[發明專利]一種分層雕刻系統

有效

• 申請號: 201510260552.0
• 申請日: 2015-05-20
• 公開（公告）號: CN104842699B
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發明（設計）人: 單威
• 申請（專利權）人: 安徽一威貿易有限公司
• 主分類號: B44C1/22
• 分類號: B44C1/22;G06F17/50
• 代理公司: 合肥市長遠專利代理事務所(普通合伙)34119
• 代理人: 程篤慶,黃樂瑜

技術領域

本發明涉及鏤空雕刻技術領域，尤其涉及一種分層雕刻系統。

背景技術

紅酒雕刻又稱之為瓶雕，是在原有的空白酒瓶上面雕刻出自己心中所想的圖案圖騰或者文字，雕刻痕跡明顯，表面有特制金屬油漆處理，使紅酒更加具有紀念性和保存價值。紅酒雕刻對古代藝術領域和文學領域都有很重要的探索價值。現代人們主要運用于禮品和紀念品流通在市場上面。

目前常用的瓶雕技術，工藝復雜，效率低，而且容易使瓶體破裂，故而難以得到推廣，且價格昂貴，使得許多酒品得不到相匹配的包裝，從而明珠蒙塵。

發明內容

基于背景技術存在的技術問題，本發明提出了一種分層雕刻系統。

本發明提出的一種分層雕刻系統，包括：模型建立模塊、路徑分析模塊、控制模塊、驅動模塊和刀具模塊；

刀具模塊中包含不少于一個可運動地刀具，刀具用于對胚體進行雕刻；

驅動模塊與刀具模塊連接，用于驅動刀具運動；

模型建立模塊用于建立雕刻模型；

路徑分析模塊與模型建立模塊連接，其根據雕刻模型生成多條雕刻路徑，每一條雕刻路徑上各點相對于預設參考模型的進給深度相同；

控制模塊分別與路徑分析模塊和驅動模塊連接，其根據雕刻路徑生成控制指令以控制驅動模塊驅動刀具模塊工作。

本發明通過設置多條雕刻路徑，并保證每一條雕刻路徑上各點相對于預設參考模型的進給深度相同，可對胚體實現分層雕刻，從而，避免刀具在雕刻過程中因為執行的進給深度不同，反應不及時，造成的漏雕刻或者雕多了的問題，降低胚體報廢率。

優選地，路徑分析模塊包括坐標分析單元、區間分析單元和路徑生成單元；

坐標分析單元用于對雕刻模型的表層進行點分解生成表層點集，并根據表層點集中的分解點建立坐標，并在所述坐標中預設由多個參考點組成的參考模型，且表層點集中的每一個分解點均對應參考模型的一個參考點；

區間分析單元與坐標分析單元連接，其根據每一對分解點與參考點的對應關系生成進給值，并根據進給值對分解點進行區間劃分，每一區間中的分解點對應的進給值兩兩之間差值為零；

路徑生成單元與區間分析單元連接，其針對每一區間建立雕刻路徑。

通過設置坐標和參考點，可以更精確的評估各分解點所對應的刀具進給深度，從而保證分層雕刻的精確性，提高雕刻速度與質量。

優選地，控制模塊獲得每一區間中進給值的平均值，根據平均值從大到小的順序依次選擇雕刻路徑控制驅動模塊工作。

如此，可對胚體實現由深到淺的雕刻順序，防止先完成進給深度少的分解點后，在雕刻進給深度較大的分解點時意外對雕刻好的分解點造成損傷卻無法彌補。

優選地，參考模型為可覆蓋于胚體外側的參考面的集合，當坯體相對于刀具作直線運動，參考面為平行于運動方向的平面；當坯體相對于刀具轉動，參考面為以轉動軸為軸心的圓柱面。

優選地，參考模型與胚體外表面相重合。

優選地，還包括檢測模塊，其用于獲取雕刻品圖像，并根據圖像建立實際模型，將實際模型與雕刻模型對比，判斷雕刻品是否合格。

優選地，檢測模塊根據實際模型生成實際表層點集，根據實際表層點集與表層點集計算實際誤差，并將實際誤差與預設的誤差允許值比較，根據比較結果判斷雕刻品是否合格。

檢測模塊的設置，可實時檢測雕刻品的品質，判斷其是否合格，從而實時區分合格品與不合格品，提高工作效率。

本發明提供的分層雕刻系統實現了對胚體的分層雕刻和實時檢測，前者有利于提高雕刻效率和質量，降低胚體報廢率和不合格品率，后者有利于省去獨立的產品檢測時間，提高整個生產線的生產效率。

附圖說明

圖1為本發明提出的一種分層雕刻系統結構示意圖。

具體實施方式

參照圖1，本發明提出的一種分層雕刻系統，包括：模型建立模塊、路徑分析模塊、控制模塊、驅動模塊和刀具模塊。

刀具模塊中包含不少于一個可運動地刀具，刀具用于對胚體進行雕刻。

驅動模塊與刀具模塊連接，用于驅動刀具運動。

模型建立模塊用于建立雕刻模型。

路徑分析模塊與模型建立模塊連接，其根據雕刻模型生成多條雕刻路徑，每一條雕刻路徑上各點相對于預設參考模型的進給深度相同。路徑分析模塊包括坐標分析單元、區間分析單元和路徑生成單元。