[發明專利]半導體裝置在審
| 申請號: | 201510075482.1 | 申請日: | 2015-02-12 |
| 公開(公告)號: | CN105448906A | 公開(公告)日: | 2016-03-30 |
| 發明(設計)人: | 生野徹 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02;H01L29/78;H01L29/861;H01L29/866 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王成坤;胡建新 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 裝置 | ||
1.一種半導體裝置,具備:
第1導電型的第1半導體區域;
第1電極,設置在所述第1半導體區域之下;
第2導電型的第2半導體區域,選擇性地設置在所述第1半導體區域之上;
第1導電型的第3半導體區域,選擇性地設置在所述第2半導體區域之上;
第2電極,隔著第1絕緣膜而設置在所述第1半導體區域、所述第2半導體區域及所述第3半導體區域;
第1整流元件,隔著第2絕緣膜設置在未配置所述第2半導體區域、所述第3半導體區域、所述第1絕緣膜及所述第2電極的所述第1半導體區域之上,并具有交替地排列有第4半導體區域、及導電型與所述第4半導體區域不同的第5半導體區域的構造;
第2整流元件,隔著所述第2絕緣膜設置在未配置所述第2半導體區域、所述第3半導體區域、所述第1絕緣膜及所述第2電極并且未配置所述第1整流元件的所述第1半導體區域之上,并具有交替地排列有第6半導體區域、及導電型與所述第6半導體區域不同的第7半導體區域的構造;
第3電極,設置在所述第1半導體區域的上側,與所述第3半導體區域電連接,并與所述第1整流元件的所述第4半導體區域中的任一個第4半導體區域及所述第2整流元件的所述第6半導體區域的任一個第6半導體區域電連接;以及
第4電極,設置在所述第1半導體區域的上側,與所述第2電極電連接,包圍所述第3電極,與所述第1整流元件的所述任一個第4半導體區域以外的所述第4半導體區域、及所述第2整流元件的所述任一個第6半導體區域以外的所述第6半導體區域電連接。
2.如權利要求1所述的半導體裝置,
所述第4半導體區域及所述第6半導體區域的導電型是第1導電型,所述第5半導體區域及所述第7半導體區域的導電型是第2導電型。
3.如權利要求1所述的半導體裝置,
所述第4半導體區域及所述第6半導體區域的導電型是第2導電型,所述第5半導體區域及所述第7半導體區域的導電型是第1導電型。
4.如權利要求1~3中任一項所述的半導體裝置,
所述第1整流元件與配置有所述第2半導體區域、所述第3半導體區域、所述第1絕緣膜及所述第2電極的區域并列配置。
5.如權利要求1~3中任一項所述的半導體裝置,
所述第2整流元件沿著配置有所述第2半導體區域、所述第3半導體區域、所述第1絕緣膜及所述第2電極的區域配置。
6.如權利要求1~3中任一項所述的半導體裝置,
所述第4半導體區域及所述第5半導體區域配置成環狀。
7.如權利要求1~3中任一項所述的半導體裝置,
所述第6半導體區域及所述第7半導體區域沿著配置有所述第2半導體區域、所述第3半導體區域、所述第1絕緣膜及所述第2電極的區域配置。
8.如權利要求1~3中任一項所述的半導體裝置,
配置有所述第2半導體區域、所述第3半導體區域、所述第1絕緣膜及所述第2電極的區域具有至少一個角部,
所述第2整流元件具有沿著所述角部彎曲的區域。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





