[發明專利]從混合金屬氧化物選擇性回收有價金屬的方法

在審

• 申請號: 201510076991.6
• 申請日: 2015-02-12
• 公開（公告）號: CN104862482A
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發明（設計）人: 何錦鏢;何國強;王然石;鄭富林
• 申請（專利權）人: 納米及先進材料研發院有限公司
• 主分類號: C22B7/00
• 分類號: C22B7/00;C25C1/14;C25C1/22
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 武晨燕;遲姍

1.一種用于從含ITO的廢物中連續回收銦和錫的方法，其包括：

a)通過切碎和壓碎來減小含ITO材料的尺寸以便形成細碎顆粒；

b)通過化學和物理清潔步驟對所述細碎顆粒進行預處理，以避免溶解步驟中的干擾；

c)將經過預處理的顆粒轉移到處于60℃到120℃范圍浴溫下的包含第一浴制劑的第一溶解浴中，同時連續攪拌30-180分鐘以溶解所述經過預處理的顆粒；

d)將50-300體積％的水加入到來自步驟(c)的含有溶解顆粒的溶液中以形成第一混合物，并過濾所述第一混合物以便收集富含銦的濾液和富含錫的濾渣；

e)將銦板放入所述富含銦的濾液中1-10小時以通過置換反應去除錫殘余物；

f)通過第一沉積工藝從所述富含銦的濾液回收純度不低于99.9％的銦；

g)在蒸發水之后，將步驟(c)中的所述溶解浴再用于下一個回收循環。

2.根據權利要求1所述的方法，其進一步包括：

h)將從步驟(d)獲得的所述富含錫的濾渣轉移到處于60℃到120℃范圍浴溫下的包含第二浴制劑的第二溶解浴中，同時連續攪拌30-180分鐘以溶解所述富含錫的濾渣；

i)將50-300體積％的水加入到含有溶解的富含錫的濾渣的溶液中以形成第二混合物，并過濾所述第二混合物以便收集富含錫的濾液和未溶解的基質；

j)通過第二沉積工藝從步驟(i)中獲得的所述富含錫的濾液回收錫；

k)在蒸發水之后，將步驟(h)中的所述第二溶解浴再用于下一個回收循環。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一浴制劑包含以下組分：

一種或多于一種類型的有機鹵化物鹽，其中所述有機鹵化物鹽的陽離子包括四烷基銨、(二烷基、三烷基和四烷基)咪唑鎓、烷基吡啶鎓、二烷基吡咯烷鎓、二烷基哌啶鎓、四烷基鏻、四烷基锍、二烷基吡唑鎓和N-烷基噻唑鎓；和

20-80mol％的二羧酸，所述二羧酸包括草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸和己二酸。

4.根據權利要求3所述的方法，其中所述有機鹵化物鹽的陽離子是四烷基銨且所述二羧酸是草酸；所述有機鹵化物鹽與二羧酸的摩爾比為1:1。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一沉積工藝是銦的電沉積工藝，其包括以下操作條件和/或組分：

pH不高于1.5；

電流密度為0.6mA/cm²到4mA/cm²或電壓為2V到4V；

電沉積時間為10分鐘到60分鐘；

溫度為20℃到70℃；

用于從所述富含銦的濾液中電沉積銦的基板，所述基板包括鈦、不銹鋼和石墨；和

對電極，所述對電極包括鈦、鉑和石墨。

6.根據權利要求2所述的方法，其中所述第二浴制劑包含以下組分：

一種或多于一種類型的有機鹵化物鹽，其中所述有機鹵化物鹽的陽離子包括四烷基銨、(二烷基、三烷基和四烷基)咪唑鎓、烷基吡啶鎓、二烷基吡咯烷鎓、二烷基哌啶鎓、四烷基鏻、四烷基锍、二烷基吡唑鎓和N-烷基噻唑鎓；和

20-80mol％的羧酸，所述羧酸包括三氟乙酸、三氯乙酸、二氯乙酸、氯乙酸、丙酸、丁酸和戊酸。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述有機鹵化物鹽的陽離子是四烷基銨且所述羧酸是三氯乙酸；所述有機鹵化物鹽與羧酸的摩爾比為1:2。

8.根據權利要求2所述的方法，其中所述第二沉積工藝是錫的電沉積工藝，其包括以下操作條件和/或組分：

pH不高于1；

電流密度為0.8mA/cm²到5mA/cm²或電壓為2.2V到4.5V；

電沉積時間為10分鐘到60分鐘；

溫度為20℃到70℃；

用于從所述富含錫的濾液中電沉積錫的基板，所述基板包括鈦、不銹鋼和石墨；和

對電極，所述對電極包括鈦、鉑和石墨。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述置換反應包括利用銦板的伽伐尼置換工藝，用于在所述第一沉積工藝后從所述富含銦的濾液中去除錫殘余物。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述含ITO材料包括來自顯示面板、太陽能電池面板或消費電子副產品的含ITO的廢料和含ITO的粉末。