[發明專利]一種陶瓷基電路板及其制備方法在審
| 申請號: | 201510235215.6 | 申請日: | 2015-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN104822223A | 公開(公告)日: | 2015-08-05 |
| 發明(設計)人: | 惠宇;任慶國;楊俊蓮;馮旭;潘銳;許冰;劉徐;王松子 | 申請(專利權)人: | 惠宇 |
| 主分類號: | H05K1/03 | 分類號: | H05K1/03;H05K3/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 110031 遼寧省沈陽市皇姑區舍利*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陶瓷 電路板 及其 制備 方法 | ||
技術領域
?????本發明屬于電子電工技術領域,具體涉及一種陶瓷基電路板及其制備方法。
背景技術
陶瓷表面金屬化技術是將陶瓷材料與金屬材料牢固連接的技術,最初應用于陶瓷-金屬封接,如電子管中零部件的連接,現已廣泛應用于半導體與集成電路、電光源、激光、原子能、高能物理和宇航等各尖端技術領域以及化工、紡織、冶金、機械等部門。陶瓷-金屬封接是一門涉及到各種學科的綜合性技術,涉及到物理、化學、力學、材料科學、真空技術、表面科學、現代儀器設備等各方面的知識。又由于其工藝難度大,用途越來越廣,從而成為國內外的熱門技術之一。活性釬焊技術和Mo-Mn金屬化工藝的相繼出現使封接技術得到了迅速發展,隨著陶瓷材料的發展及工業應用的需求,出現了一些新的特殊的連接工藝。我國從陶瓷與金屬封接的研究,重點服務于高速發展的電子工業,使用的是電瓷、玻璃、Ag-Cu-Ti釬料及Kovar合金等。
目前,陶瓷-金屬封接工藝至今仍以典型燒結金屬粉末法和活性金屬法為主,在多層陶瓷制作工藝中,主要采取高溫燒結金屬化工藝。目前常用的金屬粉末法和活性金屬法均需要1000℃以上的高溫處理,極大提高了陶瓷-金屬連接的成本。國內外的陶瓷表面金屬化技術還有化學鍍鎳或真空蒸鍍銀銅工藝。其中化學鍍結合強度低,需要貴金屬靶活化,特別容易造成壞境污染嚴重,真空蒸鍍銀銅雖然環保,但是金屬膜層與陶瓷的結合強度較差,膜層疏松,容易脫落,而且金屬膜層的厚度不易控制,均勻度與一致性差。
發明內容
針對現有技術存在的問題,本發明提供一種陶瓷基電路板及其制備方法,目的是制備出金屬電路圖形導電層與陶瓷基板結合緊密,金屬電路圖形導電層成分單一、厚度均勻的陶瓷基電路板。
本發明的陶瓷基電路板包括有一個陶瓷基板,陶瓷基板上具有激光燒結成的純金屬電路圖形導電層,厚度為5~100μm。
其中,所述的純金屬是銅、鉬、銀、鋁或鈦。
實現本發明目的的技術方案按照以下步驟進行:
(1)在計算機中使用圖形編輯軟件編輯好電路圖形;
(2)將陶瓷基板置于激光切割工作臺上,啟動金屬粉末噴吹裝置,向陶瓷基板上噴吹金屬粉末,啟動激光燒結裝置,按照編輯好的電路圖形對金屬粉進行掃描燒結,同時采用真空低壓收集裝置對多余的未燒結金屬粉末進行收集,掃描燒結完畢,得到陶瓷基板上的金屬電路圖形層;
(3)對掃描燒結完畢的陶瓷基板進行拋光,絲印文字,最終固化,得到陶瓷基電路板產品。
其中,所述的陶瓷基板是氧化鋁陶瓷基板或氮化鋁陶瓷基板,其中氧化鋁陶瓷基板中氧化鋁的重量含量為90~99%,氮化鋁陶瓷基板中氮化鋁的重量含量為90~99%。
所述的金屬粉末是銅粉、鉬粉、銀粉、鋁粉或鈦粉,粉末粒度在0.3~10μm之間。
所述的金屬粉末噴吹裝置噴氣速度在1-5L/min。
所述的激光燒結裝置采用CO2激光,波長為10.6μm。
與現有技術相比,本發明的特點和有益效果是:
(1)本發明與以往的陶瓷基電路板制備方法相比,省去了導電金屬的高溫燒結步驟,不需要后期熱處理,節約了大量能源,高溫燒結爐的功率為10KW左右,而本發明中所使用設備功率不超過300W,因此本發明方法節約大量能源,有效降低了陶瓷基電路板的成本,利于工業大批量生產;
(2)本發明中還采用噴吹方式在陶瓷基板表面噴吹金屬粉末,與現有技術中的手工涂覆方式相比,金屬導電層更加均勻一致,導電性能更好;
(3)本發明的陶瓷電路板的金屬圖形導電層是單一金屬的均勻導電層,與以往的靠加入貴金屬燒結成金屬混合物導電層相比,成分更簡單,導電性和導熱性也更好。
具體實施方式
下面結合具體實施方式對本發明做進一步說明。
本發明實施例中所使用的電路圖形編輯軟件為Coredraw。
實施例1
本實施例的陶瓷基電路板包括有一個氧化鋁陶瓷基板,氧化鋁陶瓷基板上具有激光燒結成的純銅電路圖形導電層,厚度為50μm。
其制備方法按照以下步驟進行:
(1)在計算機中使用圖形編輯軟件編輯好電路圖形;
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