[發明專利]附加濃度決定方法、立體形成方法及立體形成裝置

有效

• 申請號: 201510367123.3
• 申請日: 2015-06-29
• 公開（公告）號: CN105269998B
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 山崎修一
• 申請（專利權）人: 卡西歐計算機株式會社
• 主分類號: B41M3/06
• 分類號: B41M3/06;B41J2/01
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王成坤;胡建新

1.一種附加濃度決定方法，決定熱吸收劑的附加濃度，上述附加濃度決定方法的特征在于，

上述熱吸收劑的附加濃度是在對由于加熱而發泡的介質加熱前對該介質的表面附加的上述熱吸收劑的附加濃度，并且該熱吸收劑的附加濃度針對與上述介質的表面對應的多個像素的每個像素而設定，

在上述多個像素中的關注像素的原始的附加濃度滿足第1規定條件時，

將基于第1平均濃度和第2平均濃度決定的濃度設定為該關注像素的附加濃度，該第1平均濃度基于處于上述關注像素的周邊的第1多個周邊像素的原始的附加濃度，該第2平均濃度基于第2多個周邊像素的原始的附加濃度。

2.根據權利要求1所述的附加濃度決定方法，其特征在于，

在上述關注像素的原始的附加濃度滿足上述第1規定條件、并且上述第1平均濃度及上述第2平均濃度滿足第2規定條件時，將上述第1平均濃度設定為該關注像素的附加濃度，

這里，上述第2多個周邊像素包含的像素數，多于上述第1多個周邊像素包含的像素數。

3.根據權利要求1或者2所述的附加濃度決定方法，其特征在于，

上述關注像素的原始的附加濃度不滿足第1規定條件時，

將該關注像素的原始的附加濃度設定為該關注像素的附加濃度。

4.根據權利要求1所述的附加濃度決定方法，其特征在于，

上述關注像素的原始的附加濃度為第1閾值以上、并且上述第1平均濃度為上述第1閾值以上、并且上述第2平均濃度超過第2閾值時，將上述第1平均濃度設定為上述關注像素的附加濃度。

5.根據權利要求4所述的附加濃度決定方法，其特征在于，

上述關注像素的原始的附加濃度小于第1閾值時，將該關注像素的原始的附加濃度設定為該關注像素的附加濃度。

6.根據權利要求4或者5所述的附加濃度決定方法，其特征在于，

在將以上述關注像素為中心的9個像素平均濃度設為上述第1平均濃度，

并將以上述關注像素為中心的121個像素平均濃度設為上述第2平均濃度時，

設上述第1閾值為0.5，

設上述第2閾值大于0且為0.3以下，

這里，對各像素設定的上述附加濃度能夠取0以上1以下的范圍的值。

7.一種立體形成方法，對介質的表面加熱而使之發泡，上述立體形成方法的特征在于，

包括決定熱吸收劑的附加濃度的處理，該熱吸收劑的附加濃度是對上述介質加熱前對該介質的表面附加的上述熱吸收劑的附加濃度，并且該熱吸收劑的附加濃度針對與上述介質的表面對應的多個像素的每個像素而設定，

決定上述熱吸收劑的附加濃度的處理為，

在上述多個像素中的關注像素的原始的附加濃度滿足第1規定條件時，

將基于第1平均濃度和第2平均濃度決定的濃度設定為該關注像素的附加濃度，該第1平均濃度基于處于上述關注像素的周邊的第1多個周邊像素的原始的附加濃度，該第2平均濃度基于第2多個周邊像素的原始的附加濃度。

8.根據權利要求7所述的立體形成方法，其特征在于，

決定上述熱吸收劑的附加濃度的處理包括：

在上述關注像素的原始的附加濃度滿足上述第1規定條件、并且上述第1平均濃度及上述第2平均濃度滿足第2規定條件時，將上述第1平均濃度設定為該關注像素的附加濃度，

這里，上述第2多個周邊像素包含的像素數，多于上述第1多個周邊像素包含的像素數。

9.根據權利要求7或者8所述的立體形成方法，其特征在于，

決定上述熱吸收劑的附加濃度的處理包括：

上述關注像素的原始的附加濃度不滿足第1規定條件時，

將該關注像素的原始的附加濃度設定為該關注像素的附加濃度。