[發(fā)明專利]退火氧化設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510278862.5
• 申請日: 2015-05-27
• 公開（公告）號: CN104916740B
• 公開（公告）日: 2017-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張松;劉超;劉成法;徐大超;王鵬磊;季海晨;高云峰
• 申請（專利權(quán)）人: 上海大族新能源科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 何沖

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及太陽能電池制備領(lǐng)域，特別是涉及退火氧化設(shè)備。

背景技術(shù)

目前，高效、低成本為晶硅太陽電池發(fā)展的主要趨勢。其中，離子注入技術(shù)、表面SiO₂/SiNx疊層膜鈍化技術(shù)廣泛地應(yīng)用在高效電池的制備工藝中。離子注入技術(shù)是一種把摻雜劑的原子引入固體中的一種材料改性方法。簡單地說，離子注入的過程，就是在真空系統(tǒng)中，用經(jīng)過加速的，要摻雜的原子的離子照射(注入)固體材料，從而在所選擇的(即被注入的)區(qū)域形成一個具有特殊性質(zhì)的表面層(注入層)。

在離子注入技術(shù)后續(xù)的過程中需要增加退火工藝以激活硅片內(nèi)的摻雜源，使其從間隙式摻雜形成有效的替位式摻雜，同時高溫通入氧氣，在硅片表面形成一層氧化硅薄膜，達到良好的表面鈍化效果。一般地，離子注入技術(shù)的退火工藝是在離子注入后進行特定的濕法化學處理，甩干后放入管式設(shè)備中進行退火氧化處理，管式設(shè)備需經(jīng)過上料、進管、升溫、氧化、降溫、退管、下料等流程，步驟較多，生產(chǎn)時間長。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要提供一種可以節(jié)約生產(chǎn)時間的退火氧化設(shè)備。

一種退火氧化設(shè)備，包括：

爐體，一端設(shè)有進料口，另一端設(shè)有出料口，所述爐體包括相互連通的加熱區(qū)和冷卻區(qū)，所述冷卻區(qū)靠近所述出料口；

傳送裝置，位于所述爐體內(nèi)部，自所述進料口向所述出料口延伸；

進氣裝置，位于所述爐體內(nèi)部并與所述爐體連通；

加熱裝置，位于所述爐體外部，用于升高所述加熱區(qū)內(nèi)的溫度；

冷卻裝置，位于所述爐體外部，用于控制所述冷卻區(qū)內(nèi)的降溫速度；

保溫層，包覆所述爐體的外壁，并位于所述加熱裝置和所述冷卻裝置的外部；以及

控制裝置，分別與所述傳送裝置、所述加熱裝置、所述進氣裝置和所述冷卻裝置連接。

上述退火氧化設(shè)備，硅片經(jīng)進料口進入爐體，經(jīng)傳送裝置自進料口向出料口運動，硅片在爐體內(nèi)經(jīng)加熱區(qū)向冷卻區(qū)運動的過程中，進氣裝置不斷向爐體內(nèi)輸送氧氣，控制裝置通過控制加熱裝置、冷卻裝置、進氣裝置以及傳送裝置進而調(diào)節(jié)加熱區(qū)內(nèi)的升溫速度、爐體內(nèi)氣體流量、冷卻區(qū)的降溫速度和硅片的傳送速度，同時保溫層保持爐體內(nèi)溫度的穩(wěn)定，從而完成硅片的退火工藝。硅片在從爐體中傳送并輸出的同時完成了硅片的退火氧化，減少了操作步驟，節(jié)約了生產(chǎn)時間。

在其中一個實施例中，所述進料口處設(shè)有進料擋板，所述出料口處設(shè)有出料擋板，所述進料擋板和所述出料擋板均與所述爐體連接。

在其中一個實施例中，還設(shè)有降溫裝置，所述降溫裝置位于所述保溫層外部，所述降溫裝置與所述控制裝置連接。

在其中一個實施例中，所述加熱裝置的數(shù)量為多個，多個所述加熱裝置對稱地設(shè)置在所述爐體外部。

在其中一個實施例中，所述冷卻裝置的數(shù)量為多個，多個所述冷卻裝置對稱地設(shè)置在所述爐體外部。

在其中一個實施例中，所述加熱區(qū)的數(shù)量為多個，每個所述加熱區(qū)均設(shè)有所述加熱裝置。

在其中一個實施例中，所述加熱裝置為電阻絲或紅外燈管。

在其中一個實施例中，所述爐體的材質(zhì)為石英。

在其中一個實施例中，所述傳送裝置為導軌或傳送帶。

在其中一個實施例中，所述導軌或傳送帶的材質(zhì)為非金屬耐高溫材料。

附圖說明

圖1為一實施方式的退火氧化設(shè)備的截面圖；

圖2為圖1所示的退火氧化設(shè)備的側(cè)視圖；

附圖標記：

10、退火氧化設(shè)備；20、硅片；100、爐體；200、傳送裝置；300、進氣裝置；400、加熱裝置；500、冷卻裝置；600、保溫層；700、控制裝置；800、降溫裝置；110、加熱區(qū)；120、冷卻區(qū)；102、進料口；104、出料口；130、進料擋板；140、出料擋板。

具體實施方式

為了便于理解本發(fā)明，下面將參照相關(guān)附圖對本發(fā)明進行更全面的描述。附圖中給出了本發(fā)明的較佳的實施例。但是，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實現(xiàn)，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本發(fā)明的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。