[發(fā)明專利]一種石墨烯材料及其電極材料制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510220111.8 | 申請日: | 2015-05-04 |
| 公開(公告)號: | CN104876213B | 公開(公告)日: | 2018-03-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張好斌;齊新;于中振;郭瑞文;張航天 | 申請(專利權)人: | 北京化工大學 |
| 主分類號: | C01B32/19 | 分類號: | C01B32/19;H01M4/583;H01M4/587 |
| 代理公司: | 北京五月天專利商標代理有限公司11294 | 代理人: | 王天桂 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 石墨 材料 及其 電極 制備 方法 | ||
1.一種石墨烯材料的制備方法,其含有多孔石墨烯片和鹵化物顆粒,其特征在于,在多孔石墨烯片層間插入鹵化物,所述鹵化物顆粒呈單層均勻平鋪于所述石墨烯片層間;其制備方法包括以下步驟:
(1)將鹵化物和石墨一起置于不銹鋼反應釜中,加熱至300~400℃,保溫1~12小時,得到鹵化物插層石墨化合物;
(2)將鹵化物插層石墨化合物粉體加入到有機溶劑N,N-二甲基甲酰胺中,在冰浴條件下,對溶液進行細胞破碎超聲處理,得到鹵化物插層石墨烯的分散液;
(3)將鹵化物插層石墨烯的分散液進行抽濾,洗滌,然后在70-100℃下干燥6-18小時后,得到鹵化物插層多孔型石墨烯材料;
反應配比中鹵化物與石墨的質量反應配比為1:1~4:1,鹵化物插層石墨復合物的階數(shù)控制為1階、2階或3階;所得石墨烯粉體中,石墨烯片厚度為1~5nm,片層尺寸為0.1~5微米,孔徑大小為0.01 nm-200 nm;其中鹵化物插層石墨化合物采用熔鹽插層方法;
步驟(1)中的石墨為鱗片石墨,其目數(shù)為300目;
步驟(2)的細胞破碎超聲處理的功率在100~900瓦,處理的時間為0.5~6小時,細胞破碎超聲機的探頭直徑與處理液體量為正比關系;
步驟(3)得到的鹵化物插層多孔型石墨烯材料粉體中,鹵化物含量為5 wt%~50 wt%。
2.根據(jù)權利要求1所述的石墨烯材料的制備方法,其特征在于,以鹵化物為插層劑制備插層石墨,所述插層劑為氯化鐵、氯化鋁、氯化鎳中的一種或幾種。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京化工大學,未經(jīng)北京化工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510220111.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





