[發明專利]一種膜結構單層多點的電容式觸摸屏感應器制作工藝

在審

• 申請號: 201510275930.2
• 申請日: 2015-05-27
• 公開（公告）號: CN104820534A
• 公開（公告）日: 2015-08-05
• 發明（設計）人: 許明旭;敖龍華;曾昭杰
• 申請（專利權）人: 廣東泰通科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 倪小敏;鄭永泉

技術領域

本發明屬于觸摸屏制作技術領域，具體涉及一種膜結構單層多點的電容式觸摸屏感應器制作工藝。

背景技術

觸摸屏是一種將感應信號轉化為數字信號，實現人機交互的一種裝置；其中電容觸摸屏是將手指或者導電介質在觸摸時與基板上的電極間所產生的電容變化，通過驅動芯片的數字轉換，輸出手指或者導電介質觸控的坐標位置。目前電容觸摸屏已經廣泛應用于手機，平板等領域。現在主流的電容式觸摸屏結構有G+F、G+F2、OGS、on-cell、in-cell等結構。其中，G+F的單層設計中，為了實現單層多點觸控采用的圖案設計無法滿足在同一平面內布線不交叉的條件，只能采用跳線的設計。目前單層多點的跳線設計存在制作精度較低、平滑度不夠、良品率低等缺點。

電容式觸摸屏感應器的制作方法主要有印刷制程、鐳雕制程和黃光制程等；印刷制程工藝簡單，設備成本較低，但其線路精度只能做到0.1mm，而且線性度較差，觸控感應不靈敏，不適合大尺寸的感應器制作；鐳雕制程線路精度可達到0.05mm，但存在工藝效率和爆點問題，不適合復雜圖形的批量生產；黃光制程線路精度可達到0.04mm，線性度良好，觸控感應靈敏，支持復雜圖形的設計，是目前比較主流的生產方式。傳統的黃光制程工藝是對感應器的ITO?層采用曝光顯影的制作方法，對金屬層采用銀漿印刷的方法，這樣的工藝需要兩次圖像成型，工序較為復雜，對上下層圖形的對位精準度要求較高，金屬層線寬較大，優良率低。

現有公開的一種GF2?雙面導電薄膜結構的觸控模組的制作工藝，它依次包括以下步驟：步驟A、干膜覆合：在導電薄膜的雙面貼合干膜；步驟B、曝光、顯影；步驟C、第一次蝕刻、剝膜；步驟D、耐酸印刷；步驟E、第二次蝕刻、剝膜；步驟F、絕緣印刷；步驟G、覆膜分切。該方法采用干膜工藝，干膜制程會產生膜渣的，造成污染物多，且產品的厚度會比較厚，費用成本較高，精細的線路合格率降低，在制作中干膜制成容易存在毛邊和裂痕，生產過程容易影響良率等缺點；其次，干膜制成還會導致膜覆蓋性能較差，產品的線寬距受到限制等缺點。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的缺陷，提供一種基于一次曝光成型的膜結構觸摸屏感應器黃光工藝的單層多點方案，采用濕膜制作工藝，增強了膜的附著力，覆蓋性能好，改善了線寬線距，降低了產品厚度，提高單層多點類觸摸屏產品的制作精度、平滑度、良品率等。實現了單層多點的突破，回避了玻璃結構的單層多點（OGS）產品易碎裂、良品率低等缺點；同時又區別于傳統多次曝光的膜結構單層多點產品，相比之下更加節省材料，節省工時，且不產生污染，厚度更薄；而且最終成品具有比普通膜結構單層多點更細的線寬線距，優于同等線寬線距下的鐳射工藝的線路平滑性。

為了實現上述目的，本發明提供的一種膜結構單層多點的電容式觸摸屏感應器制作工藝，依次包括以下步驟：

S1、涂布：在鍍銅ITO膜表面上涂敷液態光阻劑，并烘烤使得所述液態光阻劑固化為光阻層；

S2、曝光：對涂敷在鍍銅ITO膜表面上的光阻層進行曝光；

S3、顯影：將曝光后的鍍銅ITO膜用堿性溶液顯影；

S4、第一次蝕刻：將顯影后的鍍銅ITO膜用酸性溶液進行蝕刻，同時在鍍銅金屬層和ITO膜上形成圖案；本步驟利用酸性溶液同時對金屬層和ITO進行蝕刻，在金屬層和ITO上都形成圖案；

S5、第一次剝膜：將蝕刻后的鍍銅ITO膜用堿性溶液去除鍍銅ITO膜表面的光阻層；

S6、油墨印刷：在剝膜后的鍍銅ITO膜上印刷耐酸油墨，經紫外燈照射下固化耐酸油墨，以保護可視區外的經步驟S4蝕刻形成的金屬線路圖案；

S7、第二次蝕刻：將印刷耐酸油墨后的鍍銅ITO膜用強氧化性溶液進行浸泡或噴淋，進一步蝕刻可視區的金屬層；利用第二次蝕刻，將進一步蝕刻可視區的金屬層，使經過第一次蝕刻后在金屬層和ITO上形成圖案更加精準；

S8、第二次剝膜：將經過步驟S7后的鍍銅ITO膜用堿性溶液進行浸泡或噴淋，去除耐酸油墨；

S9、絕緣印刷：在經過步驟S8后的鍍銅ITO膜上印刷透明的絕緣油墨，并在紫外燈照射下固化；

S10、銀漿印刷：在經過步驟S9后的鍍銅ITO膜上印上導電銀漿，并在紫外燈下固化形成跳線，得到所述膜結構單層多點的電容式觸摸屏感應器。

進一步的，所述的步驟S1中涂敷液態光阻劑為正性光刻膠，厚度為4~7?um，所述烘烤固化溫度為120~130℃。