[發(fā)明專利]無電鍍金液有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510028302.4 | 申請日: | 2015-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN105862016B | 公開(公告)日: | 2018-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李臺鎬;韓德坤;成泰賢 | 申請(專利權(quán))人: | 韓國明全化工有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/44 | 分類號: | C23C18/44 |
| 代理公司: | 上海和躍知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31239 | 代理人: | 胡艷 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍金 | ||
1.一種無電鍍金液,包含:
去離子水,
水溶性金化合物,
絡(luò)合劑,
pH值緩沖劑,
pH值控制劑,
還原劑,和
鈀離子催化劑活化劑;
其中所述鈀離子催化劑活化劑是由下面的化學(xué)式1所代表的酰胺化合物:
其中R'和R"是CH3、C2H5、CH2OH或C2H4OH,且n為在2至5范圍內(nèi)的整數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述水溶性金化合物選自氰化金鉀、氰化金鈉、亞硫酸金鈉、和亞硫酸金銨。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所含的所述水溶性金化合物,以溶解于去離子水的金含量計(jì),在1至2g/L范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述絡(luò)合劑選自羥基乙二胺三乙酸、四羥基乙二胺、二羥基亞甲基二胺二乙酸、乙二胺四乙酸(EDTA)、乙二胺四丙酸、丙三醇、亞氨基二乙酸、二乙三胺五乙酸(DTPA)、N,N-二羧基甲基甘氨酸(NTA)、羥乙基甘氨酸、甘氨酸、檸檬酸、丙二酸、乙二酸、酒石酸、丁二酸、及其堿金屬鹽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述絡(luò)合劑的濃度為溶解于所述無電鍍金液中的金濃度的5至10倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述pH值緩沖劑選自磷酸二氫鉀、磷酸二氫鈉、四硼酸鉀、四硼酸鈉、和磷酸氫二鉀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中以相對于去離子水為0.1至0.5mol/L范圍內(nèi)的含量而含有所述pH緩沖劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述pH值控制劑選自磷酸、鹽酸、硫酸、氫氧化鈉、和氫氧化鉀。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中pH值用所述pH值控制劑調(diào)整到6.5至7.5的范圍。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述還原劑是選自抗壞血酸、羥胺、肼、二甲基胺硼烷、硫脲、對苯二酚、甲醛、甲酸、和甲酸鈉。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中含有相對于去離子水為0.05至2mol/L的范圍內(nèi)的所述還原劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中含有相對于去離子水為0.01至0.2mol/L范圍內(nèi)的所述酰胺化合物。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述酰胺化合物是由下面的化學(xué)式2或化學(xué)式3所代表的酰胺化合物:
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中所述無電鍍金液用于ENEPIG(無電鍍鎳/無電鍍鈀/浸金)方法。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鍍金液,其中鍍金的厚度調(diào)整到0.01至0.5μm的范圍。
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C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
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