[發明專利]一種反射式化學藥液涂抹均勻性檢測方法及裝置

有效

• 申請號: 201510273553.9
• 申請日: 2015-05-26
• 公開（公告）號: CN105115429A
• 公開（公告）日: 2015-12-02
• 發明（設計）人: 雷艷梅;張涵;于復生
• 申請（專利權）人: 雷艷梅
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;G01N21/84
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種反射式化學藥液涂抹均勻性檢測方法及裝置，具體地說是采用了光柵片與CCD相配合，對涂抹在厚度均勻的透明玻璃片上的粘度較大的透明藥液涂抹的均勻性進行檢測的方法及裝置，屬于環保檢測方法及設備領域。

背景技術

在環保檢測中，常常需要在現場進行化學檢驗，在檢驗中經常用到一些早就涂抹好藥液試劑的玻璃片。這些玻璃片上的藥液一般需要早在實驗室內涂抹好并晾干。目前，這些藥液的涂抹主要由人工和設備完成。使用的設備的抹頭一般為圓形的海綿塊，將藥液滴落在海綿塊上后，海綿塊高速旋轉同時由上而下將藥液涂抹在玻璃片上。由于海綿抹頭在應用時的磨損，以及某些藥液的粘度很大等原因使藥液涂抹的均勻性很難保證。因此，迫切需要研發一種可自動對這種粘度較大的自動涂抹的藥液的均勻性進行檢測的設備，而目前沒有這種設備。

光柵片是一種表面刻印有密集的均勻條紋的一種物體。光的折射是指光從空氣斜射入其他介質時，傳播方向發生改變，從而使光線在不同介質的交界處發生偏折。本發明巧妙地應用了光的折射原理，采用了通過觀察放置在涂有透明藥液的透明玻璃下的光柵條紋變形的方式，研制了一種可用來檢測透明藥液的均勻性的裝置。

發明內容

本發明提供了一種反射式化學藥液涂抹均勻性檢測方法及裝置。

本發明是通過以下技術方案實現的：一種反射式化學藥液涂抹均勻性檢測方法，采用光柵片，CCD，將光柵片緊貼著放置在涂有透明藥液的玻璃片的下方，應用CCD在與玻璃片的法線呈一定角度的位置拍攝透過玻璃片與透明藥液的光柵片上的條紋。然后，通過分析條紋的變形情況來判別涂抹的透明藥液的厚度均勻性。此方法應用的光柵片上應有平行、寬度與間距一致且黑白分明的條紋，若CCD拍攝到的圖像上的條紋仍平行且間距一致，說明涂抹在玻璃片上的透明藥液的厚度均勻，若拍攝到的圖像上的條紋有明顯的變形，或平行度發生改變，則說明涂抹的透明藥液的厚度不均勻。采用同種藥液，經標定后，可定量地檢測涂抹的藥液的厚度差值。

一種反射式化學藥液涂抹均勻性檢測裝置，是由光柵片與CCD組成的，其特征在于：光柵片緊貼放置在涂有透明藥液的玻璃片的下方，CCD軸線與玻璃片的法線呈一定角度放置在玻璃片的上方，使CCD能夠完整地拍攝到光柵片上的條紋圖像，所述的光柵片上印有的條紋應平行、黑白相間、寬度與間距一致且黑白分明。

該發明的有益之處是，解決了目前高速自動化涂抹的透明藥液的均勻性的定性和定量檢測問題；通過觀察與玻璃片法線呈一定角度的CCD拍攝的條紋圖像，如果透明藥液與玻璃片在光線方向上厚度分別都是一致的，則透射出的光柵條紋必然還是一組寬度相等、間距一致、互相平行的條紋；如果圖像中的條發生了彎曲或者出現了不平行等現象，則表明了涂抹的藥液厚度不均勻，并且從變形的量上可以計算出厚度上差別的具體數值。

附圖說明

附圖1為光柵片的俯視圖樣；

附圖2為本發明的結構示意圖，其中1為光柵片，2為CCD；

從圖2中可看出光柵片緊貼玻璃片的下方放置，CCD的放置與玻璃片的法線呈一定角度。

具體實施方式

一種反射式化學藥液涂抹均勻性檢測方法，采用光柵片1，CCD2，將光柵片1緊貼放置在涂有透明藥液的玻璃片的下方，應用CCD2在與玻璃片的法線呈一定角度的上方位置拍攝透過玻璃片與透明藥液的光柵片1上的條紋，通過分析拍攝到的條紋的變形情況來判別涂抹的透明藥液的厚度均勻性。此方法應用的光柵片1上刻印的應為平行、寬度與間距一致、黑白分明的條紋，若CCD2拍攝到的圖像上的條紋仍為平行的且間距一致的，說明涂抹在玻璃片上的透明藥液的厚度均勻，若圖像中的條紋有明顯的變形，或平行度發生了改變，則說明涂抹的透明藥液的厚度不均勻。采用同種藥液，經標定后，可定量地檢測涂抹的藥液的厚度差值。

一種反射式化學藥液涂抹均勻性檢測裝置，是由光柵片1與CCD2組成的，其特征在于：光柵片1貼緊放置在涂有透明藥液的玻璃片的下方，CCD2軸線與玻璃片的法線呈一定角度放置在玻璃片的上方，使透過玻璃片與透明藥液的光柵片1的條紋圖像能完整地被CCD2拍攝到，所述的光柵片1上刻印的光柵條紋應平行、黑白相間、寬度與間距一致且黑白分明。

因為使用的玻璃片的厚度是均有的，因而通過觀察CCD2拍攝的圖像可定性地判斷涂抹的透明藥液的均勻性；通過標定，可進一步計算透明藥液厚度上的具體數值。

對于本領域的普通技術人員而言，根據本發明的教導，在不脫離本發明的原理與精神的情況下，對實施方式所進行的改變、修改、替換和變型仍落入本發明的保護范圍之內。