[發明專利]一種具有形狀記憶的聚合物納米復合材料的制備方法

有效

• 申請號: 201510043909.X
• 申請日: 2015-01-28
• 公開（公告）號: CN104610698B
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發明（設計）人: 李曉燕;王小娟;王遠雯;史晨杰;鄒華;姜發平;陸臻;王斯佳
• 申請（專利權）人: 上海理工大學
• 主分類號: C08L53/02
• 分類號: C08L53/02;C08L67/04;C08L51/00;C08K9/04;C08K3/34
• 代理公司: 上海瑞澤律師事務所31281
• 代理人: 寧芝華

1.一種具有形狀記憶的聚合物納米復合材料的制備方法，其特征在于：將聚苯乙烯-聚乙烯/丁烯-聚苯乙烯三嵌段共聚物SEBS與聚己內酯PCL通過熔融共混的方法，制備聚合物形狀記憶復合材料，通過添加接枝馬來酸酐SEBS-g-MA、納米有機蒙脫土OMMT對聚合物形狀記憶復合材料進行改性，增強SEBS與PCL的相容性，達到控制聚合物納米復合材料的形狀記憶、形變恢復能力；具體包括以下步驟：

步驟1，將SEBS和填充油按照質量比1:1的比例均勻混合，并放置24小時，得到充油SEBS；

步驟2，按照質量比取步驟1制備的充油SEBS，與聚己內酯PCL共混；添加接枝馬來酸酐共聚物SEBS-g-MA和納米有機蒙脫土OMMT，攪拌均勻，得到預混合樣品；

步驟3，將步驟2制備所得的預混合樣品放入轉矩流變儀的密煉腔中，在溫度195℃，轉速120rpm的環境中進行熔融共混15min；

步驟4，將步驟3制備獲得的樣品在熱壓機中熱壓成型，熱壓工藝條件為150℃，5MPa預壓1min，再增壓力至12MPa壓制5min，后冷卻保壓2min，制得厚度為2mm的形狀記憶納米復合材料樣品。

2.根據權利要求1所述的具有形狀記憶的聚合物納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述步驟2中PCL的分子量為80000。

3.根據權利要求1所述的具有形狀記憶的聚合物納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述步驟2中PCL的用量為預混樣品總質量的30％，SEBS-g-MA的用量為預混樣品總質量的5％。

4.根據權利要求1所述的具有形狀記憶的聚合物納米復合材料的制備方法，其特征在于：所述步驟2中所用的OMMT的用量為預混樣品總質量的1％～5％。