[發明專利]液體處理裝置在審
| 申請號: | 201510320759.2 | 申請日: | 2015-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN105314710A | 公開(公告)日: | 2016-02-10 |
| 發明(設計)人: | 今井伸一 | 申請(專利權)人: | 松下知識產權經營株式會社 |
| 主分類號: | C02F1/46 | 分類號: | C02F1/46 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王靈菇;白麗 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液體 處理 裝置 | ||
技術領域
本公開涉及使用了等離子體的液體處理裝置。
背景技術
已知有利用水的電解來生成離子水的離子水生成裝置。例如,專利文獻1中記載的離子水生成裝置在浸漬于蒸餾水的電極對之間形成放電場介于其間的電流路徑來進行電解。此外,為了使放電場內產生菱式放電,在電極對之間施加電壓。在專利文獻1中記載有:通過水的電解,在正極側生成酸性水、在負極側生成堿性水。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2012-75973號公報
發明內容
本發明所要解決的課題
但是,在上述以往的離子水生成裝置中,存在無法同時或長時間生成足夠濃度的堿性水和酸性水這兩者的課題。
因此,本公開提供一種能夠生成足夠濃度的堿性水和酸性水的液體處理裝置。
用于解決課題的手段
本公開一個方式的液體處理裝置具備:反應槽,其被分割成液體在相互間的移動被抑制的第1空間和第2空間,液體可分別流入所述第1空間和第2空間;和等離子體生成器,其用于在所述液體中產生等離子體,其包含:至少一部分配置在所述第1空間中的第1電極、至少一部分配置在所述第2空間中的第2電極、和用于向所述第1電極與所述第2電極之間施加交流電壓或脈沖電壓的電源;其中,所述反應槽包含用于在所述第1空間與所述第2空間之間傳導離子或電子的內壁。
發明效果
根據本發明,能夠同時生成足夠濃度的堿性水和酸性水這兩者。
附圖說明
圖1是表示實施方式1的液體處理裝置的構成的圖。
圖2是表示實施方式1的液體處理裝置的第2電極和絕緣體的構成的圖。
圖3A是表示實施方式1的液體處理裝置的第2電極和絕緣體的立體圖。
圖3B是表示實施方式1的液體處理裝置的第2電極和絕緣體的剖視圖。
圖4是表示實施方式1的液體處理裝置的動作的流程圖。
圖5是表示實施方式1的液體處理裝置的第1電極和第2電極各自附近的pH的圖。
圖6A是表示在實施方式1的液體處理裝置的正極產生的物質的圖。
圖6B是表示在實施方式1的液體處理裝置的負極產生的物質的圖。
圖7是示意性地表示使用了實施方式1的液體處理裝置的去污情形的圖。
圖8是表示使用了實施方式1的液體處理裝置的去污方法的流程圖。
圖9是表示實施方式1的液體處理裝置的另一構成的圖。
圖10是表示實施方式1的變形例的液體處理裝置的第2電極和絕緣體的構成的圖。
圖11是表示實施方式2的液體處理裝置的構成的圖。
圖12是表示實施方式2的液體處理裝置的動作的流程圖。
圖13是表示實施方式2的液體處理裝置的第1電極和第2電極附近的pH的圖。
圖14是示意性地表示使用了實施方式2的液體處理裝置的去污情形的圖。
圖15是表示實施方式3的液體處理裝置的構成的圖。
圖16是表示實施方式3的液體處理裝置的第1電極和第2電極附近的pH的圖。
符號說明
10、11、300、400液體處理裝置20、420反應槽
21、421空間22、422第1空間
23、423第2空間24、25供給口
26、27排出口28、29支管
30隔壁40水
41第1水42第2水
43堿性水44酸性水
50、51閥60處理對象物
61污物100等離子體生成器
110第1電極120、220第2電極
121中空部122絕緣體
123空隙124開口部
125保持塊130電源
131、132整流元件140氣體供給器
141氣泡142等離子體
220a金屬電極部220b金屬螺紋部
221貫通孔330隔壁
430分離層340靜水
341第1水342第2水
424供給口426排出口
428壓力控制口
具體實施方式
(構成本公開基礎的見解)
本發明人發現在“背景技術”部分中記載的以往的離子水生成裝置存在以下問題。
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