[發明專利]蒙脫土基ZSM?5分子篩復合材料及其制備方法有效
| 申請號： | 201510044730.6 | 申請日： | 2015-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN104556133B | 公開（公告）日： | 2017-02-22 |
| 發明（設計）人： | 王有和;閻子峰;歷陽;許本靜;劉欣梅;喬柯;白鵬;高雄厚;張忠東 | 申請（專利權）人： | 中國石油天然氣集團公司;中國石油大學（華東） |
| 主分類號： | C01B39/38 | 分類號： | C01B39/38 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司11127 | 代理人： | 姚亮 |
| 地址： | 100007 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 蒙脫土基 zsm 分子篩 復合材料 及其 制備 方法 | ||
1.蒙脫土基ZSM-5分子篩復合材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)蒙脫土有機化改性
將無機蒙脫土溶解在水中，形成無機蒙脫土水溶液；
再將有機插層劑溶解在水中，形成插層劑水溶液；
混合無機蒙脫土水溶液與有機插層劑水溶液，伴隨機械攪拌在60～90℃下加熱0.5～3小時，形成有機蒙脫土水溶液；蒙脫土、有機插層劑、水按質量比為1∶0.1～0.8∶40～80配比；
所述的無機蒙脫土水溶液進行純化、改性、干燥研磨，得到有機改性蒙脫土；
(2)制備蒙脫土基ZSM-5分子篩復合材料
SiO2、Na2O、H2O按照摩爾比為8～11∶0.8～2.0∶350～650配成液相反應混合物；
向液相反應混合物中加入有機改性蒙脫土，按照重量比，有機改性蒙脫土：SiO2和Na2O總量為0.5～5∶1，混合均勻后，調節體系pH值為9～14；
在晶化溫度110℃～200℃之間，晶化時間24～120小時之間進行晶化反應；
反應結束后進行冷卻、抽濾、洗滌、干燥、焙燒，即得到蒙脫土基ZSM-5分子篩復合材料；其中焙燒溫度為550℃，時間為6小時。
2.根據權利要求1所述的蒙脫土基ZSM-5分子篩復合材料的制備方法，其特征在于，所述的有機插層劑為季銨鹽中的一種。
3.根據權利要求2所述的蒙脫土基ZSM-5分子篩復合材料的制備方法，其特征在于，所述的有機插層劑為四丙基溴化銨、四丙基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四乙基溴化銨中的一種。
4.根據權利要求1到3任一項所述的蒙脫土基ZSM-5分子篩復合材料的制備方法，其特征在于，所述的無機蒙脫土為鈣基蒙脫土或鈉基蒙脫土。
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