[發(fā)明專(zhuān)利]一種用于離線(xiàn)真空吸附基板的承載機(jī)構(gòu)和基板傳送方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510355093.4 | 申請(qǐng)日: | 2015-06-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105097633A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-11-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石旭;徐志龍;劉軍;王小軍;李冬青;黃書(shū)同;陳偉;張磊 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/683 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/683;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 郝瑞剛 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 離線(xiàn) 真空 吸附 承載 機(jī)構(gòu) 傳送 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示器設(shè)計(jì)制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于離線(xiàn)真空吸附玻璃基板的承載機(jī)構(gòu)和基板傳送方法。
背景技術(shù)
目前,如圖1所示,在液晶顯示器制造過(guò)程中需要對(duì)基板5’進(jìn)行各種工藝,如對(duì)基板5’表面濺射各種離子,在濺射過(guò)程中需要基板5’直立并進(jìn)行移動(dòng),現(xiàn)有的基板5’的移動(dòng)過(guò)程中大多是通過(guò)夾持機(jī)構(gòu)對(duì)基板5’進(jìn)行加持固定,保證基板5’處于直立狀態(tài),然后再通過(guò)行走機(jī)構(gòu)帶動(dòng)基板5’移動(dòng),雖然通過(guò)夾持機(jī)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)基板5’在行走過(guò)程中保持直立狀態(tài),但是夾持機(jī)構(gòu)主要是通過(guò)夾持器(如方塊夾持器12’和三角夾持器11’)對(duì)基板5’進(jìn)行固定,基板5’與夾持器之間存在一定的縫隙,在基板5’移動(dòng)過(guò)程中存在基板5’晃動(dòng)脫落的隱患;而對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中采用真空吸附裝置對(duì)基板5’進(jìn)行吸附,真空管始終與真空吸附裝置連接,會(huì)隨著基板5’一起移動(dòng),無(wú)法實(shí)現(xiàn)離線(xiàn)吸附,真空管可能會(huì)纏繞鉤掛在其他裝置上,影響基板5’的移動(dòng)。
發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:?jiǎn)为?dú)使用夾持機(jī)構(gòu)對(duì)基板進(jìn)行固定,在基板直立行走過(guò)程中存在晃動(dòng)脫落的隱患;使用真空吸附裝置對(duì)基板進(jìn)行吸附固定,無(wú)法實(shí)現(xiàn)離線(xiàn)吸附,整個(gè)裝置體積更大,限制了基板的移動(dòng)。
(二)技術(shù)方案
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種用于離線(xiàn)真空吸附基板的承載機(jī)構(gòu),包括設(shè)有夾持器的承載框,所述承載框上設(shè)置有真空吸附裝置和分離裝置,所述真空吸附裝置用于對(duì)基板進(jìn)行吸附固定,所述分離裝置用于將連接在一起的真空吸附裝置和真空管分開(kāi),并保持真空吸附裝置對(duì)待運(yùn)送基板的持續(xù)吸附。
其中,所述真空吸附裝置包括固定在承載框一側(cè)由多條相互連通的管路構(gòu)成的吸附架,所述吸附架上設(shè)置有與管路相互連通的真空吸頭;所述真空管與所述管路連通。
其中,所述真空吸頭包括吸盤(pán)和吸氣管,所述吸氣管的一端與吸盤(pán)連通,另一端與管路連通。
其中,所述吸附架上設(shè)置有多個(gè)真空吸頭,多個(gè)所述真空吸頭上吸盤(pán)的吸附面位于同一平面上,且每個(gè)所述吸附面均位于所述承載框內(nèi)。
其中,所述真空吸附裝置包括固定在承載框一側(cè)的真空板,所述真空板具有中空腔體和位于承載框內(nèi)的吸附平面,所述吸附平面上設(shè)置有多個(gè)與所述中空腔體連通的吸附孔,所述真空管與所述中空腔體連通。
其中,多個(gè)所述吸附孔在所述吸附平面上均勻分布。
其中,所述分離裝置包括設(shè)置在真空吸附裝置上的第一接頭和設(shè)置在真空管上與第一接頭配合的第二接頭,所述第一接頭上設(shè)置有截止閥。
其中,所述分離裝置還包括氣缸,所述氣缸與第二接頭連接,所述分離裝置用于實(shí)現(xiàn)第一接頭與第二接頭在連接狀態(tài)和斷開(kāi)狀態(tài)之間的切換。
其中,所述夾持器設(shè)置有多個(gè),多個(gè)所述夾持器成對(duì)設(shè)置在承載框的兩側(cè);背離所述真空吸附裝置一側(cè)的夾持器能夠開(kāi)合。
本發(fā)明還提供了一種基板傳送方法,包括以下步驟:
S1,將基板放入承載框內(nèi),使用夾持器對(duì)基板進(jìn)行固定;
S2,利用真空吸附裝置對(duì)基板吸附固定;
S3,通過(guò)分離裝置將真空吸附裝置與真空管分開(kāi),并保持真空吸附裝置對(duì)待運(yùn)送基板的持續(xù)吸附。
(三)有益效果
本發(fā)明的上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明提供的用于離線(xiàn)真空吸附基板的承載機(jī)構(gòu),在設(shè)有夾持器的承載框上設(shè)置真空吸附裝置和分離裝置,先通過(guò)夾持器對(duì)基板進(jìn)行初步的固定,再通過(guò)真空吸附裝置對(duì)基板進(jìn)一步的固定,固定的更加牢靠,解決了單獨(dú)使用夾持機(jī)構(gòu)對(duì)基板固定時(shí),基板在直立運(yùn)輸過(guò)程中存在晃動(dòng)脫落的隱患的問(wèn)題;同時(shí),還設(shè)置了分離裝置,所述分離裝置能夠?qū)⒄婵瘴窖b置和用于對(duì)真空吸附裝置提供形成真空條件的真空管分開(kāi),同時(shí)在真空管與真空吸附裝置分開(kāi)后,真空吸附裝置能夠持續(xù)對(duì)基板進(jìn)行吸附,實(shí)現(xiàn)離線(xiàn)吸附功能,真空管不會(huì)隨著基板一起移動(dòng),避免了由于真空管的長(zhǎng)度不夠或者真空管纏繞鉤掛在其他裝置上影響基板的移動(dòng)。
附圖說(shuō)明
本發(fā)明上述和/或附加方面的優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1是現(xiàn)有的用于傳送基板的承載機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施例一所述的用于離線(xiàn)真空吸附基板的承載機(jī)構(gòu)的示意圖;
圖3是本發(fā)明實(shí)施例一中真空吸頭的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是本發(fā)明實(shí)施例二所述的用于離線(xiàn)真空吸附基板的承載機(jī)構(gòu)的示意圖。
其中圖1至圖4中附圖標(biāo)記與部件名稱(chēng)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系為:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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