[發(fā)明專利]熔融金屬噴出裝置以及熔融金屬噴出方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510037359.0
• 申請(qǐng)日: 2015-01-26
• 公開（公告）號(hào): CN105097611A
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 倉持敬一;新飼雅芳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/60
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 何立波;張?zhí)焓?/td>

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種熔融金屬涂敷裝置以及熔融金屬噴出裝置，特別是涉及一種將熔融的金屬噴出，并通過噴出的金屬進(jìn)行部件的接合的熔融金屬噴出裝置。

背景技術(shù)

在向半導(dǎo)體元件(例如Si芯片、SiC芯片等)的電極涂敷熔融金屬，而與基座板、銅等的引線框架等進(jìn)行接合的用途中，使用熔融金屬噴出裝置。通常的熔融金屬噴出裝置例如具有玻璃制的壓力缸和軸。通過在將壓力缸的前端浸泡在熔融的金屬中的狀態(tài)下提起軸，從而使壓力缸內(nèi)形成負(fù)壓而將熔融金屬吸入。然后，在使壓力缸的前端移動(dòng)至規(guī)定的位置之后，通過按壓軸而對(duì)壓力缸內(nèi)進(jìn)行加壓，將熔融金屬噴出(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

近年來，伴隨著從Si芯片向SiC芯片的過渡，半導(dǎo)體元件的小型化得到發(fā)展。由于半導(dǎo)體元件實(shí)現(xiàn)小型化，因此接合部分的面積也變小。伴隨著接合部分的小面積化，每一個(gè)部位的接合所需要的熔融金屬的量也變少。即，要求使每一次的熔融金屬的噴出量(熔融金屬的供給量)更加穩(wěn)定化。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2001－194456號(hào)公報(bào)

現(xiàn)有的熔融金屬噴出裝置無法將軸插入至玻璃制的壓力缸前端部。因此，存在下述問題，即，在將熔融金屬壓出時(shí)，有時(shí)熔融金屬殘留在壓力缸前端部，導(dǎo)致每一次的噴出量不穩(wěn)定。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明就是為了解決上述課題而提出的，其目的在于提供一種使每一次的熔融金屬的噴出量穩(wěn)定的熔融金屬噴出裝置以及熔融金屬噴出方法。

本發(fā)明所涉及的熔融金屬噴出裝置，其將熔融的熔融金屬噴出，并通過噴出的該熔融金屬進(jìn)行部件的接合，該熔融金屬噴出裝置具有：筒狀的壓力缸，在其內(nèi)部收容熔融金屬；軸，其在壓力缸內(nèi)部滑動(dòng)，按壓熔融金屬；以及加熱器，其設(shè)置在壓力缸的周圍，將熔融金屬加熱而保持熔融狀態(tài)，壓力缸具有：軸滑動(dòng)部，其用于使軸進(jìn)行滑動(dòng)；以及噴嘴，其內(nèi)徑比軸滑動(dòng)部小，從前端的開口部噴出熔融金屬，熔融金屬噴出裝置還具有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使壓力缸以噴嘴的延伸方向?yàn)樾D(zhuǎn)中心而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，對(duì)噴嘴的內(nèi)壁施加有防止熔融金屬附著的涂層。

另外，本發(fā)明所涉及的熔融金屬噴出方法，其使用熔融金屬噴出裝置，該熔融金屬噴出裝置將熔融的熔融金屬噴出，并通過噴出的該熔融金屬進(jìn)行部件的接合，該熔融金屬噴出方法的特征在于，熔融金屬噴出裝置具有：筒狀的壓力缸，在其內(nèi)部收容熔融金屬；軸，其在壓力缸內(nèi)部滑動(dòng)，按壓熔融金屬；以及加熱器，其設(shè)置在壓力缸的周圍，將熔融金屬加熱而保持熔融狀態(tài)，壓力缸具有：軸滑動(dòng)部，其用于使軸進(jìn)行滑動(dòng)；以及噴嘴，其內(nèi)徑比軸滑動(dòng)部小，從前端的開口部噴出熔融金屬，該熔融金屬噴出裝置還具有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使壓力缸以噴嘴的延伸方向?yàn)樾D(zhuǎn)中心而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，對(duì)噴嘴的內(nèi)側(cè)表面施加有防止熔融金屬附著的涂層，熔融金屬噴出方法具有：工序(a)，在該工序中，在噴嘴內(nèi)部保持有熔融金屬的狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使壓力缸旋轉(zhuǎn)；以及工序(b)，在該工序中，使軸朝向噴嘴方向滑動(dòng)，從噴嘴的開口部壓出熔融金屬，同時(shí)進(jìn)行工序(a)和工序(b)。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明所涉及的熔融金屬噴出裝置以及熔融金屬噴出方法，在壓力缸前端的噴嘴內(nèi)部，施加有防止熔融金屬附著的涂層，因此，能夠減小壓力缸與熔融金屬的接觸面積。在噴出熔融金屬時(shí)，通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使噴嘴旋轉(zhuǎn)，由此，減小噴嘴與熔融金屬的接觸阻力。在減小了噴嘴與熔融金屬的接觸阻力的狀態(tài)下，能夠通過使軸下降而對(duì)壓力缸內(nèi)部進(jìn)行加壓，從而使熔融金屬噴出而不殘留在壓力缸內(nèi)。由此，熔融金屬的噴出量的波動(dòng)變小，因此，能夠高精度地控制熔融金屬的噴出量。

附圖說明

圖1是表示實(shí)施方式1所涉及的熔融金屬噴出裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖2是說明實(shí)施方式1所涉及的熔融金屬噴出裝置與接合部的關(guān)系的圖。

圖3是說明實(shí)施方式1所涉及的熔融金屬噴出裝置的噴出動(dòng)作的圖。

圖4是說明實(shí)施方式1所涉及的熔融金屬噴出裝置的吸入動(dòng)作的圖。

圖5是表示實(shí)施方式2所涉及的熔融金屬噴出裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖6是表示實(shí)施方式2所涉及的熔融金屬噴出裝置的其他結(jié)構(gòu)的圖。

圖7是表示實(shí)施方式3所涉及的熔融金屬噴出裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖8是表示實(shí)施方式4所涉及的熔融金屬噴出裝置的噴嘴的結(jié)構(gòu)的圖。

圖9是表示實(shí)施方式5所涉及的熔融金屬噴出裝置的噴嘴的剖面的圖。

標(biāo)號(hào)的說明