[發明專利]一種摻氟預制棒的制備方法在審
| 申請號: | 201510055374.8 | 申請日: | 2015-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN104556672A | 公開(公告)日: | 2015-04-29 |
| 發明(設計)人: | 張佳琦;高亞明;龐璐;梁小紅;潘蓉;衣永青 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第四十六研究所 |
| 主分類號: | C03B37/012 | 分類號: | C03B37/012 |
| 代理公司: | 天津中環專利商標代理有限公司 12105 | 代理人: | 王鳳英 |
| 地址: | 300220*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 預制 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及光纖制備工藝,特別涉及一種摻氟預制棒的制備方法。
背景技術
石英芯摻氟包層光纖是激光傳輸的重要器件,廣泛應用在醫療,航天,通信和核工業等領域。對它的要求是在工作波長處損耗低、芯徑大,以便與激光進行耦合。國外是采用POD(等離子外沉積)技術來制備這種類型光纖的,它有一個微波等離子體發生器,其導出頭靠近一根旋轉的石英芯棒,要參加化學反應并沉積生長在石英芯棒表面上的SiCl4、O2和F等化學物料被引導通過該噴頭,形成等離子體,而最終以SiO2+SiF4的形式沉積生長在石英芯棒表面上,在沉積過程中,該噴頭沿石英芯棒的軸向移動,移動到一端后又返回來,重新開始,這樣SiO2等玻璃物料就一層一層的生長在石英芯棒的表面上,形成逐層生長,越長越厚,待預制件的芯徑比達到設計要求的數值后,生長即告結束,然后對制成的光纖預制件進行光纖,該光纖結構即為石英芯摻氟包層結構。而國內采用的MCVD(氣象沉積)技術在用摻氟管套管石英棒時,因為溫度過高,使摻氟管的氟泄漏出來,因此采用傳統工藝不容易制備摻氟預制棒。
發明內容
本發明的目的是解決現有工藝存在的技術問題,特別研發一種摻氟預制棒的制備方法。該方法采用MCVD技術,用摻氟基底管套管石英芯棒制備摻氟預制棒,以滿足生產摻氟光纖的需求。
本發明采取的技術方案是:一種摻氟預制棒的制備方法,其特征在于,采用加入隔離層法制備摻氟預制棒,包括以下步驟:將摻氟基底管固定在玻璃車床上,與大、小支撐管進行接管、拋光和脹管過程,然后在摻氟基底管上沉積隔離層;將生長隔離層的摻氟基底管和接管后的石英芯棒拼裝在一起,然后固定在玻璃車床上進行縮管、套管和退火過程,得到光纖預制棒;最后將光纖預制棒進行熱處理,然后固定在磨床上進行研磨,剝離掉最外面的石英基底管材料。
本發明所述在進行接管過程時,通入2000ml/min的氧氣作為保護氣體,將摻氟基底管與大、小支撐管熔融燒結在一起。
本發明所述在進行拋光過程時,通入O2和SF6氣體,拋光3~10次,車床轉速40±5rpm,燈速140±5mm/min,溫度1900~2000℃。
本發明所述在進行脹管過程時,脹管溫度1900~2200℃,壓力0.5~4乇。
本發明所述對摻氟基底管沉積隔離層時,通入SiCl4氣體,流量為50~300ml/min,車床轉速降為35±5rpm,溫度1900~2200℃,沉積層數5~30,壓力0.5~2.5乇。
本發明所述在進行縮管過程時,通入2000ml/min的氧氣進行保護,溫度1900~2000℃,當石英芯棒與摻氟基底管內壁間的間距小于10mm時,停止縮管。
本發明所述在進行套管過程時,車床轉速30±5rpm,降低燈速至5~20mm/min,溫度2100~2300℃。
本發明所述在進行退火過程時,每次退火降低溫度100℃,燈速500mm/min,退火10次。
本發明所述光纖預制棒熱處理溫度為1100℃,恒溫時間為0.5h。
本發明所述將光纖預制件固定在磨床上進行研磨,先用千分表進行光纖預制件兩端的對中檢測,并通過調整磨床兩頭的卡盤進行對中,使光纖預制件相對于磨床的兩個卡頭同心。
本發明的有益效果是:采用該方法加工的光纖預制棒,具有設計靈活、制備簡單的優點,可以根據不同的摻氟濃度設計隔離層的厚度,根據不同芯棒的直徑,設計摻氟基底管的內徑,可以自由調節摻氟層和芯徑的比例。
附圖說明
圖1為采用本方法制備過程中的光纖預制棒剖面圖。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例對本發明作進一步說明:
實施例1:參照圖1,本實施例的制備方法包括以下步驟:
(1)將ΔN為0.28,外徑30mm的摻氟基底管與兩端的大、小支撐管進行酸水處理,將摻氟基底管4卡緊在MCVD玻璃車床的后夾頭上,分別將大支撐管1和小支撐管5卡裝在MCVD玻璃車床的前夾頭上,向反應管內通入2000ml/min的氧氣作為保護氣體,將氫氧焰炬點燃,把摻氟基底管與大、小支撐管熔融燒結在一起。
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