[發明專利]基板處理裝置和基板處理裝置的基板檢測方法

有效

• 申請號: 201510217216.8
• 申請日: 2015-04-30
• 公開（公告）號: CN105047585B
• 公開（公告）日: 2019-12-10
• 發明（設計）人: 久留巣健人;森公平
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 11277 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種基板處理裝置，其特征在于，

該基板處理裝置包括：

基板保持旋轉部，其具有能夠旋轉的旋轉板和用于將基板支承于所述旋轉板的上方的基板支承部；以及

基板處理部，其用于對由所述基板支承部支承著的所述基板進行處理，

在由所述基板支承部支承著的所述基板的下方配置有環狀的回歸反射片，

在由所述基板支承部支承著的所述基板的上方設有光投射部和光接收部，該光投射部用于自所述回歸反射片的斜上方對所述回歸反射片投射具有恒定的入射角的入射光，該光接收部用于自所述回歸反射片接收向與入射角所對應的方向相反的方向反射的反射光，

基板檢測部根據被所述光接收部接收的反射光的強度來檢測有無由所述基板保持旋轉部支承的所述基板。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述回歸反射片的中央敞開部設于所述基板保持旋轉部的旋轉中心軸線的延長線上。

3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述回歸反射片的中心部設于所述基板保持旋轉部的旋轉中心軸線的延長線上。

4.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述回歸反射片設于所述基板保持旋轉部并與所述基板保持旋轉部一起旋轉。

5.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述基板處理裝置設有貫穿所述旋轉板并用于供給液體或氣體的供給管，

所述供給管貫穿所述回歸反射片的中央敞開部。

6.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述基板處理裝置設有貫穿所述旋轉板并用于供給液體或氣體的供給管，所述回歸反射片以與所述供給管一起靜止的方式設于所述供給管的上端部。

7.根據權利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，

在所述供給管上設有傘部，

所述回歸反射片安裝于所述傘部。

8.根據權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述基板由半導體晶圓構成，基板檢測部通過對來自所述光接收部的反射光的強度和預先設定的規定強度進行比較來檢測有無半導體晶圓。

9.根據權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述基板由玻璃基板構成，基板檢測部根據來自所述光接收部的反射光的強度和玻璃基板的衰減率來檢測有無玻璃基板。

10.一種基板處理裝置的基板檢測方法，該基板處理裝置包括：基板保持旋轉部，其具有能夠旋轉的旋轉板和用于將基板支承于所述旋轉板的上方的基板支承部；以及基板處理部，其用于對由所述基板支承部支承著的所述基板進行處理，在由所述基板支承部支承著的所述基板的下方配置有環狀的回歸反射片，在由所述基板支承部支承著的所述基板的上方設有光投射部和光接收部，該光投射部用于自所述回歸反射片的斜上方對所述回歸反射片投射具有恒定的入射角的入射光，該光接收部用于自所述回歸反射片接收向與入射角所對應的方向相反的方向反射的反射光，其特征在于，

該基板處理裝置的基板檢測方法包括以下步驟：

利用光投射部自所述回歸反射片的斜上方對所述回歸反射片投射入射光；

利用光接收部接收來自所述回歸反射片的反射光；以及

基板檢測部根據被所述光接收部接收的反射光的強度來檢測有無由所述基板保持旋轉部支承的所述基板。

11.根據權利要求10所述的基板處理裝置的基板檢測方法，其特征在于，

所述回歸反射片設于所述基板保持旋轉部的中央部并與所述基板保持旋轉部一起旋轉。