[發明專利]一種印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置

有效

• 申請號: 201510383200.4
• 申請日: 2015-07-02
• 公開（公告）號: CN104911597B
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 李建光
• 申請（專利權）人: 深圳市潔馳科技有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙)44312
• 代理人: 陳健

技術領域

本發明屬于電路板酸性蝕刻液技術領域，尤其涉及一種用于吸收印刷電路板的酸性蝕刻廢液在電解過程中產生的廢氣的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置。

背景技術

印制線路板(PCB板)也稱印刷電路板，其以絕緣板為基材，切成一定尺寸，其上至少附有一個導電圖形，作為基板，并在基板上部設有孔(如元件孔、堅固孔、金屬孔等安裝孔)，用來代替以往裝置電子元器件的底盤，通過基板上的導電圖形、焊盤及金屬化過孔實現元件引腳之間的電氣連接。作為電子產品最基本也是最核心的部件，印制線路板廣泛運用于各類電子產品及大型設備及裝置上。

目前全球印刷電路板產業產值占電子元件產業總產值的四分之一以上，是各個電子元件細分產業中比重最大的產業，產業規模達400億美元。同時，由于其在電子基礎產業中的獨特地位，已經成為當代電子元件業中最活躍的產業。隨著我國電子工業年增長率超過20％，也帶動了印刷電路板及相關產業發展，我國已成為世界最大的印刷電路板生產中心。

眾所周知，化學蝕刻工藝是目前制造印刷電路板過程中必不可少的重要步驟，在印刷電路板生產過程中，通常用酸性蝕刻工藝生產電路板，因此，每年要產生大量的這種酸性蝕刻廢液。而針對這些酸性蝕刻廢液的處理，目前行業中絕大部分采用直接電解的方式來提取出蝕刻廢液中的銅單質，將剩下的廢藥水通過調藥再生，返回蝕刻機使用；或者通過技術處理，達標后排放。無論采用何種處理方式，在電解過程中，必定會在陽極產生氯氣。傳統的處理方式是直接將廢氣收集到廢氣塔，通過強堿溶液噴淋吸收。該處理方式存在下述缺陷：1)消耗大量強堿溶液，產生大量廢水，增大廢水處理難度；2)吸收完氯氣的溶液具有刺激性氣味，且成分不穩定，遇光容易分解；3)廢氣塔吸收效果有限，容易出現超標排放現象。

發明內容

本發明所要解決的技術問題在于提供一種印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，旨在其不僅

本發明是這樣實現的，一種印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其包括缸體、射流吸收機構及加熱機構，所述缸體包括兩相對設置的第一側板及第二側板，以及兩相對設置的第三側板及第四側板，所述缸體沿著所述第一側板及所述第二側板的方向，從所述第四側板至所述第三側板之間依次包括平衡缸、收集缸、射流缸、加熱缸、添加缸及循環缸，所述射流缸與所述加熱缸相對設置，所述射流缸靠近所述第二側板一側設置，所述加熱缸靠近所述第一側板一側設置，所述射流吸收機構裝設在所述射流缸的后端位置，所述加熱機構收容于所述加熱缸內。

進一步地，前述的缸體還包括兩相對設置的頂板及底板，所述頂板及所述底板、所述第一側板及所述第二側板、所述第三側板及所述第四側板共同圍成一呈中空長方體結構的外殼，兩個加強肋箍設在所述外殼的外圍中間位置。

進一步地，前述的第一側板靠近所述底板的位置間隔設置有兩個保養水出口、一個廢液出水口、第一液位管、第二液位管及第三液位管，所述廢液出水口位于所述第一液位管旁邊，所述第二液位管及所述第三液位管設置在所述兩個保養水出口之間，所述第三側板靠近所述底板及所述第二側板的位置設置有蝕刻液出口。

進一步地，前述的平衡缸與所述收集缸之間設置有第一溢流板，所述第一溢流板垂直于所述底板且與所述第四側板相對設置，位于所述平衡缸的所述頂板上靠近所述第二側板及所述第四側板的位置設置兩個第一液位孔，所述兩個第一液位孔設置成一行且與所述第四側板平行，所述廢液出水口及所述第一液位管位于所述平衡缸的區域內，所述第一溢流板中間靠上位置開設有多個用于將所述蝕刻液溢流至所述平衡缸內的第一溢流通孔。

進一步地，前述的收集缸與所述射流缸及所述加熱缸之間設置有第一潛流板，所述第一潛流板垂直于所述底板且與所述第一溢流板相對設置，位于所述收集缸的所述頂板上靠近所述第一潛流板的位置設置有兩個排成一行的用于裝入蝕刻液的蝕刻液入口。

進一步地，前述的射流缸與所述添加缸之間設置有第二溢流板，而所述射流缸與所述加熱缸之間設置有射流隔板；所述第二溢流板垂直于所述底板且與所述第一潛流板相對設置，所述第二溢流板中間靠上位置開設有多個用于將加熱后的蝕刻液溢流至所述添加缸中的第二溢流通孔，所述射流隔板平行于所述第一側板及所述第二側板且垂直于所述第一潛流板設置，所述射流隔板靠近所述頂板的上方開有用于平衡所述射流缸與所述加熱缸之間的氣壓的缺口。

進一步地，前述的射流缸內還設置有射流擋板，所述射流擋板位于所述射流缸的下端并將所述射流缸分隔成上射流缸、下射流缸兩個部分。