[發明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置在審
| 申請號: | 201510363072.7 | 申請日: | 2015-06-26 | 
| 公開(公告)號: | CN104952887A | 公開(公告)日: | 2015-09-30 | 
| 發明(設計)人: | 侯學成;盧凱;郭建 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 | 
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L21/77 | 
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;張天舒 | 
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陣列 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
技術領域
本發明屬于顯示技術領域,具體涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置。
背景技術
樹脂材料介電常數低,平坦性好,透過率高,故可作為陣列基板中各絕緣層的材料,以降低各結構間的電容。但樹脂層厚度大,故其中樹脂過孔的端差也大,由此在其后各層的光刻工藝中,樹脂過孔處的光刻膠比其他位置更厚,難以被完全去除,刻蝕后易出現膜層殘留,影響產品結構,造成顯示不良。
例如,圖1示出一種現有的陣列基板在形成像素電極后的結構示意圖。圖1中的像素電極19為兩個相鄰子像素中的像素電極19,過孔18左邊為一個獨立的子像素的像素電極19,過孔18右邊為相鄰的另一個獨立的子像素的像素電極19,其中,薄膜晶體管的漏極15位于樹脂層16下方,而樹脂層16上方有鈍化層17,鈍化層17中需通過光刻工藝形成過孔18(位于樹脂過孔中),以使位于鈍化層17上的像素電極19與漏極15導通。光刻工藝的第一步是涂布光刻膠,如圖2所示,樹脂過孔處的光刻膠10厚度(在2.2~4.2μm)比其他位置的光刻膠10厚度(在1.3~1.5μm)更大;在用掩膜板3對光刻膠曝光時,如圖3所示左側的圖,像素區1樹脂過孔中的光刻膠10容易曝光量不足,不能被完全除去,而如其中右側的圖所示,該工藝條件下非像素區2的光刻膠10已經曝光充分,形成相應形狀;如圖4所示,在后續刻蝕工藝中,樹脂過孔處殘留的光刻膠10下的鈍化層17被擋住,故不能被刻蝕,從而造成鈍化層17的過孔18偏小甚至缺失,無法形成所需結構。類似的,如圖5所示,在形成像素電極19時,樹脂過孔中的光刻膠102若不能被完全除去,則會造成部分像素電極的材料不能被除去,從而導致相鄰子像素中的像素電極19相連,無法得到獨立的像素電極19,如圖6所示。
當然,陣列基板還可包括薄膜晶體管(圖中未示)、基板11、柵極絕緣層13,柵極22等其他結構,在此不再詳細描述。
發明內容
本發明針對現有的陣列基板樹脂過孔處的光刻膠比其他位置更厚,難以被完全去除的問題,提供一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置。
解決本發明技術問題所采用的技術方案是:
一種陣列基板,包括多個薄膜晶體管和具有至少一個樹脂過孔的樹脂層,所述薄膜晶體管包括源極、漏極、柵極、有源區,至少部分樹脂過孔處的樹脂層下方設有用于降低樹脂過孔處端差的端差調整層。
優選的,所述陣列基板包括像素區和非像素區,所述像素區中設有所述樹脂層,并具有樹脂過孔,所述像素區的樹脂層的樹脂過孔處設有所述端差調整層。
優選的,所述漏極設于像素區中且被樹脂層覆蓋,漏極上方的樹脂層中設有樹脂過孔,所述端差調整層位于漏極下方,且端差調整層與漏極在基板上的投影至少部分重合。
優選的,所述像素區中從下到上依次設有柵極絕緣層、漏極、樹脂層、鈍化層、像素電極,所述端差調整層設于柵極絕緣層與漏極之間。
優選的,所述端差調整層與漏極在基板上的投影完全重合。
優選的,所述樹脂層由感光樹脂或非感光樹脂構成。
優選的,所述樹脂層厚度為1.2~3.0μm。
優選的,所述端差調整層與有源區同層。
優選的,所述端差調整層與柵極同層。
優選的,所述端差調整層厚度為0.2~0.35μm。
本發明還提供一種陣列基板的制備方法,包括以下步驟:
形成柵極的步驟,
形成有源區的步驟,
形成源極、漏極的步驟,
形成具有至少一個樹脂過孔的樹脂層的步驟,
以及形成至少部分樹脂過孔處的樹脂層下方的端差調整層的步驟。
優選的,所述形成有源區的步驟與所述形成源極、漏極的步驟非一步形成。
優選的,所述形成有源區的步驟與所述形成至少部分樹脂過孔處的樹脂層下方的端差調整層的步驟為一步形成。
優選的,所述形成柵極的步驟與所述形成至少部分樹脂過孔處的樹脂層下方的端差調整層的步驟為一步形成。
本發明還提供一種顯示裝置,包括上述的陣列基板。
其中,本發明的陣列基板尤其適用于各種顯示裝置,尤其適用于高分辨率的顯示裝置。
本發明的陣列基板在樹脂過孔處的下方設置端差調整層,以有效減小樹脂過孔處的端差,后續各層進行光刻工藝時,此處光刻膠厚度與其他位置的高度差減小,有利的改善樹脂過孔處端差大造成的鈍化層過孔波動,有效避免像素電極金屬殘留的問題。本發明的陣列基板適用于各種顯示裝置,尤其適用于高分辨率的顯示裝置。
附圖說明
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





