[發(fā)明專利]探測(cè)基板及其制造方法、探測(cè)器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510341771.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-06-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105097860B | 公開(公告)日: | 2018-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭煒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 探測(cè)器 感應(yīng)電極 偏壓電極 探測(cè)基板 光電技術(shù)領(lǐng)域 暗電流噪聲 交替間隔 同層設(shè)置 絕緣塊 制造 探測(cè) 改進(jìn) | ||
本發(fā)明公開了一種探測(cè)基板及其制造方法、探測(cè)器,涉及光電技術(shù)領(lǐng)域,能夠降低暗電流噪聲的影響,提高探測(cè)器的探測(cè)精度。本發(fā)明提供的探測(cè)基板包括:同層設(shè)置的多個(gè)感應(yīng)電極和多個(gè)偏壓電極,且所述感應(yīng)電極和所述偏壓電極交替間隔排列,至少一個(gè)所述感應(yīng)電極與其相鄰的所述偏壓電極之間設(shè)置有絕緣塊。本發(fā)明用于改進(jìn)探測(cè)器。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種探測(cè)基板及其制造方法、探測(cè)器。
背景技術(shù)
目前,X射線攝影裝置被廣泛應(yīng)用于醫(yī)療檢測(cè)、材料探傷、海關(guān)安檢等領(lǐng)域。其中,X射線探測(cè)器是X射線攝影裝置中的關(guān)鍵部件之一,其性能的優(yōu)劣會(huì)對(duì)X射線攝影裝置成像質(zhì)量產(chǎn)生比較大的影響。
如圖1所示,目前較常用的一種X射線探測(cè)器包括X射線探測(cè)基板111和讀取電路6,其中,X射線探測(cè)基板111包括襯底基板11、襯底基板11上的薄膜晶體管5陣列和薄膜晶體管5陣列上的X射線吸收層1,以及位于薄膜晶體管5陣列和X射線吸收層1之間的多個(gè)感應(yīng)電極2和多個(gè)偏壓電極3,且感應(yīng)電極2和偏壓電極3交替間隔排列;其中,每個(gè)薄膜晶體管5的柵極和源極分別與讀取電路6連接,其漏極通過(guò)一個(gè)存儲(chǔ)電容4接地,每個(gè)存儲(chǔ)電容4的非接地端連接感應(yīng)電極2。
當(dāng)采用X射線探測(cè)器進(jìn)行探測(cè)時(shí),請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1,偏壓電極3上加載有正電位,首先,入射的X射線使X射線吸收層1產(chǎn)生電子空穴對(duì),這些電子空穴對(duì)中的空穴在感應(yīng)電極2和偏壓電極3所形成的電場(chǎng)作用下,朝向感應(yīng)電極2方向移動(dòng),并經(jīng)感應(yīng)電極2存儲(chǔ)到存儲(chǔ)電容4中;然后,讀取電路6控制各薄膜晶體管5逐個(gè)開啟,以讀出每個(gè)存儲(chǔ)電容4存儲(chǔ)的電荷量。對(duì)于每一薄膜晶體管5,其連接的存儲(chǔ)電容4存儲(chǔ)的電荷量與其所對(duì)應(yīng)的X射線吸收層1區(qū)域接收到的X射線量相關(guān),通過(guò)讀取電路6讀出的電荷量便可以知道入射到X射線探測(cè)基板111上的X射線分布,完成X射線的探測(cè)。
然而,在上述探測(cè)過(guò)程中,X射線吸收層1會(huì)隨機(jī)產(chǎn)生由環(huán)境溫度所激發(fā)的電子空穴對(duì),由環(huán)境溫度所激發(fā)的空穴與X射線所激發(fā)的空穴一樣會(huì)存儲(chǔ)到存儲(chǔ)電容4中,導(dǎo)致通過(guò)讀取電路6獲得的電荷信號(hào)中存在干擾信號(hào),即產(chǎn)生暗電流噪聲,當(dāng)暗電流噪聲較大時(shí)會(huì)嚴(yán)重影響X射線探測(cè)器的探測(cè)精度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種探測(cè)基板及其制造方法、探測(cè)器,能夠降低暗電流噪聲的影響,提高探測(cè)器的探測(cè)精度,進(jìn)而提高探測(cè)器的成像質(zhì)量。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
第一方面,本發(fā)明提供一種探測(cè)基板,包括:同層設(shè)置的多個(gè)感應(yīng)電極和多個(gè)偏壓電極,且所述感應(yīng)電極和所述偏壓電極交替間隔排列,至少一個(gè)所述感應(yīng)電極與其相鄰的所述偏壓電極之間設(shè)置有絕緣塊。
優(yōu)選地,每一個(gè)所述感應(yīng)電極與其相鄰的所述偏壓電極之間均設(shè)置有絕緣塊。
在本發(fā)明的探測(cè)基板中的感應(yīng)電極和偏壓電極同層設(shè)置且交替間隔排列,相鄰的感應(yīng)電極和偏壓電極之間的間隔處電場(chǎng)強(qiáng)度最大,因而感應(yīng)電極從上述間隔處收集電子/空穴的能力最強(qiáng),本發(fā)明的探測(cè)基板在上述間隔處設(shè)置絕緣塊,取代了現(xiàn)有技術(shù)中在間隔處由X射線吸收層材料填充的結(jié)構(gòu),由于環(huán)境溫度不能從絕緣塊中激發(fā)出電子空穴對(duì),因而,可以減少上述間隔處產(chǎn)生的由環(huán)境溫度激發(fā)的電子空穴對(duì)數(shù)量,從而有效減少收集到的由環(huán)境溫度激發(fā)的電子/空穴數(shù)量,從而降低暗電流噪聲的影響,提高X射線探測(cè)器的探測(cè)精度,提高X射線攝影裝置的成像質(zhì)量。
第二方面,本發(fā)明還提供一種探測(cè)器,包括上述任一種的探測(cè)基板。
第三方面,本發(fā)明還提供一種探測(cè)基板的制造方法,包括:
形成同層設(shè)置的多個(gè)感應(yīng)電極和多個(gè)偏壓電極,且所述感應(yīng)電極和所述偏壓電極交替間隔排列;
在至少一個(gè)所述感應(yīng)電極與其相鄰的所述偏壓電極之間形成絕緣塊。
本發(fā)明提供的探測(cè)器和探測(cè)基板的制造方法,與本發(fā)明提供的探測(cè)基板具有相同的有益效果,此處不再贅述。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





