[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201510315762.5
• 申請日: 2015-06-10
• 公開（公告）號: CN106206232B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: 小野田正敏
• 申請（專利權）人: 日新離子機器株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司11290
• 代理人: 周善來,李雪春

技術領域

本發明涉及在處理室內對基板實施例如離子注入等處理的基板處理裝置。

背景技術

作為以往的基板處理裝置，如專利文獻1所示，有下述的裝置：該裝置具備：處理室，在該處理室中向立起的基板照射離子束；以及閘室(預真空室)，與所述處理室鄰接設置，以將基板放倒為水平的狀態收容基板。所述基板處理裝置通過用設置于處理室中的支架移動機構將設置于處理室中的兩個呈平板狀的支架(臺板)交替往返移動，對保持在支架上的基板進行離子注入。

具體地進行說明，所述支架移動機構由線性運動機構和轉動機構構成，所述線性運動機構由設置于處理室內的滾珠絲杠和與該滾珠絲杠螺紋連接的滾珠螺母構成，所述轉動機構使支架在水平狀態與立起狀態之間轉動。

支架支承臂為L形，具備安裝在滾珠螺母上并與滾珠絲杠垂直地延伸的根部臂、以及從所述根部臂的前端起與滾珠絲杠平行地延伸的支承臂，所述支架支承臂的前端安裝有所述支架的側緣。另外，支架面與由所述根部臂及支承臂形成的面在同一個平面上。

通過這種結構，以如下的方式將基板從閘室向處理室移動。

首先，在通過所述轉動機構使支架支承臂成為放倒的狀態亦即使支架成為水平狀態后，通過所述線性運動機構使支架進入所述閘室，將處于水平狀態的基板保持在支架上。接著，使保持有基板的支架后退并將其取出到處理室內。隨后，通過利用所述轉動機構使支架支承臂轉動并立起，使支架和保持在該支架上的基板立起。而后，在保持所述姿勢的狀態下，通過所述線性運動機構將基板移動到照射離子束的離子束照射區域。使被照射了離子束后的基板以與所述步驟相反的步驟返回到閘室內。

從所述結構可知，支架的側緣(即，與通過滾珠絲杠移動的移動方向垂直的端緣)以懸臂的方式支承在支架支承臂的前端。此外，支承所述支架支承臂的滾珠螺母，在所述支架的移動方向上位于支架的外側。

可是，近年來玻璃基板的尺寸正在大型化，已經達到第十代(基板尺寸2850mm×3050mm)的程度。此外，需要滿足與基板的大型化無關地提高基板處理裝置的生產率的要求。

認為，所述的專利文獻1的基板處理裝置由于是將兩個基板上下重疊輸送的方式，所以不僅可以減小裝置尺寸，還可以提高生產率。

可是，在所述以往的結構中，由于因基板的大型化導致保持基板的支架也大型化，所以會產生例如下述的問題。

(1)在以往的結構中，在閘室與處理室之間，以不在中途交接基板的方式邊改變其姿勢邊用單個支架保持并移動基板，因此支架的支承結構變得復雜且勉強(例如為了能將基板插入閘室內，將支架支承臂形成為前述的L形等長的形狀，并用該支架支承臂以懸臂的方式支承支架的側緣)，因而，由于基板和支架的大型化、沉重化，所以變得往往在所述支架支承臂、以及移動該支架支承臂的所述線性運動機構和轉動機構等上作用過大的力。

具體地進行說明，由于所述滾珠螺母通過L形的支架支承臂在支架移動方向的外側支承支架，所以如果支架大型化并且重量增加，則不論支架是在立起姿勢還是水平姿勢的任意姿勢情況下，都存在下述問題：滾珠螺母上總是會作用大的力矩，支架的支承變得不穩定，會損害滾珠螺母的移動的平滑性。

(2)不得不采用能使大型化后的支架進入閘室的結構，需要加大閘室的容積。

(3)由于閘室用于不使處理室返回大氣氣氛就能在處理室和大氣之間取放基板，所以在交換基板時閘室從真空氣氛變為大氣氣氛、或從大氣氣氛變為真空氣氛。如上所述，如果閘室的容積變大，則用于切換閘室的氣氛所花費的時間的會變多。

現有技術文獻

專利文獻1：日本專利公開公報特開平10-135146號

發明內容

因此，本發明是用于解決所述的問題而做出的發明，本發明的主要目的是提供一種基板處理裝置，其能夠穩定地支承大型化了的支架，并且能夠防止因支架的大型化而導致閘室的大容量化，并能縮短切換所述閘室的氣氛的時間。