[發(fā)明專利]一種異質(zhì)結(jié)太陽能電池的制備方法及異質(zhì)結(jié)太陽能電池在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510273756.8 | 申請日: | 2015-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN104952964A | 公開(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郁操;張津燕;徐希翔 | 申請(專利權(quán))人: | 福建鉑陽精工設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0747 | 分類號: | H01L31/0747;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京市清華源律師事務(wù)所 11441 | 代理人: | 沈泳;李贊堅 |
| 地址: | 362000 福建省泉*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 異質(zhì)結(jié) 太陽能電池 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及新能源領(lǐng)域,具體涉及一種異質(zhì)結(jié)太陽能電池的制備方法及異質(zhì)結(jié)太陽能電池。
背景技術(shù)
太陽能電池也可以稱之為光伏電池,其是一種利用光伏效應(yīng)將太陽光輻射直接轉(zhuǎn)換為電能的新型發(fā)電技術(shù),因其具有資源充足、清潔、安全、壽命長等優(yōu)點,被認為是最有前途的可再生的能源技術(shù)之一。
晶體硅太陽能電池,包括:單晶硅太陽能電池、多晶硅太陽能電池和高效晶體硅太陽能電池等,由于晶體硅太陽能電池具有較高的轉(zhuǎn)換效率和相對成熟的產(chǎn)業(yè)化技術(shù),一直占據(jù)著整個光伏市場約85%的銷售份額。高效和低成本是光伏技術(shù)生存和發(fā)展的決定性因素,隨著近幾年晶硅制造成本的迅速下降和屋頂電站需求量的增加,高效晶體硅技術(shù)受到業(yè)界越來越多的重視。目前已量產(chǎn)的高效晶體硅電池主要為硅異質(zhì)結(jié)電池(Silicon?Herero-junction?Solar?Cell)技術(shù)和IBC技術(shù),硅異質(zhì)結(jié)電池技術(shù)由于其低溫制備、工藝步驟簡單、溫度系數(shù)良好和產(chǎn)品穩(wěn)定性佳等優(yōu)點,有望成為光伏行業(yè)主流技術(shù)之一。
通常硅異質(zhì)結(jié)太陽能電池結(jié)構(gòu)如圖1所示,包括p型或n型單晶硅片,在單晶硅片的兩側(cè)設(shè)置有非晶硅基本征層,在本征層的一側(cè)設(shè)置n型非晶硅或微晶硅層,另一側(cè)設(shè)置p型非晶硅或微晶硅層;在n型非晶硅成上設(shè)置透明導(dǎo)電氧化層,在p型非晶硅層上設(shè)置透明導(dǎo)電氧化物層或復(fù)合背電極。
在上述制備硅異質(zhì)結(jié)太陽能電池的過程中,由于所述本征層、p型非晶硅層和n型非晶硅層需要在不同的腔室內(nèi)進行,進而導(dǎo)致以下問題的產(chǎn)生:
為了降低生產(chǎn)成本,硅片更換腔室以及翻片需要在大氣環(huán)境中進行,該破空現(xiàn)象也會使本征層與p型非晶硅層,以及本征層與n型非晶硅層的界面形成氧化硅層。上述在本征層與p型非晶硅層,以及本征層與n型非晶硅層的界面形成的氧化硅層會阻礙光生電流的收集,降低短路電流Isc和填充因子FF,進而導(dǎo)致電池效率降低。
如何提供一種異質(zhì)結(jié)太陽能電池的制備方法,以避免在i/p和i/n的界面形成氧化層,而導(dǎo)致電池效率降低。
發(fā)明內(nèi)容
本申請?zhí)峁┮环N異質(zhì)結(jié)太陽能電池的制備方法,以解決上述技術(shù)問題。
本申請?zhí)峁┮环N異質(zhì)結(jié)太陽能電池的制備方法,包括:
提供一襯底,在所述襯底的兩側(cè)設(shè)置本征層,形成異質(zhì)結(jié)太陽能電池的第一結(jié)構(gòu);
通過等離子體對所述第一結(jié)構(gòu)中的所述本征層界面去氧化處理,并在處理后的所述第一結(jié)構(gòu)的兩側(cè)分別設(shè)置摻雜層,形成第二結(jié)構(gòu);
在所述第二結(jié)構(gòu)的兩側(cè)分別形成透明導(dǎo)電層,作為前電極和后電極;或者在所述第二結(jié)構(gòu)的一側(cè)形成透明導(dǎo)電層作為前電極,另一側(cè)形成透明導(dǎo)電氧化物與金屬復(fù)合層作為復(fù)合背電極。
優(yōu)選的,所述通過等離子體對所述第一結(jié)構(gòu)中的所述本征層界面去氧化處理,并在處理后的所述第一結(jié)構(gòu)的兩側(cè)分別摻雜層,形成第二結(jié)構(gòu),具體為,將所述第一結(jié)構(gòu)其中一側(cè)本征層的界面去氧化處理和設(shè)置摻雜層在同一腔室完成,將所述第一結(jié)構(gòu)中的另一側(cè)本征層界面去氧化處理和設(shè)置摻雜層在另一同一腔室完成,或者,所述第一結(jié)構(gòu)其中一側(cè)本征層的界面去氧化處理和設(shè)置摻雜層分別在不同腔室完成,所述第一結(jié)構(gòu)中的另一側(cè)本征層界面去氧化處理和設(shè)置摻雜層分別在不同腔室完成。
優(yōu)選的,所述等離子體采用氫等離子體或者氬等離子體。
優(yōu)選的,采用所述氫等離子體刻蝕條件為:所述蝕刻溫度范圍為大于等于150度,小于等于250度。
優(yōu)選的,所述氫等離子體的氣壓范圍為大于等于0.1mbar,小于等于1.0mbar。
優(yōu)選的,向所述氫等離子體的流量范圍為大于等于200sccm,小于等于1200sccm。
優(yōu)選的,所述氫等離子體的濺射功率范圍為大于等于100w,小于等于1000w;頻率范圍為大于等于13.56MHz,小于等于70MHz。
優(yōu)選的,所述氫等離子的刻蝕時間范圍大于等于1秒,小于等于100秒。
優(yōu)選的,所述氫等離子的刻蝕時間為20秒。
優(yōu)選的,在形成所述第二結(jié)構(gòu)中,采用等離子體增強化學(xué)氣相沉積法或熱絲化學(xué)氣相沉積法去氧化處理。
本申請還提供一種異質(zhì)結(jié)太陽能電池,所述異質(zhì)結(jié)太陽能電池采用如上述的制備方法制備而成。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請具有以下優(yōu)點:
本申請?zhí)峁┑囊环N異質(zhì)結(jié)太陽能電池的制備方法,在設(shè)置摻雜層之前,通過等離子體對第一結(jié)構(gòu)兩側(cè)本征層的界面進行去氧化處理,在界面氧化處理后,形成摻雜層,從而避免在摻雜層與本征層之間形成氧化硅層,進而提高光生電流的收集,使得電池效率提高。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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