[發(fā)明專利]蝕刻液組合物及使用其制造液晶顯示器用陣列基板的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510345815.8
• 申請日: 2015-06-19
• 公開（公告）號: CN105316677B
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 崔漢永;金炫佑;李俊雨;田玹守;趙成培
• 申請（專利權(quán)）人: 東友精細(xì)化工有限公司
• 主分類號: C23F1/14
• 分類號: C23F1/14;C23F1/16;G02F1/1333
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11270
• 代理人: 武晨燕,胡春光

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種金屬層用蝕刻液組合物及一種使用其制造液晶顯示器用陣列基板的方法。

背景技術(shù)

隨著諸如LCD、PDP和OLED特別是TFT-LCD的平板顯示器屏幕變大，已經(jīng)廣泛重新考慮采用由銅或銅合金組成的單層，或者采用銅或銅合金/其它金屬、其它金屬的合金或者金屬氧化物的大于兩層的多層，以降低布線電阻并提高與介電硅層的粘合性。例如，銅/鉬層、銅/鈦層或銅/鉬-鈦層可形成為TFT-LCD的柵線和構(gòu)成數(shù)據(jù)線的源/漏布線，并且可有助于擴(kuò)大顯示器屏幕。因此，需要開發(fā)具有優(yōu)異蝕刻特性的組合物用于蝕刻含銅基層的這些金屬層。

作為上面提到的蝕刻組合物，通常使用過氧化氫和氨基酸類蝕刻液、過氧化氫和磷酸類蝕刻液、過氧化氫和聚乙二醇類蝕刻液等。

作為一個例子，韓國專利申請公開號10-2011-0031796公開了一種包括水溶性化合物的蝕刻液，具有：A)過氧化氫(H₂O₂)、B)過硫酸鹽、C)具有氨基和羧基的溶解性化合物以及水。

韓國專利申請公開號10-2012-0044630公開了一種用于含銅的金屬層的蝕刻液，包括：過氧化氫、磷酸、環(huán)狀胺化合物、硫酸鹽、氟硼酸和水。

韓國專利申請公開號10-2012-0081764公開了一種蝕刻液，包括：A)氫氧化銨、B)過氧化氫、C)氟化合物、D)多元醇和E)水。

然而，對于含銅基層的金屬層來講，在CD損失、斜度(錐度)、圖案直線度、金屬殘渣、貯存穩(wěn)定性和處理的片材數(shù)量等方面，上面提到的蝕刻液不足以滿足相關(guān)領(lǐng)域中所要求的條件。

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：韓國專利申請公開號10-2011-0031796

專利文獻(xiàn)2：韓國專利申請公開號10-2012-0044630

專利文獻(xiàn)3：韓國專利申請公開號10-2012-0081764

發(fā)明內(nèi)容

因此，已作出了本發(fā)明以解決上述問題，并且本發(fā)明的目的是提供一種蝕刻液組合物，其具有優(yōu)異的工作安全性、貯存穩(wěn)定性，特別是具有優(yōu)異的蝕刻速率和對大量片材的優(yōu)異處理能力；以及提供一種使用該組合物制造液晶顯示器用陣列基板的方法。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的一個方面提供一種蝕刻液組合物，包括：含金屬層氧化劑的化合物；在分子中同時具有氨基酸基團(tuán)和聚乙二醇基團(tuán)的化合物；以及水。

本發(fā)明的另一個方面提供一種制造液晶顯示器用陣列基板的方法，包括：

a)在基板上形成柵極的步驟；

b)在包括所述柵極的所述基板上形成柵絕緣體的步驟；

c)在所述柵絕緣體上形成半導(dǎo)體層的步驟；

d)在所述半導(dǎo)體層上形成源極/漏極的步驟；以及

e)形成與所述源極/漏極連接的像素電極的步驟；

其中，步驟a)、d)或e)包括形成金屬層并且使用根據(jù)本發(fā)明的蝕刻液組合物蝕刻所述金屬層來形成電極的步驟。

本發(fā)明的金屬層蝕刻液組合物提供如下優(yōu)點(diǎn)：通過包含在分子中同時具有氨基酸基團(tuán)和聚乙二醇基團(tuán)的化合物，蝕刻速率得以增加并且可處理大量基板。

此外，作為本發(fā)明的實(shí)施方式，用于含銅基層的金屬層的蝕刻液組合物包含低含量的過氧化氫，并因此它具有如下優(yōu)點(diǎn)：優(yōu)異的工作安全性、價格競爭力和能夠經(jīng)濟(jì)地處置該蝕刻液的效果。進(jìn)一步，它提供了處理大量基板的能力和優(yōu)異的貯存穩(wěn)定性。

進(jìn)一步，使用本發(fā)明中的蝕刻液組合物制造液晶顯示器用陣列基板的方法使能夠通過在液晶顯示器用陣列基板上形成具有優(yōu)異蝕刻輪廓的電極來制造具有優(yōu)異驅(qū)動特性的液晶顯示器用陣列基板。

具體實(shí)施方式

下面，將給出本發(fā)明的詳細(xì)描述。

本發(fā)明涉及一種蝕刻液組合物，包括：金屬層氧化劑；在分子中同時具有氨基酸基團(tuán)和聚乙二醇基團(tuán)的化合物；以及水。

在分子中同時具有氨基酸基團(tuán)和聚乙二醇基團(tuán)的化合物可由化學(xué)式1表示：

[化學(xué)式1]

在該化學(xué)式中，R₁和R₂各自獨(dú)立地為氫或C1～C8的直鏈或支鏈烷基，R₁和R₂通過彼此結(jié)合可形成C4～C10環(huán)烷基，并且R₁和R₂通過與氨基結(jié)合可形成含氨基的C4～C10雜環(huán)；R₃是氫或C1～C8的直鏈或支鏈烷基；以及n是1～20的自然數(shù)。