[發明專利]液體處理裝置在審
| 申請號： | 201510320759.2 | 申請日： | 2015-06-12 |
| 公開（公告）號： | CN105314710A | 公開（公告）日： | 2016-02-10 |
| 發明（設計）人： | 今井伸一 | 申請（專利權）人： | 松下知識產權經營株式會社 |
| 主分類號： | C02F1/46 | 分類號： | C02F1/46 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 王靈菇;白麗 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 液體 處理 裝置 | ||
1.一種液體處理裝置，其具備：
反應槽，其被分割成液體在相互間的移動被抑制的第1空間和第2空間，液體可分別流入所述第1空間和所述第2空間；和
等離子體生成器，其用于在所述液體中產生等離子體，其包含：至少一部分配置在所述第1空間中的第1電極、至少一部分配置在所述第2空間中的第2電極、和用于向所述第1電極與所述第2電極之間施加交流電壓或脈沖電壓的電源；
其中，所述反應槽包含用于在所述第1空間與所述第2空間之間傳導離子或電子的內壁。
2.根據權利要求1所述的液體處理裝置，其中，
所述內壁包含將所述第1空間和所述第2空間分隔開的隔壁，
所述隔壁用于在所述第1空間與所述第2空間之間傳導離子或電子。
3.根據權利要求2所述的液體處理裝置，其中，
所述隔壁是離子交換膜或電子交換膜。
4.根據權利要求2所述的液體處理裝置，其中，
所述隔壁是多孔質膜。
5.根據權利要求1～4中任一項所述的液體處理裝置，其中，
所述反應槽具備：
用于向所述第1空間供給所述液體的第1供給口，
用于向所述第2空間供給所述液體的第2供給口，
用于從所述第1空間排出所述液體的第1排出口，和
用于從所述第2空間排出所述液體的第2排出口。
6.根據權利要求5所述的液體處理裝置，其中，
所述等離子體生成器在如下狀態下產生等離子體：在所述第1空間中所述液體從所述第1供給口向第1排出口流動，在所述第2空間中所述液體從所述第2供給口向第2排出口流動。
7.根據權利要求1～4中任一項所述的液體處理裝置，其中，
所述等離子體生成器在使所述液體滯留在所述第1空間和所述第2空間中的狀態下產生等離子體。
8.根據權利要求1～4中任一項所述的液體處理裝置，其中，
所述等離子體生成器還具備向所述反應槽內的所述液體供給氣體的氣體供給器，
并且所述氣體供給器供給所述氣體，以用所述氣體覆蓋所述第1電極或所述第2電極。
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