；硝酸氧化法是以硝酸氧化二苯甲烷類化合物，該方法反應時間長，設備腐蝕嚴重，產品后處理困難。因此，近年來有很多新的合成方法陸續被開發和報道。以二芳基甲醇的酯類衍生物為原料，也可制備二芳基甲酮類化合物，但需經水解和氧化兩步反應。

(三)發明內容

本發明的目的是提供一種以二芳基甲醇的酯類衍生物為原料，一步反應制備二芳基甲酮類化合物的方法。

為實現上述目的，本發明采用如下技術方案：

一種二芳基甲酮類化合物的合成方法，所述的合成方法為：

將原料二芳基甲醇的酯類衍生物、DDQ和水，加到有機溶劑中，攪拌并加熱至110～140℃反應0.5～12h后，反應液經后處理得到產物二芳基甲酮類化合物；所述的有機溶劑為鄰二氯苯、1,1,2,2-四氯乙烷或氯苯；所述的原料二芳基甲醇的酯類衍生物與DDQ(2,3-二氯-5,6-二氰基-1,4-苯醌)、水的物質的量之比為1：0.6～2：2～20；

所述原料二芳基甲醇的酯類衍生物的結構式如式(V)、(VI)、(VII)或(VIII)所示，一一對應得到的產物結構式如式(I)、(II)、(III)或(IV)所示；

式(I)或式(V)中，R¹、R²各自獨立為H、苯基、F、Cl、Br、C1～C4烷基或C1～C2烷氧基；優選R¹、R²各自獨立為H、F、Cl、甲基、苯基或甲氧基；

式(II)或式(VI)中，R³、R⁴各自獨立為H、苯基、F、Cl、Br、C1～C4烷基或C1～C2烷氧基；優選R³、R⁴各自獨立為H、甲基或甲氧基；

式(III)或式(VII)中，R⁵為H、苯基、F、Cl、Br、C1～C4烷基或C1～C2烷氧基；優選R⁵為H、甲基或甲氧基；

式(IV)或式(VIII)中，R⁶為H、苯基、F、Cl、Br、C1～C4烷基或C1～C2烷氧基；優選R⁶為H、甲基或甲氧基；

式(V)、式(VI)、式(VII)或式(VIII)中，R⁷為甲基、乙基、乙烯基、α-甲基乙烯基、苯基、鄰甲苯基、對甲氧基苯基或3-噻吩基；優選R⁷為甲基。

本發明所述的合成方法，優選所述的有機溶劑為氯苯；推薦所述有機溶劑的質量用量為原料二芳基甲醇的酯類衍生物質量的10～30倍。

優選，所述的原料二芳基甲醇的酯類衍生物與DDQ、水的物質的量之比為1：0.8～1.2：5～8。

優選反應溫度為120～130℃，反應時間為1～6h。

通常所述反應液后處理的方法為：反應結束后，反應液先減壓蒸除溶劑，再進行柱層析分離，以乙酸乙酯/石油醚體積比1：200的混合液為洗脫劑，收集含目標化合物的洗脫液，蒸除溶劑后干燥，即得產物二芳基甲酮類化合物。