[發明專利]一種金剛石表面鍍非磁性金屬層的制作方法

在審

• 申請號: 201510132790.3
• 申請日: 2015-03-26
• 公開（公告）號: CN104762598A
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發明（設計）人: 劉建設;郭松;孟為民;劉超超;王飛山;劉拾霞;曹河周
• 申請（專利權）人: 河南黃河旋風股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域????

本發明涉及金剛石表面處理技術領域。

背景技術???

金剛石表面鍍有非磁性金屬層的材料具有特殊的用途，所述的非磁性層是包括鈦、鎢、鉬、鉻的金屬層；用鍍有非磁性金屬層的金剛石制成的鋸切或磨削制品其鍍層在高溫情況下可以保護金剛石免受石墨化侵蝕、并形成化合物鍵合，增強胎體對金剛石把持力，從而減少脫粒現象。

現有技術中，金剛石表面的非磁性金屬層是采用真空微蒸發方法制成的，它要求加熱溫度是850—900℃，這樣的方法具有加熱溫度高的缺點，另外這樣的鍍層還具有堅實性較差的缺點，影響了金剛石的使用范圍和效果。

發明內容??

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種要求溫度低、鍍膜穩定、鍍膜堅實性較強的金剛石表面鍍非磁性金屬層的制作方法。

本發明的技術方案是這樣的：一種金剛石表面鍍非磁性金屬層的制作方法，它在金剛石真空鍍膜機中進行，它包括以下步驟：

a、首先將金剛石置于真空離子鍍膜機的鍍膜室中，將鍍膜室抽真空至2×10^-3Pa，用5KV離子源對金剛石清潔處理30分鐘；

b、用非磁性金屬材料做靶材，所述的非磁性金屬材料是指鈦、鎢、鉬、鉻，靶材為陰極，金剛石粉體為陽極，調節真空離子鍍膜機的參數為：

電壓：????????350—450V；

直流電流：????1.2A?-?1.4A；

偏轉電壓：????200—300V；

工作時間：????10800秒—12000秒；

高純氬氣流量：8—12毫升／秒；

溫度：????????溫度480—520°C；

并使金剛石處于移動翻轉移動的狀態。

最好的：

所述步驟b的參數是：

電壓：????????400V；

偏轉電壓：????250V；

高純氬氣流量：10毫升／秒；

溫度：????????溫度500°C。

最好的：

所述的非磁性金屬材料鈦、鎢、鉬、鉻的含量純度為99.99%以上。

本發明的有益效果是：這樣的方法具有要求溫度低、鍍膜穩定的優點，參數的進一步限定還具有鍍膜堅實性較強的優點；所述的非磁性金屬材料鈦、鎢、鉬、鉻的含量純度為99.99%以上還具有鍍層質量高的優點。

具體實施方式

金剛石真空鍍膜機，是金剛石真空鍍膜的設備，主要是集清洗、鍍膜和為一體的設備，它能在金剛石表面鍍制合金膜，金剛石真空鍍膜機具有鍍膜室，鍍膜時金剛石放置在鍍膜室中，鍍膜室連接控制系統，控制系統可以調節真空度、電壓、偏轉電壓等參數；根據需要，在鍍膜時可以設置第一階段（表面去雜）的真空度、離子源的電壓等參數，以及第二階段（鍍膜階段）的電壓、直流電流、偏轉電壓、工作時間、保護氣體的流量、溫度等參數，選取靶材，但是選用的參數不同，對金剛石的鍍層品質至關重要。

鍍層品質良好的金剛石制成的鋸切或磨削制品具有經久耐用的優點。

下面結合實施例對本發明作進一步的描述。

實施例1

將金剛石用現有技術采用真空微蒸發方法，需要加熱溫度900度，本鍍膜金剛石粉成為第一金剛石粉。

實施例2

a、首先將金剛石置于真空離子鍍膜機的處理倉中，將處理倉抽真空至2×10^-3Pa，用5KV離子源對金剛石清潔處理30分鐘；

b、用鈦板作為真空離子鍍膜機的陰極靶材，調節真空離子鍍膜機的參數為：

電壓：????????350V；

直流電流：????1.2A；

偏轉電壓：????200V；

工作時間：????10800秒；

高純氬氣流量：8毫升／秒；

溫度：????????溫度480°C；

并使金剛石處于移動翻轉移動的狀態，金剛石粉體為陽極。

本鍍膜金剛石粉成為第二金剛石粉。

實施例3

a、首先將金剛石置于真空離子鍍膜機的處理倉中，將處理倉抽真空至2×10^-3Pa，用5KV離子源對金剛石清潔處理30分鐘；

b、用鈦板作為真空離子鍍膜機的陰極靶材，調節真空離子鍍膜機的參數為：

電壓：????????450V；

直流電流：????1.4A；