[發(fā)明專利]薄膜法蘭有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510095096.9 | 申請(qǐng)日: | 2015-03-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104728543B | 公開(公告)日: | 2017-03-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱東輝;王海靜;賀華艷;王梓豪;屈化民;康玲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞中子科學(xué)中心 |
| 主分類號(hào): | F16L23/032 | 分類號(hào): | F16L23/032 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11435 | 代理人: | 孟阿妮,郭棟梁 |
| 地址: | 廣東省東莞市松山湖*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 法蘭 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及機(jī)械工程領(lǐng)域,特別涉及一種薄膜法蘭。
背景技術(shù)
在高能加速器中需要使用密封法蘭進(jìn)行真空盒的連接,現(xiàn)有的密封法蘭大部分都是KF和CF法蘭,近距離通過(guò)螺栓或快卸鏈條連接,法蘭之間通過(guò)密封墊進(jìn)行高真空密封。但是,采用上述密封法蘭進(jìn)行密封,必須人近距離操作,無(wú)法應(yīng)用到人無(wú)法靠近的高輻射區(qū)域。
發(fā)明內(nèi)容
在下文中給出關(guān)于本發(fā)明的簡(jiǎn)要概述,以便提供關(guān)于本發(fā)明的某些方面的基本理解。應(yīng)當(dāng)理解,這個(gè)概述并不是關(guān)于本發(fā)明的窮舉性概述。它并不是意圖確定本發(fā)明的關(guān)鍵或重要部分,也不是意圖限定本發(fā)明的范圍。其目的僅僅是以簡(jiǎn)化的形式給出某些概念,以此作為稍后論述的更詳細(xì)描述的前序。
本發(fā)明的目的在于提供一種薄膜法蘭,應(yīng)到到充氣型波紋管上,遠(yuǎn)程實(shí)現(xiàn)高真空密封。
本發(fā)明提供了一種薄膜法蘭,包括:法蘭盤、真空槽、環(huán)狀的薄膜和進(jìn)氣孔,其中:
所述進(jìn)氣孔貫通所述法蘭盤,所述真空槽位于所述法蘭盤的端面;
所述薄膜與所述法蘭盤焊接固定,且所述薄膜與所述法蘭盤的連接處為一定角度的倒角,所述倒角處薄膜與法蘭盤相吻合;
所述薄膜封蓋于所述進(jìn)氣孔上方。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明包括以下優(yōu)點(diǎn):
本發(fā)明提供的薄膜法蘭,薄膜與法蘭盤的連接處為倒角,在倒角處薄膜與法蘭盤可以相吻合,充氣后,薄膜與法蘭盤的連接處的應(yīng)力較小,可以防止充氣后薄膜從法蘭盤上撕裂。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的薄膜法蘭使用狀態(tài)下的剖視圖;
圖2為圖1中A處的局部放大圖;
圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的薄膜法蘭的局部示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。在本發(fā)明的一個(gè)附圖或一種實(shí)施方式中描述的元素和特征可以與一個(gè)或更多個(gè)其它附圖或?qū)嵤┓绞街惺境龅脑睾吞卣飨嘟Y(jié)合。應(yīng)當(dāng)注意,為了清楚的目的,附圖和說(shuō)明中省略了與本發(fā)明無(wú)關(guān)的、本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的部件和處理的表示和描述。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的薄膜法蘭使用狀態(tài)下的剖視圖;圖2為圖1中A處的局部放大圖;圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的薄膜法蘭的局部示意圖。參照?qǐng)D1-圖3所示,本實(shí)施例中薄膜法蘭具體可以包括:法蘭盤1、真空槽2、環(huán)狀的薄膜3和進(jìn)氣孔4,其中:
進(jìn)氣孔4貫通法蘭盤1,真空槽2位于所述法蘭盤1的端面;所述薄膜3與所述法蘭盤1焊接固定,且所述薄膜3與所述法蘭盤1的連接處為一定角度的倒角8,具體的倒角度數(shù)可根據(jù)實(shí)際情況決定,倒角處薄膜3與法蘭盤1相吻合;所述薄膜3封蓋于所述進(jìn)氣孔2上方,薄膜3在法蘭盤1的端面是以整圈的環(huán)形設(shè)置的。使用時(shí),法蘭盤1上背離真空槽的端面上焊接同軸設(shè)置的內(nèi)波紋管和外波紋管10。
需要說(shuō)明的是,由于本發(fā)明中薄膜3與所述法蘭盤1的連接處為倒角,因此在倒角8處薄膜3與法蘭盤1可以相吻合,充氣后,薄膜3與法蘭盤1的連接處的應(yīng)力較小,可以防止充氣后薄膜3從法蘭盤1上撕裂。在本發(fā)明如圖3所示的一種優(yōu)選實(shí)施例中,倒角8與法蘭盤端面的夾角為4°-6°。
在本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施例中,真空槽2為環(huán)形凹槽。
在本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施例中,真空槽2的縱截面為等腰梯形或矩形。
實(shí)際使用中,真空槽連接有真空孔,真空孔設(shè)置在法蘭盤1上,真空孔連接有真空管,真空管與外部的抽真空設(shè)備相連接,對(duì)真空槽進(jìn)行抽真空,以提高密封效果。
在本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施例中,所述法蘭盤1的周面靠近所述倒角8處設(shè)有應(yīng)力槽5。所述應(yīng)力槽5為環(huán)形凹槽,且所述應(yīng)力槽5以所述法蘭盤1的中心為圓心,與所述真空槽2呈同心圓分布。
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