[發(fā)明專利]EUV用防塵薄膜組件、使用其的EUV用組合體以及組合方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510028801.3
• 申請日: 2015-01-20
• 公開（公告）號: CN104793460B
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山田素行;秋山昌次
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F1/24
• 分類號: G03F1/24;G03F1/62
• 代理公司: 北京泛華偉業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280
• 代理人: 王勇;李科

1.一種EUV用防塵薄膜組件，由將防塵薄膜用網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體進(jìn)行補(bǔ)強(qiáng)了的防塵薄膜結(jié)構(gòu)體以及對該防塵薄膜結(jié)構(gòu)體進(jìn)行保持的防塵薄膜組件框架構(gòu)成的EUV用防塵薄膜組件，網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體，由于EUV光在掩模面反射，2次通過EUV用防塵薄膜組件，所以在晶片上被投影為2種的影像，其特征在于，為了使所述影像的濃淡對比度比減小至25％以下，間隔值為0.3mm～1.0mm。

2.一種EUV用組合體，包括由防塵薄膜被用網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體補(bǔ)強(qiáng)的防塵薄膜結(jié)構(gòu)體以及將該防塵薄膜結(jié)構(gòu)體加以保持的防塵薄膜組件框架構(gòu)成的EUV用防塵薄膜組件和帶有具有側(cè)邊的掩模，所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體，由于EUV光在掩模的面反射，2次通過EUV用防塵薄膜組件，所以在晶片上投影形成2種影像，其特征在于，通過對防塵薄膜組件的間隔值進(jìn)行設(shè)定，使網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體的影像的濃淡對比度比減小至25％以下，同時，構(gòu)成網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體的任意的網(wǎng)格邊和掩模的至少一個側(cè)邊形成的投影角度比0°大并且在30°以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求2的EUV用組合體，其特征在于，對使網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體的影像的濃淡對比度比減小至25％以下的任意的所述間隔值進(jìn)行設(shè)定，以使?jié)獾瓕Ρ榷缺葹闃O小。

4.根據(jù)權(quán)利要求2的EUV用組合體，其特征在于，所述間隔值以及投影角度，被設(shè)定為使?jié)獾瓕Ρ榷缺葹闃O小。

5.根據(jù)權(quán)利要求2的EUV用組合體，其特征在于所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)狀單位的形狀優(yōu)選為四角形或正六角形。

6.一種EUV用組合體的組合方法，所述組合體包括，由防塵薄膜被用網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體補(bǔ)強(qiáng)的防塵薄膜結(jié)構(gòu)體以及將該防塵薄膜結(jié)構(gòu)體加以保持的防塵薄膜組件框架構(gòu)成的EUV用防塵薄膜組件和帶有具有側(cè)邊的掩模，所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體，由于EUV光在掩模的面反射，2次通過EUV用防塵薄膜組件，在晶片上投影形成2種影像，其特征在于，包括，對防塵薄膜組件的間隔值進(jìn)行使網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體的影像的濃淡對比度比減少至25％以下的設(shè)定工序，以及將所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)體在相對于掩模投影角度為比0°大且30°以下的范圍內(nèi)進(jìn)行轉(zhuǎn)動，直至濃淡對比度比為極小的設(shè)定工序。