[發(fā)明專利]OLED材料真空熱蒸鍍用掩膜板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510299297.0 | 申請日: | 2015-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN105088135B | 公開(公告)日: | 2018-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 匡友元 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | oled 材料 真空 熱蒸鍍用掩膜板 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及有機發(fā)光二極管顯示器的制作領(lǐng)域,尤其涉及一種OLED材料真空熱蒸鍍用掩膜板。
背景技術(shù)
有機發(fā)光二級管顯示器(Organic Light Emitting Diode,OLED)是一種極具發(fā)展前景的平板顯示技術(shù),它具有十分優(yōu)異的顯示性能,特別是自發(fā)光、結(jié)構(gòu)簡單、超輕薄、響應(yīng)速度快、寬視角、低功耗及可實現(xiàn)柔性顯示等特性,被譽為“夢幻顯示器”,再加上其生產(chǎn)設(shè)備投資遠小于TFT-LCD,得到了各大顯示器廠家的青睞,已成為顯示技術(shù)領(lǐng)域中第三代顯示器件的主力軍。目前OLED已處于大規(guī)模量產(chǎn)的前夜,隨著研究的進一步深入,新技術(shù)的不斷涌現(xiàn),OLED顯示器件必將有一個突破性的發(fā)展。
OLED具有依次形成于基板上的陽極、有機發(fā)光層和陰極。OLED各功能材料層與陰極金屬層薄膜通過真空熱蒸鍍工藝制備,即在真空腔體內(nèi)加熱有機小分子材料,使其升華或者熔融氣化成材料蒸汽,透過金屬掩膜板(Mask)的開孔沉積在玻璃基板上。掩膜板的作用是使OLED材料蒸鍍到設(shè)計的位置,因此掩膜板的開孔位置、形狀以及表面平整度都相當重要。
如圖1所示,現(xiàn)有掩膜板包括掩膜框架100和通過激光電焊固定在掩膜框架100上的掩膜200,焊點300位于掩膜框架100上。掩膜在使用一段時間后,上邊會沉積一定厚度的OLED材料,在重力作用下容易導(dǎo)致掩膜下垂變形,而且OLED材料也可能堵塞開孔,或者使開孔有效尺寸變小。所以,掩膜在使用一定的時間后,就需要進行清洗,甚至要更換一張新的掩膜。
當需要更換一張新的掩膜時,需要把原來的掩膜與掩膜邊框分離,去掉掩膜,并對掩膜邊框表面進行研磨拋光。因為原來的點焊位置應(yīng)該有凸起,需要將掩膜邊框表面研磨成平面(平面度在50微米內(nèi))。同時,在原來的點焊位置,焊接時的熱量也等于是給焊點位置進行了熱處理,導(dǎo)致點焊位置硬度變大,所以這一層硬化層也需要研磨去掉,以便不影響下一片掩膜的點焊效果,每對掩膜邊框的焊接面進行一次打磨,就要消耗一定厚度(0.1-1mm)。
這樣的情況下,如圖2、圖3所示,多次更換掩膜后,掩膜邊框100經(jīng)過多次拋光,厚度會逐漸變薄,中部下垂,不僅影響到邊框的結(jié)構(gòu)強度,使用時基板與掩膜存在一定空隙,也會影響到掩膜200在蒸鍍設(shè)備里的對位位置,導(dǎo)致OLED發(fā)光元件出現(xiàn)混色等品質(zhì)不良。所以,掩膜邊框經(jīng)過研磨拋光一定的厚度后就需要報廢,并且掩膜邊框需要運輸?shù)接写笮蛼伖饽ゴ驳膹S家進行研磨拋光,比較耗時,所以需要制作多塊掩膜邊框備用,導(dǎo)致生產(chǎn)成本增加。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種OLED材料真空熱蒸鍍用掩膜板,其掩膜邊框能夠重復(fù)多次使用,減少掩膜邊框的報廢量,提高掩膜邊框的利用率,同時能夠減少掩膜邊框的備份數(shù)量,節(jié)約材料及生產(chǎn)成本。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種OLED材料真空熱蒸鍍用掩膜板,包括掩膜邊框、固定于所述掩膜邊框上的插條、及固定于所述插條上的掩膜;
所述掩膜邊框包括四條邊,該四條邊圍攏出一對應(yīng)掩膜的開口;將所述掩膜邊框靠近掩膜一側(cè)的表面定義為上表面,掩膜邊框的每條邊上均設(shè)置一溝槽;
所述插條固定于所述溝槽內(nèi),所述插條的上表面與所述溝槽的上表處于同一平面上;所述掩膜通過點焊固定于插條上,焊點位于插條上;
所述插條的上表面的寬度小于所述插條位于所述溝槽內(nèi)的寬度。
所述溝槽位于所述掩膜邊框的每條邊的中部,所述溝槽凹陷于所述掩膜邊框的上表面。
每條溝槽下方設(shè)有至少兩個第一通孔,所述插條對應(yīng)所述第一通孔設(shè)有一第一螺紋孔;一第一螺釘穿過所述第一通孔鎖合于第一螺紋孔內(nèi),從而將所述插條固定于所述溝槽內(nèi)。
所述溝槽位于所述掩膜邊框的每條邊的外周,所述溝槽形成于所述掩膜邊框的上表面與外側(cè)面之間。
每條溝槽下方設(shè)有至少兩個第一通孔,所述插條對應(yīng)所述第一通孔設(shè)有一第一螺紋孔;每條插條在其寬度方向上設(shè)有至少兩個第二通孔,所述溝槽側(cè)方對應(yīng)所述第二通孔設(shè)有第二螺紋孔;一第一螺釘穿過所述第一通孔鎖合于第一螺紋孔內(nèi),一第二螺釘穿過所述第二通孔鎖合于第二螺紋孔內(nèi),從而將所述插條固定于所述溝槽內(nèi)。
所述插條與所述溝槽在尺寸上形成緊密配合。
所述插條的橫截面為多邊形或帶有圓弧的多邊形。
所述插條的橫截面為梯形。
所述插條與所述掩膜邊框均為金屬材料。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市華星光電技術(shù)有限公司,未經(jīng)深圳市華星光電技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510299297.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





