[發(fā)明專利]感光性元件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510073128.5
• 申請(qǐng)日: 2015-02-11
• 公開（公告）號(hào): CN104834184B
• 公開（公告）日: 2019-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 久保田雅夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日立化成株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/09
• 分類號(hào): G03F7/09;H05K3/06
• 代理公司: 11243 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 鐘晶;於毓楨

1.一種抗蝕劑圖案的形成方法，其包含如下工序：

使用具有支撐膜和形成在該支撐膜上的感光層的感光性元件，在電路形成用基板上形成所述感光層的感光層形成工序，所述支撐膜的霧度為0.01～1.0％，且所述支撐膜的全光線透過率大于或等于90％，所述感光層含有粘合劑聚合物、具有乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑；

使用開口數(shù)小于0.1的投影式曝光機(jī)對(duì)所述感光層的規(guī)定部分照射活性光線，形成光固化部的曝光工序；以及

將所述光固化部以外的未曝光部除去的顯影工序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜的霧度為0.01～0.9％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜的霧度為0.01～0.8％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜的霧度為0.01～0.7％。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜中所含的長(zhǎng)徑大于或等于5μm的粒子和凝聚物的總數(shù)小于或等于5個(gè)/mm²。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜中所含的長(zhǎng)徑大于或等于5μm的粒子和凝聚物的總數(shù)小于或等于3個(gè)/mm²。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜中所含的長(zhǎng)徑大于或等于5μm的粒子和凝聚物的總數(shù)小于或等于1個(gè)/mm²。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜具有含有粒子的樹脂層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述粒子在含有所述粒子的樹脂層中含有0.01～50質(zhì)量％。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的抗蝕劑圖案的形成方法，含有所述粒子的樹脂層的層厚為0.01～5μm。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述樹脂層的層厚為0.05～3μm。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述樹脂層的層厚為0.1～2μm。

13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的抗蝕劑圖案的形成方法，含有所述粒子的樹脂層所含有的粒子的粒徑小于5μm。

14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述樹脂層為包含2層的2層支撐膜。

15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述樹脂層為包含3層的多層支撐膜。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述樹脂層的最外層均為含有粒子的層。

17.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜的厚度為5～200μm。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜的厚度為8～100μm。

19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜的厚度為10～80μm。

20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述支撐膜的厚度為12～60μm。