[發明專利]一種異形半導體晶片及其制備方法有效
| 申請號: | 201510242900.1 | 申請日: | 2015-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN104900492B | 公開(公告)日: | 2018-08-07 |
| 發明(設計)人: | 劉文森;王冰;周鐵軍 | 申請(專利權)人: | 北京通美晶體技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L21/304 |
| 代理公司: | 北京北翔知識產權代理有限公司 11285 | 代理人: | 王媛;鐘守期 |
| 地址: | 101113 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 異形 半導體 晶片 及其 制備 方法 | ||
1.一種制備異形半導體晶片的方法,包括以下步驟:
(1)由一種晶棒切割出晶片;
(2)對晶片進行表面研磨加工;
(3)將晶片解理成異形晶片;
(4)對異形晶片進行磨邊處理;和
(5)將異形晶片用一種粘結劑固定在一塊支撐物上,對晶片進行粗拋光,然后進行精拋光,其中所述支撐物為剛性的平板,
其中,所得晶片的厚度為200-750微米,表面微粗糙度為0.2-0.5納米。
2.根據權利要求1的方法,其特征在于,在步驟(1)中的所述晶棒為硅晶棒、鍺晶棒、IIIA-VA族半導體晶棒、碳化硅晶棒或藍寶石晶棒。
3.根據權利要求1的方法,其特征在于,在步驟(1)之后,還進行步驟(1’):對步驟(1)切出的晶片進行邊緣倒角處理,使晶片邊緣獲得合適的坡度或圓弧。
4.根據權利要求1的方法,其特征在于,支撐物的表面微粗糙度Ra不高于0.5微米。
5.根據權利要求1的方法,其特征在于,在步驟(5)中的所述支撐物由塑料、石英、玻璃、陶瓷或在拋光條件下為惰性的金屬制成。
6.根據權利要求1的方法,其特征在于,在步驟(5)中的所述粘結劑選自天然及合成聚合物。
7.根據權利要求1的方法,還對精拋后的異形晶片進行表面清洗處理。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





