[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510315762.5
• 申請(qǐng)日: 2015-06-10
• 公開（公告）號(hào): CN106206232B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小野田正敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日新離子機(jī)器株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01J37/32
• 分類號(hào): H01J37/32;H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11290
• 代理人: 周善來,李雪春

1.一種基板處理裝置，其特征在于，

所述基板處理裝置包括：

處理室，在該處理室中在真空氣氛下處理基板；

閘室，收容所述基板，被切換為大氣氣氛或真空氣氛；

輸送室，設(shè)置在所述處理室和所述閘室之間，在真空氣氛下在所述處理室和所述閘室之間輸送所述基板；

兩個(gè)支架，設(shè)置在所述處理室中，分別保持基板；

支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)，至少使所述兩個(gè)支架在接收從所述輸送室輸送來的所述基板的接收位置與處理所述基板的處理位置之間移動(dòng)，并且在所述接收位置使所述兩個(gè)支架成為上下排列的狀態(tài)；以及

基板輸送機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述輸送室中，將收容在所述閘室中的所述基板以上下排列的狀態(tài)統(tǒng)一輸送到位于所述接收位置的所述兩個(gè)支架，

所述支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括：

線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述兩個(gè)支架分別沿按各個(gè)支架設(shè)定在規(guī)定的軸向上的彼此不同的移動(dòng)路徑移動(dòng)；以及

轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述兩個(gè)支架繞所述規(guī)定的軸向轉(zhuǎn)動(dòng)，

所述線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)在比所述支架的所述規(guī)定的軸向上的兩端更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置支承所述支架。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述兩個(gè)支架分別獨(dú)立地轉(zhuǎn)動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過使所述支架轉(zhuǎn)動(dòng)，使所述基板在倒伏位置和立起位置之間進(jìn)行姿勢(shì)變更，

所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上下錯(cuò)開，使得當(dāng)使一方的支架處于所述倒伏位置時(shí)，所述一方的支架不與另一方的支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸干涉。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，所述基板處理裝置還包括基板位置修正機(jī)構(gòu)，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)使所述一方的支架處于立起位置時(shí)的基板的上下方向的位置與所述另一方的支架處于立起位置時(shí)的基板的上下方向的位置一致。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置在設(shè)于所述閘室中的基板臺(tái)上，通過使分別放置有上下兩個(gè)基板的上側(cè)臺(tái)面和下側(cè)臺(tái)面中的至少一方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)，使所述上側(cè)臺(tái)面和下側(cè)臺(tái)面的錯(cuò)開量與因所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的所述基板的位置的錯(cuò)開量相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述基板輸送機(jī)構(gòu)上，通過使分別放置有上下兩個(gè)基板的上側(cè)輸送面和下側(cè)輸送面中的至少一方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)，使所述上側(cè)輸送面和所述下側(cè)輸送面的錯(cuò)開量與因所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的所述基板的位置的錯(cuò)開量相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述兩個(gè)支架包括上側(cè)支架和下側(cè)支架，

所述基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述支架上、所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上或所述支架與所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)之間，通過使分別保持有上下兩個(gè)基板的所述上側(cè)支架和所述下側(cè)支架中的至少一方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)，使所述上側(cè)支架和所述下側(cè)支架的錯(cuò)開量與因所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的所述基板的位置的錯(cuò)開量相同。