[發(fā)明專利]一種降低氮化鎵基電子器件外延應(yīng)力的離子注入改善型襯底在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510038542.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-01-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105895672A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-08-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅睿宏;梁智文;張國(guó)義 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/20 | 分類號(hào): | H01L29/20;H01L33/32;H01L21/02 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 523518 *** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 降低 氮化 電子器件 外延 應(yīng)力 離子 注入 改善 襯底 | ||
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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