[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510167195.3
• 申請日: 2015-04-09
• 公開（公告）號: CN104972386B
• 公開（公告）日: 2019-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杉山光德;井上正文
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/34;B24B37/005;H01L21/67
• 代理公司: 上海市華誠律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 梅高強;劉煜

1.一種基板處理裝置，具備：

研磨單元，該研磨單元包含對基板進行研磨處理的至少2個研磨部；

清洗單元，該清洗單元包含第一清洗部(CL1A)、第二清洗部(CL1B)、第三清洗部(CL2A)、以及第四清洗部(CL2B)且對由所述研磨單元研磨后的基板進行清洗處理；

裝載/卸載單元，該裝載/卸載單元將基板交接給所述研磨單元并且從所述清洗單元接收基板；及

搬送單元，該搬送單元包含對所述基板進行搬送處理的至少1個搬送部，

所述基板處理裝置的特征在于，

所述搬送單元構(gòu)成為：能夠從所述第一清洗部(CL1A)、所述第二清洗部(CL1B)、所述第三清洗部(CL2A)、所述第四清洗部(CL2B)中的任意一個取出基板，將取出后的基板配置到所述第一清洗部(CL1A)、所述第二清洗部(CL1B)、所述第三清洗部(CL2A)、所述第四清洗部(CL2B)中的其他的任意一個，

所述基板處理裝置具備控制部，該控制部控制將所述基板向所述基板處理裝置投入的投入時序，

所述控制部以從所述基板被投入至所述基板處理裝置起直到清洗處理結(jié)束為止都不會產(chǎn)生待機狀態(tài)的方式，制作時刻表，所述時刻表包含投入至所述基板處理裝置的多個基板的各自的所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部中的處理結(jié)束預(yù)定時刻，所述控制部根據(jù)所述時刻表來控制將所述多個基板向所述基板處理裝置投入的投入時序。

2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述控制部根據(jù)在所述研磨部及所述清洗部的至少一方中處理所需時間和在所述搬送部中從所述研磨單元到所述清洗單元的搬送處理所需時間的過去的實際的值，來制作所述時刻表。

3.如權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

當制作針對新投入至所述基板處理裝置的基板的所述時刻表時，所述控制部計算所述新投入的基板到達所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部的假定到達時刻，將所述假定到達時刻、與先投入至所述基板處理裝置的基板的所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部中的處理結(jié)束預(yù)定時刻進行比較，在相同或相競爭的處理部中存在比所述處理結(jié)束預(yù)定時刻快的假定到達時刻的情況下，所述控制部將所述快的假定到達時刻與所述處理結(jié)束預(yù)定時刻之差，相加至到達所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部的假定到達時刻，由此來制作實際到達時刻，且根據(jù)所述實際到達時刻來制作所述時刻表。

4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，

在存在多個所述快的假定到達時刻的情況下，所述控制部將所述快的假定到達時刻與所述處理結(jié)束預(yù)定時刻之差為最大的假定到達時刻與所述處理結(jié)束預(yù)定時刻之差，相加至到達所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部的假定到達時刻，由此來制作實際到達時刻，且根據(jù)所述實際到達時刻來制作所述時刻表。

5.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，

在所述相同或相競爭的處理部中不存在比所述處理結(jié)束預(yù)定時刻快的假定到達時刻的情況下，所述控制部根據(jù)所述假定到達時刻來制作所述時刻表。