[發明專利]一種印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置

有效

• 申請號: 201510383200.4
• 申請日: 2015-07-02
• 公開（公告）號: CN104911597B
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 李建光
• 申請（專利權）人: 深圳市潔馳科技有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙)44312
• 代理人: 陳健

1.一種印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，包括缸體、射流吸收機構及加熱機構，所述缸體包括兩相對設置的第一側板及第二側板，以及兩相對設置的第三側板及第四側板，所述缸體沿著所述第一側板及所述第二側板的方向，從所述第四側板至所述第三側板之間依次包括平衡缸、收集缸、射流缸、加熱缸、添加缸及循環缸，所述射流缸與所述加熱缸相對設置，所述射流缸靠近所述第二側板一側設置，所述加熱缸靠近所述第一側板一側設置，所述射流吸收機構裝設在所述射流缸的后端位置，所述加熱機構收容于所述加熱缸內。

2.如權利要求1所述的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其特征在于，所述缸體還包括兩相對設置的頂板及底板，所述頂板及所述底板、所述第一側板及所述第二側板、所述第三側板及所述第四側板共同圍成一呈中空長方體結構的外殼，兩個加強肋箍設在所述外殼的外圍中間位置。

3.如權利要求2所述的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其特征在于，所述第一側板靠近所述底板的位置間隔設置有兩個保養水出口、一個廢液出水口、第一液位管、第二液位管及第三液位管，所述廢液出水口位于所述第一液位管旁邊，所述第二液位管及所述第三液位管設置在所述兩個保養水出口之間，所述第三側板靠近所述底板及所述第二側板的位置設置有蝕刻液出口。

4.如權利要求3所述的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其特征在于，所述平衡缸與所述收集缸之間設置有第一溢流板，所述第一溢流板垂直于所述底板且與所述第四側板相對設置，位于所述平衡缸的所述頂板上靠近所述第二側板及所述第四側板的位置設置兩個第一液位孔，所述兩個第一液位孔設置成一行且與所述第四側板平行，所述廢液出水口及所述第一液位管位于所述平衡缸的區域內，所述第一溢流板中間靠上位置開設有多個用于將所述蝕刻液溢流至所述平衡缸內的第一溢流通孔。

5.如權利要求4所述的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其特征在于，所述收集缸與所述射流缸及所述加熱缸之間設置有第一潛流板，所述第一潛流板垂直于所述底板且與所述第一溢流板相對設置，位于所述收集缸的所述頂板上靠近所述第一潛流板的位置設置有兩個排成一行的用于裝入蝕刻液的蝕刻液入口。

6.如權利要求5所述的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其特征在于，所述射流缸與所述添加缸之間設置有第二溢流板，而所述射流缸與所述加熱缸之間設置有射流隔板；所述第二溢流板垂直于所述底板且與所述第一潛流板相對設置，所述第二溢流板中間靠上位置開設有多個用于將加熱后的蝕刻液溢流至所述添加缸中的第二溢流通孔，所述射流隔板平行于所述第一側板及所述第二側板且垂直于所述第一潛流板設置，所述射流隔板靠近所述頂板的上方開有用于平衡所述射流缸與所述加熱缸之間的氣壓的缺口。

7.如權利要求6所述的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其特征在于，所述射流缸內還設置有射流擋板，所述射流擋板位于所述射流缸的下端并將所述射流缸分隔成上射流缸、下射流缸兩個部分；

所述加熱缸由所述第一溢流板、所述第二溢流板、所述射流隔板、所述第一側板、所述頂板及所述底板圍設而成，所述加熱缸的所述頂板上靠近所述第一側板的位置從所述第一潛流板至所述第二溢流板的方向依次設置有基板、密封蓋板及出氣口，所述密封蓋板位于所述出氣口與所述基板之間，所述出氣口用于將未吸收完全的氣體和加熱過程中產生的氣體輸送至下一道處理工序，所述密封蓋板大致呈長方體結構且用于密封所述外殼。

8.如權利要求7所述的印刷電路板酸性蝕刻液廢氣吸收裝置，其特征在于，所述添加缸與所述循環缸之間設置有第二潛流板，所述第二潛流板垂直于所述底板及所述第二側板且與所述第二溢流板相對設置；所述添加缸由所述第二溢流板、所述第二潛流板、所述第一側板、所述第二側板、所述頂板及所述底板圍設而成；位于所述添加缸的所述頂板上靠近所述第二溢流板的位置設置有一排藥水添加孔，所述藥水添加孔平行于所述第二潛流板排列，所述第二液位管位于所述添加缸的區域內。