[發明專利]一種分層雕刻系統

有效

• 申請號: 201510260552.0
• 申請日: 2015-05-20
• 公開（公告）號: CN104842699B
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發明（設計）人: 單威
• 申請（專利權）人: 安徽一威貿易有限公司
• 主分類號: B44C1/22
• 分類號: B44C1/22;G06F17/50
• 代理公司: 合肥市長遠專利代理事務所(普通合伙)34119
• 代理人: 程篤慶,黃樂瑜

1.一種分層雕刻系統，其特征在于，包括：模型建立模塊、路徑分析模塊、控制模塊、驅動模塊和刀具模塊；

刀具模塊中包含不少于一個可運動地刀具，刀具用于對胚體進行雕刻；

驅動模塊與刀具模塊連接，用于驅動刀具運動；

模型建立模塊用于建立雕刻模型；

路徑分析模塊與模型建立模塊連接，其根據雕刻模型生成多條雕刻路徑，每一條雕刻路徑上各點相對于預設參考模型的進給深度相同；

控制模塊分別與路徑分析模塊和驅動模塊連接，其根據雕刻路徑生成控制指令以控制驅動模塊驅動刀具模塊工作；

路徑分析模塊包括坐標分析單元、區間分析單元和路徑生成單元；

坐標分析單元用于對雕刻模型的表層進行點分解生成表層點集，并根據表層點集中的分解點建立坐標，并在所述坐標中預設由多個參考點組成的參考模型，且表層點集中的每一個分解點均對應參考模型的一個參考點；

區間分析單元與坐標分析單元連接，其根據每一對分解點與參考點的對應關系生成進給值，并根據進給值對分解點進行區間劃分，每一區間中的分解點對應的進給值兩兩之間差值為零；

路徑生成單元與區間分析單元連接，其針對每一區間建立雕刻路徑。

2.如權利要求1所述的分層雕刻系統，其特征在于，控制模塊獲得每一區間中進給值的平均值，根據平均值從大到小的順序依次選擇雕刻路徑控制驅動模塊工作。

3.如權利要求1所述的分層雕刻系統，其特征在于，參考模型為可覆蓋于胚體外側的參考面的集合，當坯體相對于刀具作直線運動，參考面為平行于運動方向的平面；當坯體相對于刀具轉動，參考面為以轉動軸為軸心的圓柱面。

4.如權利要求1所述的分層雕刻系統，其特征在于，參考模型與胚體外表面相重合。

5.如權利要求1所述的分層雕刻系統，其特征在于，還包括檢測模塊，其用于獲取雕刻品圖像，并根據圖像建立實際模型，將實際模型與雕刻模型對比，判斷雕刻品是否合格。

6.如權利要求5所述的分層雕刻系統，其特征在于，檢測模塊根據實際模型生成實際表層點集，根據實際表層點集與表層點集計算實際誤差，并將實際誤差與預設的誤差允許值比較，根據比較結果判斷雕刻品是否合格。