[發明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置

在審

• 申請號: 201510272658.2
• 申請日: 2015-05-25
• 公開（公告）號: CN104834139A
• 公開（公告）日: 2015-08-12
• 發明（設計）人: 崔賢植
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種陣列基板，包括交叉設置的多條柵線和多條數據線，所述交叉設置的多條柵線和多條數據線限定多個像素區域，每一所述像素區域包括薄膜晶體管，其特征在于，所述陣列基板還包括設置在所述薄膜晶體管和所述數據線上方的第一絕緣層，設置于第一絕緣層上方的金屬層和位于金屬層上方的第二絕緣層；以及設置在第二絕緣層上方的像素電極和公共電極，所述像素電極和公共電極之間設置有第三絕緣層，每個所述像素區域中的所述公共電極至少包括兩個狹縫；其中，所述金屬層覆蓋所述數據線上方，所述像素電極通過至少貫穿所述第一絕緣層和所述第二絕緣層的過孔與所述薄膜晶體管的漏極電連接。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層通過貫穿所述第二絕緣層和所述第三絕緣層的過孔與所述公共電極電連接。

3.如權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層包括以下任一種或多種：鉬、銅或者鋁。

4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層的寬度大于所述數據線的寬度，且所述金屬層的寬度中心與所述數據線的寬度中心位于同一直線上。

5.如權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層的寬度為3～4um。

6.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述金屬層的邊緣與所述數據線的邊緣之間的距離為0.8～1.5um。

7.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，相鄰數據線之間的距離不大于14um。

8.一種顯示面板，其特征在于，包括相對設置的彩色基板和權利要求1～7任一權利要求所述的陣列基板。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求8所述的顯示面板。

10.一種制備陣列基板的方法，其特征在于，包括：

形成包括源漏極和數據線的圖形；

形成第一絕緣層；

形成金屬層，所述金屬層位于所述第一絕緣層的上方，且所述金屬層覆蓋所述數據線上方；

形成第二絕緣層，并形成至少貫穿第一絕緣層和第二絕緣層的過孔；

形成像素電極，所述像素電極位于所述第二絕緣層的上方，且所述像素電極通過至少貫穿所述第一絕緣層和所述第二絕緣層的過孔與所述漏極電連接；

形成第三絕緣層；

形成公共電極，所述公共電極位于第三絕緣層上方，且所述公共電極至少包括兩個狹縫。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于，還包括：

形成至少貫穿所述第二絕緣層和第三絕緣層的過孔，所述金屬層通過至少貫穿所述第二絕緣層和第三絕緣層的過孔與所述公共電極電連接。

12.如權利要求10或11所述的方法，其特征在于，所述形成包括源漏極和數據線的圖形的步驟之前，還包括：

在襯底基板上形成柵極；

在所述柵極上沉積柵絕緣層；

在所述柵絕緣層上形成有源層。