[發(fā)明專利]一種紅外截止濾光片的制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510342806.3
• 申請日: 2015-06-19
• 公開（公告）號: CN104977639A
• 公開（公告）日: 2015-10-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蘇鳳堅;劉俊;郝正平
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇蘇創(chuàng)光學器材有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B1/115
• 代理公司: 南京同澤專利事務(wù)所(特殊普通合伙) 32245
• 代理人: 石敏

1.一種紅外截止濾光片的制備方法，其特征在于，包括以下具體步驟：

步驟一、開料；取藍玻璃為原料，使用玻璃開料機將藍玻璃原料按需求進行開料；

步驟二、整形；采用數(shù)控機床的金剛石砂輪對晶片的邊角進行磨邊處理；

步驟三、切片；采用金剛砂線切割設(shè)備對整形后的藍玻璃進行切割，從而得到藍玻璃片；

步驟四、倒角；采用數(shù)控機床的金剛石砂輪對晶片的邊角進行倒角處理；

步驟五、研磨；采用研磨機對晶片進行研磨；研磨時，加入研磨液，研磨盤的轉(zhuǎn)速為1000～1200rpm/min；研磨完成后用無水乙醇清洗；所述研磨液組分包括：0.5～2%的顆粒大小為10～20μm的立方氮化硼粉末，14～16%的烷基酚聚氧乙烯醚，4～6%的甘油，9～11%的聚丙二醇400，其余為去離子水；

步驟六、雙面化學拋光；先用無水乙醇對晶片進行清洗，然后將清洗后的晶片放入雙面拋光機中固定；拋光時，加入拋光液，拋光盤對晶片加壓至0.12～0.15?Mpa，拋光盤的轉(zhuǎn)速為1000～1500rpm/min、將拋光好的晶片用無水乙醇清洗后，在室溫下進行自然冷卻；所述拋光液組分包括：0.5～2%的顆粒大小為1～6μm的立方氮化硼粉末，14～16%的烷基酚聚氧乙烯醚，4～6%的甘油，9～11%的聚丙二醇400，0.5～2%的納米二氧化硅，使得拋光液PH值為11.0～13.0的堿性溶液，其余為去離子水；拋光過程中不斷補充堿性溶液以保持拋光液的PH值；

步驟七、鍍膜；采用光學真空鍍膜機對藍玻璃片的正反兩面鍍高透膜，高透膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐層鍍覆而成且層數(shù)為15～25層，最靠近晶片的一層采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或鋁的氧化物，所述高折射率氧化物是鈦或鉭的氧化物；然后在藍玻璃片的正面鍍一層紅外截止膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述紅外截止濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟三中，金剛砂線的直徑為0.14～0.16mm，金剛砂線上金剛石的粒徑為30～40μm，金剛砂線在切割時以12～15m/s的速度運動，藍玻璃相對于金剛砂線的移動速度為0.2～0.3mm/min，切割時不斷向金剛砂線噴灑切割液，所述切割液中含有粒徑為20～30μm?的金剛石顆粒和粒徑為50～60μm?的剛玉顆粒。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述紅外截止濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟五中，所述研磨液中含有粒徑為3～6μm的氧化鋁顆粒。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述紅外截止濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟六中，所述堿性溶液為KOH。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述紅外截止濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟六中，所述拋光液PH值為12.0。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述紅外截止濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟六中，拋光盤對晶片加壓至0.135Mpa。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述紅外截止濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟九中，所述光學真空鍍膜機，采用離子源產(chǎn)生電子光束，先將低折射率氧化物或高折射率氧化物液化后凝固進行預(yù)熔，再將凝固后的低折射率氧化物或高折射率氧化物氣化噴射到晶面上形成膜。