[發(fā)明專利]一種冷等離子體處理的大豆育種方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510098014.6 | 申請日: | 2015-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN104620719B | 公開(公告)日: | 2017-01-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 邵長勇;梁鳳臣;李艷;張麗麗;趙立靜;張曉明;楊鵬;張燁;梁超;邵龍;鞠建;邵娜 | 申請(專利權(quán))人: | 山東省種子有限責任公司 |
| 主分類號: | A01C1/00 | 分類號: | A01C1/00 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司37221 | 代理人: | 崔苗苗 |
| 地址: | 250100 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 等離子體 處理 大豆 育種 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種大豆育種方法,具體是一種采用冷等離子體種子處理技術(shù)處理大豆種子,通過試驗比較結(jié)合表觀接觸角度觀測,得到最佳處理劑量和最適表觀接觸角,并應用于大豆新品種選育的育種方法,屬于農(nóng)業(yè)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
大豆學名為max(L)Merrill,別名:黃豆(包括青豆、黑豆、紫豆和斑茶Giycine豆等)。大豆屬于豆科,蝶形花亞科,大豆屬,大豆種。是一年生草本植物,原產(chǎn)我國。我國自古栽培,至今已有5000年的種植史?,F(xiàn)在全國普遍種植,在東北、華北、陜、川及長江下游地區(qū)均有出產(chǎn),以長江流域及西南栽培較多,以東北大豆質(zhì)量最優(yōu)。
近40年,世界的大豆面積擴大了3倍,總產(chǎn)量增加了6倍,而其發(fā)源地的中國,發(fā)展卻十分緩慢,主要由于現(xiàn)階段大豆價格較低,而導致大豆種植面積減少。大豆走出困境的最好辦法是提高單產(chǎn)和降低生產(chǎn)成本,需要科研人員把更多的高產(chǎn)、優(yōu)質(zhì)大豆新品種推向市場。大豆是自花授粉作物,自交率小于1%,農(nóng)業(yè)集約化生產(chǎn)使大豆品種日趨單一,遺傳基礎(chǔ)日趨狹窄,抗逆性逐漸下降。因此,今后大豆育種的突破和進展,應依賴于優(yōu)良種質(zhì)資源的拓寬、改良和應用。目前具有突破性的轉(zhuǎn)基因育種方法在全球范圍內(nèi)引起了激烈的爭論,認為轉(zhuǎn)基因作物具有極大的潛在危險,可能會對人類健康和人類生存環(huán)境造成威脅。因此,如何找到一種既能突破傳統(tǒng)生物育種低水平重復操作,又不改變基因性狀、安全環(huán)保的育種手段,成為當務之急。
冷等離子體種子處理技術(shù)是源于俄羅斯科學家發(fā)明的一種種子處理新技術(shù)。該技術(shù)在國內(nèi)醫(yī)藥、化工領(lǐng)域都有廣泛地應用,將該技術(shù)應用于農(nóng)業(yè)生產(chǎn)在國內(nèi)外尚屬新的研究領(lǐng)域,目前尚未見冷等離子體在大豆育種方面的研究和報道。
表觀接觸角是指氣、液、固三相交界處的氣-液界面和固-液界面之間的夾角,可用接觸角測量儀CA100B檢測確定。冷等離子體處理后,其表面接觸角變小,表面潤濕性加強,可以促進種子萌發(fā)。觀測角度結(jié)合試驗實踐在最佳功率、最佳觀測角度播種,可使冷等離子體處理效果達到最佳發(fā)揮。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題,本發(fā)明提供了一種冷等離子體處理、結(jié)合表觀接觸角種植選育的大豆育種方法,本發(fā)明提供的方法突破了傳統(tǒng)大豆育種品種日趨單一,遺傳基礎(chǔ)日趨狹窄,抗逆性逐漸下降和轉(zhuǎn)基因育種潛在危險,可以縮短大豆育種周期,在大豆育種方法和手段上具有先進性。
本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
一種冷等離子體處理的大豆育種方法,包括步驟如下:對大豆種子進行冷等離子體處理,結(jié)合表觀接觸角觀測,適時播種,選育具有目標性狀的大豆新品種;所述的冷等離子體處理的條件為:以氦氣為工作介質(zhì),在真空封閉環(huán)境中,1~500W的處理功率下對大豆原材料進行15~20秒的非電離幅射處理;所述的表觀接觸角是指氣、液、固三相交界處的氣-液界面和固-液界面之間的夾角,表觀接觸角度為43~96°時播種。
優(yōu)選的,所述處理功率為10~300W,所述表觀接觸角為43°-90°,所述非電離幅射處理的時間為15~18s。
進一步優(yōu)選的,所述處理功率為80~240W,所述表觀接觸角為43°-73°,所述非電離幅射處理的時間為15~18s。
再進一步優(yōu)選的,所述處理功率為100~180W,所述表觀接觸角為43°-59°,所述非電離幅射處理的時間為18s。
最優(yōu)選的,所述處理功率為160W,所述表觀接觸角為44±1.5°,所述非電離幅射處理的時間為18s。
優(yōu)選的,所述大豆的品種為如下任一品種:荷豆21、科豆1號、濰豆7號、臨豆9號、合交02-69、中黃13號、荷豆19號、齊黃34、華夏9號、交大133號。
對不同大豆原材料種子進行冷等離子體處理后,結(jié)合表觀接觸角適時種植,選育具有目標性狀的大豆。選育具有目標性狀的大豆的方法可為現(xiàn)有技術(shù),如對所述冷等離子體處理后的材料進行目標選育、雜交后系統(tǒng)選育等,并利用DNA分子標記技術(shù)輔助育種,選育具有目標性狀的、穩(wěn)定的自交系;再進行品比鑒定,最終得到所述具有目標性狀的大豆。
所述目標性狀是指:與未經(jīng)任何處理的同一批相同品種的大豆種子相比,具有以下特征之一或兩種以上:種子發(fā)芽能力提高;主根長增長;須根數(shù)增多;百苗鮮重、干重增加;粗蛋白質(zhì)含量增加;粗脂肪含量增加;結(jié)莢數(shù)提高;單株粒數(shù)增加;產(chǎn)量增加;抗病性增強。
對于各品種的大豆而言,經(jīng)冷等離子體處理后,其改善最明顯的性狀如下:
荷豆21:粗脂肪含量增加量最大。
科豆1號:須根數(shù)增加最多。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東省種子有限責任公司,未經(jīng)山東省種子有限責任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510098014.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種陣列式水稻播秧機
- 下一篇:山地農(nóng)田用微耕機





