[發明專利]蝕刻液組合物及使用其制造液晶顯示器用陣列基板的方法

有效

• 申請號: 201510345815.8
• 申請日: 2015-06-19
• 公開（公告）號: CN105316677B
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發明（設計）人: 崔漢永;金炫佑;李俊雨;田玹守;趙成培
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/14
• 分類號: C23F1/14;C23F1/16;G02F1/1333
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司11270
• 代理人: 武晨燕,胡春光

1.一種蝕刻液組合物，包括：金屬層氧化劑；在分子中同時具有氨基酸基團和聚乙二醇基團的化合物；以及水，

其中，所述在分子中同時具有氨基酸基團和聚乙二醇基團的化合物由下述化學式1表示：

[化學式1]

其中，在該化學式中，R₁和R₂各自獨立地為氫或C1～C8的直鏈或支鏈烷基，R₁和R₂通過彼此結合可形成C4～C10環烷基，并且R₁和R₂通過與氨基結合可形成含氨基的C4～C10雜環；R₃是氫或C1～C8的直鏈或支鏈烷基；以及n是1～20的自然數。

2.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，所述金屬層氧化劑是選自由過氧化氫、過乙酸、酸化金屬、硝酸、過硫酸鹽和氫鹵酸組成的組中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，基于所述組合物的總重量，包括：

1wt％～40wt％的所述金屬層氧化劑；

1wt％～40wt％的所述在分子中同時具有氨基酸基團和聚乙二醇基團的化合物；以及

余量的水。

4.根據權利要求3所述的蝕刻液組合物，還包括選自由0.1wt％～5wt％的氟化合物和0.01wt％～10wt％的含硫原子或磷原子的酸組成的組中的一種或多種。

5.根據權利要求4所述的蝕刻液組合物，其中，所述金屬層氧化劑包含1wt％～25wt％的過氧化氫；并且所述含硫原子或磷原子的酸是磷酸。

6.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，在所述化學式1中，所述C1～C8的直鏈或支鏈烷基是甲基、乙基、丙基或丁基；所述C4～C10環烷基是C5環烷基或C6環烷基；以及n是2～10的自然數。

7.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，所述蝕刻液組合物用于蝕刻銅基金屬層、鉬基金屬層、鈦基金屬層或它們的多層。

8.根據權利要求7所述的蝕刻液組合物，其中，所述多層是銅基金屬層/鉬金屬層或銅基金屬層/鈦基金屬層。

9.一種制造液晶顯示器用陣列基板的方法，包括：

a)在基板上形成柵極的步驟；

b)在包括所述柵極的所述基板上形成柵絕緣體的步驟；

c)在所述柵絕緣體上形成半導體層的步驟；

d)在所述半導體層上形成源極/漏極的步驟；以及

e)形成與所述漏極連接的像素電極的步驟；

其中，步驟a)、d)或e)包括形成金屬層并且使用根據權利要求1至6中任一項所述的蝕刻液組合物蝕刻所述金屬層來形成電極的步驟。